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干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家

500℃高溫烤箱，高溫?zé)Y(jié)箱
500℃高溫烤箱、高溫?zé)Y(jié)箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)。
更新時(shí)間:2024-11-23
HMDS烤箱，HMDS真空烘箱#2023動(dòng)態(tài)已更新
hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2024-11-23
非標(biāo)無(wú)塵無(wú)氧烘箱，無(wú)氧干燥箱
非標(biāo)無(wú)塵無(wú)氧烘箱，無(wú)氧干燥箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2024-11-23
芯片高溫?zé)Y(jié)箱，500℃高溫烤箱2023已更新(每日/實(shí)時(shí))
芯片高溫?zé)Y(jié)箱，500℃高溫烤箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)
更新時(shí)間:2024-11-23
HMDS涂膠烤箱，MES接口hmds涂布機(jī)
hmds涂膠烤箱，mes接口hmds涂布機(jī)的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過(guò)hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭，從而使光阻可以很好的附著在晶圓表面。
更新時(shí)間:2024-11-23
烘氮?dú)夂嫦洌埠鏉崈艉嫦銨推薦2023測(cè)試報(bào)告
烘可在熱烘板或氮?dú)夂嫦渲羞M(jìn)行,本課題采用的熱風(fēng)烘箱為雋思氮?dú)鉂崈艉嫦，由于在鼓風(fēng)烘箱中對(duì)流烘烤將會(huì)使烘進(jìn)行的更加均勻，所以在鼓風(fēng)箱中烘的效果將會(huì)更理想。
更新時(shí)間:2024-11-23
HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)
hmds烘箱、hmds預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。
更新時(shí)間:2024-11-23
馬弗爐，高溫電阻爐
馬弗爐，高溫電阻爐是分析實(shí)驗(yàn)室樣品干法處理，冶金實(shí)驗(yàn)室做熔融實(shí)驗(yàn)，熱處理部門做退火、淬火等實(shí)驗(yàn)，以及其他需要高溫的場(chǎng)合需要的加熱輔助設(shè)備，應(yīng)用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產(chǎn)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時(shí)間:2024-11-23
堅(jiān)膜無(wú)塵烤箱，半導(dǎo)體無(wú)塵烘箱
堅(jiān)膜無(wú)塵烤箱，半導(dǎo)體無(wú)塵烘箱​用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時(shí)間:2024-11-23
無(wú)塵烘箱，100級(jí)潔凈烘箱
無(wú)塵烘箱，100級(jí)潔凈烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-11-23
烘箱，精密烘箱
烘箱，精密烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-11-23
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)
hmds烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)使用hmds（六甲基二硅氮烷）對(duì)晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn)，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。
更新時(shí)間:2024-11-23
六箱體氮?dú)夂嫦，多倉(cāng)式潔凈烘箱
六箱體氮?dú)夂嫦，多倉(cāng)式潔凈烘箱于光刻膠固化、堅(jiān)膜烘烤、治具干燥、芯片封裝、碳化硅襯底生產(chǎn)、外延片烘烤、墨點(diǎn)烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能
更新時(shí)間:2024-11-23
無(wú)塵烘箱，不銹鋼無(wú)塵烤箱
無(wú)塵烘箱，不銹鋼無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-11-23
精密烘箱，300度精密烘箱
精密烘箱，300度精密烘箱具有安全性好，潔凈度高,節(jié)能效果優(yōu)，保溫性佳，溫度均勻性好。大多應(yīng)用于烘烤光學(xué)光纖,精密電子及醫(yī)藥器材等欲烘烤物品的烘干或溫升處理等。廣泛使用于pcb、電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、印刷、噴涂、玻璃、陶瓷等的精密烘烤、高溫去應(yīng)力、老化、烘干、定型、加工等.
更新時(shí)間:2024-11-23
無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧烘箱#2023價(jià)格已更新
無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無(wú)氧）、潔凈環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時(shí)間:2024-11-23
硅片充氮烘箱，可程式充氮烤箱
硅片充氮烘箱，半導(dǎo)體充氮烤箱​是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結(jié)構(gòu)。工作室內(nèi)溫度采用智能式數(shù)顯溫度控制儀進(jìn)行自動(dòng)控制p.i.d調(diào)節(jié),數(shù)顯時(shí)間控制,并設(shè)有斷路及超溫報(bào)警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達(dá)350℃-400℃并且可加裝氮?dú)膺M(jìn)出口
更新時(shí)間:2024-11-23
固化烤箱，PI、BCB膠固化烤箱2023已更新(每日/實(shí)時(shí))
固化烤箱，pi、bcb膠固化烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為：膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分，膛體腔，內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì)，風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成，膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2024-11-23
HMDS涂膠機(jī)，HMDS涂膠烤箱
hmds涂膠機(jī)，hmds涂膠烤箱處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。效率高,液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。更加環(huán)保和安全，hmds是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽
更新時(shí)間:2024-11-23
hmds真空鍍膜機(jī)，光刻hmds鍍膜烤箱
hmds真空鍍膜機(jī)，光刻hmds鍍膜烤箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2024-11-23
固化烤箱，PI、BCB膠固化烤箱
固化烤箱，pi、bcb膠固化烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為：膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分，膛體腔，內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì)，風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成，膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2024-11-23
電熱鼓風(fēng)烤箱
電熱鼓風(fēng)烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-11-23
真空無(wú)氧烘箱，無(wú)氧化真空烤箱
真空無(wú)氧烘箱，無(wú)氧化真空烤箱將高純度氮?dú)獬淙肟鞠鋬?nèi)部，從而置換腔內(nèi)空氣降低氧濃度，來(lái)防止部分物料在高溫環(huán)境下加速氧化的現(xiàn)象？鞠涑槿≌婵蘸螅淙氲?dú)，再抽取真空，多次循環(huán)后可以確？鞠涞墓ぷ魇姨幱跓o(wú)氧的狀態(tài)，避免活性較強(qiáng)的物料在高溫有氧的環(huán)境下被氧化而損壞。
更新時(shí)間:2024-11-23
HMDS真空烘箱，可充HMDS氣體真空烘箱
hmds真空烘箱采用微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和pid自整定功能，控溫精度高。可根據(jù)不同試驗(yàn)條件改變?cè)O(shè)定程序，溫度，真空度及試驗(yàn)時(shí)間。
更新時(shí)間:2024-11-23
工業(yè)烘箱，工業(yè)無(wú)塵烘箱
工業(yè)烘箱，工業(yè)無(wú)塵烘箱用于半導(dǎo)體制造中預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、ic封裝、治具烘烤、光刻膠固化等；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2024-11-23
電線電纜真空干燥箱，線纜絕緣吸水真空試驗(yàn)箱
電線電纜真空干燥箱，線纜絕緣吸水真空試驗(yàn)箱符合gb/t2951.13-2008等標(biāo)準(zhǔn)的要求。特別適合于對(duì)干燥熱敏性、易分解、易氧化物質(zhì)和復(fù)雜成分物品進(jìn)行快速高效的干燥處理。
更新時(shí)間:2024-11-23
PI真空固化烤箱，水冷卻PI固化爐
pi真空固化烤箱，水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi固化，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、mems微機(jī)電、tft/lcd等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2024-11-23
真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱
真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱兼容性：2寸-12寸/碎片兼容。低氧濃度：可達(dá)20ppm氧氣下實(shí)現(xiàn)真空固化。能耗低，真空狀態(tài)固化，節(jié)約了80%n₂量。無(wú)污染，腔體內(nèi)部所有材料均為316l醫(yī)用不銹鋼，無(wú)任何顆粒產(chǎn)生。
更新時(shí)間:2024-11-23
無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧烘箱
無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無(wú)氧）、潔凈環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時(shí)間:2024-11-23
晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱
晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱 潔凈度100級(jí)的潔凈熱處理hepa過(guò)濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。最小限度控制風(fēng)速距離。
更新時(shí)間:2024-11-23
高溫?zé)o氧烘箱520L
高溫?zé)o氧烘箱520l用于精密電子元件、銀膠固化、pi/bcb/bpo膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、晶圓退火電子陶瓷材料防氧化烘干、測(cè)試的特殊工藝要求。
更新時(shí)間:2024-11-23
高溫高濕試驗(yàn)箱，芯片老化箱
高溫高濕試驗(yàn)箱，芯片老化箱適用于適用于電工、電子、儀器儀表及其它產(chǎn)品、零部件及材料在高低溫交變濕熱環(huán)境下貯存、運(yùn)輸、使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn)； 是各類電子、電工、電器、塑膠等原材料和器件進(jìn)行耐寒、耐熱、耐濕、耐干性試驗(yàn)及品管工程的可靠性測(cè)試設(shè)備； 特別適用于光纖、lcd、晶體、電感、pcb、電池、電腦、手機(jī)等產(chǎn)品的耐高溫、耐低溫、耐潮濕循環(huán)試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-11-23
精密無(wú)氧化烘箱，無(wú)氧烤箱#2023動(dòng)態(tài)已更新
精密無(wú)氧化烘箱，無(wú)氧烤箱在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時(shí)間:2024-11-23
精密循環(huán)風(fēng)烤箱，精密高溫烘箱2023動(dòng)態(tài)已更新《新品/推薦》
精密循環(huán)風(fēng)烤箱，精密高溫烘箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。 也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-11-23
厭氧烘箱，厭氧固化烘箱
厭氧烘箱，厭氧固化烘箱用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2024-11-23
高溫充氮潔凈烘箱，無(wú)塵充氮烤箱
高溫充氮潔凈烘箱，無(wú)塵充氮烤箱是一種耐高溫，可以達(dá)到和工作場(chǎng)所同樣的潔凈等級(jí)的烘箱。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2024-11-23
高溫真空無(wú)氧烤箱JS-GYZF040,雋思無(wú)氧烘箱
高溫真空無(wú)氧烤箱js-gyzf040,雋思無(wú)氧烘箱用于pi/bcb/lcp/pbo光刻膠固化、厭氧烘烤、mems生產(chǎn)、高溫退火等工藝，適用于半導(dǎo)體、電子、新材料等研發(fā)，生產(chǎn)。常用于科研單位，高校實(shí)驗(yàn)室，工廠生產(chǎn)線等場(chǎng)所。
更新時(shí)間:2024-11-23
智能型HMDS烘箱，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)@索引2023訂購(gòu)說(shuō)明
hmds 預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds 處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2024-11-23
半導(dǎo)體百級(jí)潔凈烘箱，芯片百級(jí)烤箱
半導(dǎo)體百級(jí)潔凈烘箱，芯片百級(jí)烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-11-23
潔凈充氮烘箱，無(wú)塵室充氮烤箱
潔凈充氮烘箱，無(wú)塵室充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。充氮烤箱可滿足電子電器、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達(dá)350℃-400℃并且可加裝氮?dú)膺M(jìn)出口。
更新時(shí)間:2024-11-23
Class1000烤箱，千級(jí)無(wú)塵烤箱
class1000烤箱，千級(jí)無(wú)塵烤箱用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。 應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求。
更新時(shí)間:2024-11-23
無(wú)氧烘箱，防氧化烤箱
無(wú)氧烘箱在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。
更新時(shí)間:2024-11-23
電子無(wú)塵烤箱，電子潔凈烘箱
電子無(wú)塵烤箱，電子潔凈烘箱應(yīng)用于晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅芯片。在硅芯片上可加工制作成各種電路組件結(jié)構(gòu)，而成為有特定電性功能之ic產(chǎn)品。一般是芯片電路設(shè)計(jì)-晶圓的制造-晶圓的測(cè)試-晶圓的切割研磨-芯片的封裝-成品芯片的測(cè)試。在整個(gè)工藝中晶圓烘烤工藝也很重要，且需要多次烘烤。
更新時(shí)間:2024-11-23
真空無(wú)氧化烤箱（BCB厭氧固化烤烘箱）
真空無(wú)氧化烤箱（bcb厭氧固化烤烘箱）是將涂敷bcb或pi的襯底放入真空無(wú)氧烘箱中，通入n2→真空置換后，采用多升溫保溫的方式，在規(guī)定的時(shí)間從室溫升至一溫度階段，并在該溫度段保溫1-2h，再在規(guī)定的時(shí)間從一溫度升至第二溫度階段，并在該溫度段保溫一定的時(shí)間；隨后增通過(guò)輔助的降溫系統(tǒng)（水冷和風(fēng)冷），將退火爐的溫度降至80度左右，完成固化。
更新時(shí)間:2024-11-23
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用
hmds預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用它成功地將產(chǎn)品表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2024-11-23
熱風(fēng)烘箱，精密熱風(fēng)烤箱@推薦2023測(cè)試報(bào)告
精密熱風(fēng)烤箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結(jié)構(gòu)、材質(zhì)強(qiáng)度、保溫、循環(huán)風(fēng)道等均設(shè)計(jì)精良，且外形美觀、操作方便？諝庋h(huán)系統(tǒng)為水平式循環(huán)送風(fēng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性，均勻度可達(dá)±1.5％，當(dāng)門開、關(guān)動(dòng)作引起擾動(dòng)時(shí)，可借此送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)迅速回復(fù)操作狀態(tài)溫度值。
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