真空器皿產(chǎn)品及廠家
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
更新時(shí)間:2024-11-20
pi真空烘箱用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于pi固化，bcb固化，pbo固化，lcp纖維熱處理。
更新時(shí)間:2024-11-20
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