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介質(zhì)阻擋放電直接電離質(zhì)譜技術(shù)，即DBDI直接電離質(zhì)譜技術(shù)，是基于介質(zhì)阻擋放電機理的直接電離質(zhì)譜離子化技術(shù)。

    介質(zhì)阻擋放電（DBD）是把絕緣介質(zhì)插入放電空間的一種非平衡態(tài)氣體放電，分為細(xì)絲模式的DBD、均勻模式的DBD。DBD是一種非熱等離子體，穩(wěn)定性高，特別適合于工業(yè)化應(yīng)用，在大型臭氧發(fā)生器、等離子體顯示屏、材料表面處理、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

    直接電離質(zhì)譜技術(shù)是一種新型質(zhì)譜技術(shù)，相比傳統(tǒng)質(zhì)譜聯(lián)用技術(shù)，具有檢測速度快、檢測成本低、使用門檻低等優(yōu)勢。近年來，日本島津、美國沃特世、PerkinElmer等全球多家質(zhì)譜公司都有開發(fā)直接電離質(zhì)譜技術(shù)，目前國際上公認(rèn)的直接電離質(zhì)譜技術(shù)有原位解吸電噴霧電離（DESI）、實時直接分析（DART）、ASAP、DBDI等。DESI、DART直接電離質(zhì)譜技術(shù)進(jìn)入市場早，應(yīng)用相對廣泛。

    根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2024-2028年中國介質(zhì)阻擋放電直接電離質(zhì)譜技術(shù)（DBDI）行業(yè)市場深度調(diào)研與發(fā)展趨勢預(yù)測研究報告》顯示，相比于DESI、DART直接電離質(zhì)譜技術(shù)，DBDI直接電離質(zhì)譜技術(shù)具有靈敏度更高、電離范圍更寬、離子化效率更高、分子離子碎片更少、無需化學(xué)溶劑等優(yōu)勢，在現(xiàn)場快速檢測質(zhì)譜儀、便攜式直接電離質(zhì)譜儀、小型質(zhì)譜儀研發(fā)方面應(yīng)用潛力大。

離子源是可使測試樣品從液態(tài)中性分子轉(zhuǎn)化為氣態(tài)帶電離子的裝置，是質(zhì)譜儀的核心部件。質(zhì)譜儀是一種高精尖科學(xué)儀器，下游應(yīng)用范圍廣，但由于離子源研制技術(shù)壁壘高，全球質(zhì)譜儀市場主要被美國、德國、日本等國家的企業(yè)所壟斷。由于缺乏原創(chuàng)性質(zhì)譜技術(shù)、企業(yè)研發(fā)能力差，長期以來，我國質(zhì)譜儀需求依賴進(jìn)口�！�

新思界行業(yè)分析人士表示，傳統(tǒng)質(zhì)譜儀占地面積大、操作要求苛刻，隨著分析檢測需求升級、集成化技術(shù)發(fā)展，質(zhì)譜儀正不斷從大型質(zhì)譜儀向小型質(zhì)譜儀、便攜式質(zhì)譜儀轉(zhuǎn)變。DBDI直接電離質(zhì)譜技術(shù)在小型質(zhì)譜儀研發(fā)方面應(yīng)用潛力大，未來發(fā)展空間廣闊，同時DBDI直接電離質(zhì)譜技術(shù)是我國企業(yè)自主研發(fā)的質(zhì)譜技術(shù)，其轉(zhuǎn)化和應(yīng)用有助于提高國產(chǎn)質(zhì)譜儀競爭力。