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優(yōu)質(zhì)信息推廣廣告

氮化硅薄膜窗口-X射線用

產(chǎn)品屬性本產(chǎn)品采購屬于商業(yè)貿(mào)易行為

  • 市場(chǎng)價(jià)格: 電議
  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 更新時(shí)間: 2024/4/10 16:58:06
  • 生產(chǎn)地: 美洲
  • 訪問次數(shù): 1469次
  • 公司名稱: 上海昭沅儀器設(shè)備有限公司

企業(yè)檔案

企業(yè)類型:經(jīng)銷商

公司地址:上海市國(guó)權(quán)路525號(hào)副樓303

主營(yíng)產(chǎn)品:臺(tái)階儀、輪廓儀、光學(xué)顯微鏡、電鏡、納米微操縱系統(tǒng)、TEM用薄膜窗口,同步輻射用氮化硅薄膜窗口、石墨烯

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

氮化硅薄膜窗
隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn),如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展,軟X射線顯微成像技術(shù)在全世界范圍內(nèi)得到迅速發(fā)展。在此領(lǐng)域,需要應(yīng)用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。

詳細(xì)內(nèi)容

公司簡(jiǎn)介

氮化硅薄膜窗
氮化硅薄膜窗是X-射線顯微實(shí)驗(yàn)必備用品!
氮化硅薄膜窗
    隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn),如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展,軟X射線顯微成像技術(shù)在全世界范圍內(nèi)得到迅速發(fā)展。在此領(lǐng)域,需要應(yīng)用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。
 
氮化硅薄膜的性質(zhì):
1.  硬度大,致密性好,表面光滑,機(jī)械強(qiáng)度大,穩(wěn)定性好;
2.  對(duì)軟X射線有很好的穿透性,對(duì)可見光是透明的。
    氮化硅膜可用作軟X射線接觸顯微術(shù)的襯底支持膜,成像后直接進(jìn)行透射電鏡觀察;可作為同步輻射光束線中的污染阻擋層;可以成為制作各種光學(xué)波帶片的襯底薄膜;可以作為投影顯微術(shù)靶的支持膜;可以用作真空窗口,在同步輻射軟X射線顯微術(shù)中,隔開光源超高真空與顯微術(shù)光學(xué)元件高真空部分;在活樣品室設(shè)計(jì)中,隔開高真空的軟X射線部分與大氣壓,使樣品在大氣中曝光,這對(duì)于研究生物活細(xì)胞具有重大意義。
 
  
 
RISUN氮化硅薄膜窗特點(diǎn)
    RISUN的X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的透射率,主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時(shí)承載樣品。 X-射線越軟(能量越低),穿透能力越差,所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作(即薄膜與光束成一定角度)時(shí),也需要較薄的薄膜窗口,便于X射線更好地穿透。
 
1.  RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成;
2.  RISUN提供的氮化硅窗選用低應(yīng)力氮化硅(0-250MP)薄膜,和ST氮化硅薄膜相比,低應(yīng)力產(chǎn)品更堅(jiān)固耐用,成為用戶的;
3.  RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域,例如,X-射線(上海光源透射成像/能譜線站)、TEM、SEM、IR、UV等。 
透光度
使用透射(光學(xué))顯微鏡時(shí),完全可以透過薄膜窗進(jìn)行觀察。但薄膜窗的厚度有一定限制,否則其透光度會(huì)明顯下降。對(duì)于X射線用窗口,500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果,對(duì)于軟X射線(例如碳邊吸收譜),100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶。 
 
真空適用性
薄膜厚度
窗口面積
壓力差
≥50 nm
≤1.0 x 1.0 mm
1 atm
≥100 nm
≤1.5 x 1.5 mm
1 atm
≥200 nm
≤2.5 x 2.5 mm
1 atm
 
 
表面平整度
    RISUN氮化硅薄膜窗口具有穩(wěn)定的表面平整性(粗糙度小于1nm),對(duì)于X射線應(yīng)用沒有任何影響。 
溫度特性
    RISUN氮化硅薄膜窗口是耐高溫產(chǎn)品,能夠承受1000℃高溫,非常適合在其表面利用CVD方法生長(zhǎng)各種納米材料。
化學(xué)特性
    RISUN氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。
RISUN氮化硅薄膜窗規(guī)格
單窗口系列

 

薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
型號(hào)
50-200nm
1.5X1.5mm
5.0X5.0mm
RISUN
50-200nm
2.5X2.5mm
7.5X7.5mm
50-200nm
3.0X3.0mm
10X10mm
50-200nm
5.0X5.0mm
10X10mm

 

硅片厚度:200um、381um、525um;
 
陣列系列

 

薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
型號(hào)
50nm
2x2陣列,1.5X1.5mm
5.0X5.0mm
RISUN
50nm
3x3陣列,1.5X1.5mm
7.5X7.5mm
100nm
4x4陣列,1.5X1.5mm
10X10mm

 

硅片厚度:200um、381um、525um;
 
定制系列
    RISUN也可以根據(jù)用戶需求提供不同膜厚、鍍層(如:Au)的定制服務(wù),100片起訂。
本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品,不建議用戶重復(fù)使用;本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。
 
 
 
 
 
應(yīng)用簡(jiǎn)介
1. 同步輻射X射線(紫外或極紫外)透射成像或透射能譜應(yīng)用中是不可或缺的樣品承載體。
2. 耐高溫、惰性襯底,適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境,利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜(薄膜直接沉積在窗口上)。
3. 生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后,窗口具有很好的親水性。
4. 耐高溫、惰性襯底,也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。
5. 適合作為膠體、氣凝膠、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體。

定制服務(wù):本公司接受特殊規(guī)格的產(chǎn)品預(yù)訂,價(jià)格從優(yōu)。


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