隨著各種軟X射線光源的出現(xiàn),如同步輻射、激光等離子體等高亮度的X射線源的發(fā)展,軟X射線顯微成像技術(shù)在全世界范圍內(nèi)得到迅速發(fā)展。在此領(lǐng)域,需要應(yīng)用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。
薄膜厚度 | 窗口面積 | 壓力差 |
≥50 nm | ≤1.0 x 1.0 mm | 1 atm |
≥100 nm | ≤1.5 x 1.5 mm | 1 atm |
≥200 nm | ≤2.5 x 2.5 mm | 1 atm |
薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 型號(hào) |
50-200nm | 1.5X1.5mm | 5.0X5.0mm | RISUN |
50-200nm | 2.5X2.5mm | 7.5X7.5mm | |
50-200nm | 3.0X3.0mm | 10X10mm | |
50-200nm | 5.0X5.0mm | 10X10mm |
薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 型號(hào) |
50nm | 2x2陣列,1.5X1.5mm | 5.0X5.0mm | RISUN |
50nm | 3x3陣列,1.5X1.5mm | 7.5X7.5mm | |
100nm | 4x4陣列,1.5X1.5mm | 10X10mm |
關(guān)鍵詞:氮化硅薄膜窗口 X射線用