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物理氣相沉積設備產品及廠家

有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
概述針對有機材料沉積進行了優(yōu)化多達 12 個 lte 信號源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達 4 個熱蒸發(fā)源基板快門自動基板、掩膜存儲和更換
更新時間:2024-08-15
磁控濺射鍍膜設備
kurt j. lesker company lab line uhv 濺射平臺為磁控濺射沉積應用而設計。為滿足 uhv 濺射工藝需求而定制的腔室設計、具有高編程、負載鎖定功能的行業(yè)佳軟件控制系統(tǒng)以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新設計提供的一些優(yōu)勢。®
更新時間:2024-08-15
AL-1 無針孔 薄膜沉積設備
al-1 無針孔 薄膜沉積設備通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應沉積薄膜，實現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數(shù)量。
更新時間:2024-08-15
濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
kurt j. lesker company® nano 36™ 是我們優(yōu)化的入門沉積系統(tǒng)。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。nano 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 kjlc 獲得的質量。nano 36 與以下沉積技術兼容：
更新時間:2024-08-15
有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
kurt j. lesker company 的 spectros™ 150 是基于主力 spectros 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。spectros平臺在全球擁有100多臺設備，是一種成
更新時間:2024-08-15
電子束蒸發(fā)鍍膜設備
其強大的先進研究工具設計用于適應特定的薄膜應用，如 gmr、cms、半導體、納米器件、光子學和光伏獨特的系統(tǒng)設計可以配置為真正的超高真空性能經過現(xiàn)場測試和驗證的設計
更新時間:2024-08-15
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺
kurt j. lesker company pro line pvd 200 是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實現(xiàn) 8 英寸晶圓轉移、多達 8 個濺射陰和 eklipse 高控制軟件。pvd 系列在全球擁有 500 多臺設備，是一種成熟、堅固且多功能的設計，由 pvd 75 和 200 平臺組成。pro line pvd 200 建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統(tǒng)基礎壓力和抽空
更新時間:2024-08-15
沉積和金屬化系統(tǒng)
kurt j. lesker company mini spectros™是基于主力spectros平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。spectros平臺在全球擁有100多臺設備，是一種成熟、堅固
更新時間:2024-08-15
PVD-間歇式滾筒系列
kurt j. lesker company pvd-batch drum系列由兩種標準尺寸（pvd 200 和 pvd 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當顆粒物是一個主要問題時，水平配置優(yōu)先。水平和垂直配置均可用于 3d 涂層的雙軸旋轉。通過每次運行的沉積面積來衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統(tǒng)。
更新時間:2024-08-15
部件鍍膜設備
本裝置是在真空狀態(tài)中向產品外部涂層非導體的設備,在真空內產品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.
更新時間:2024-08-15
部件鍍膜設備
它實現(xiàn)高大量生產性的高真空基本sputter - 可以生產1batch/900ea以上的產品，以沉積及sputter工序的佳化，提升emi莫品質 - 證明“沉積-sputter-沉積-sputter”的工序連接的優(yōu)秀性（zero defects化），因精密的機器設置及優(yōu)秀的設備耐用性保持，維護周期長，價格便宜。
更新時間:2024-08-15
部件鍍膜設備
本裝置是在真空狀態(tài)下在產品外部涂層非導電體的coating設備，由真空內產品做著自傳，公轉,并能保持一定的膜厚度.
更新時間:2024-08-15
卷對卷濺射鍍膜系統(tǒng)
本裝置是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u film的gold(au)做sputtering的設備.
更新時間:2024-08-15
8英寸離子束沉積（IBD）設備
ganister™ a離子束沉積設備，是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發(fā)的用產品，在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有著重要的應用。該設備采用濺射成膜，靶材選
更新時間:2024-08-14
物理氣相沉積PVD
veeco 的單靶點 nexus pvdi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應用提供了大的靈活性。nexus pvd 的加工精度為 200 毫米，具有先進的工藝能力、無與倫比的均勻性和多種沉積模式
更新時間:2024-08-14
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成，體現(xiàn)立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環(huán)境，其余部分（含低溫泵抽系統(tǒng)）處在相對要求較低超凈環(huán)境。本系統(tǒng)配有一套電子槍及電源，可滿足在al，ni，ag，pt，pd，mo,cr和ti等多種金屬
更新時間:2024-08-13
離子束沉積設備
適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積數(shù)據存儲制造商可以借助 veeco 的第三代 nexus? 離子束沉積 （ibd） 系統(tǒng)大幅提高 80gb/in2 傳感器的產量，并滿足未來 tfmh 設備制造的需求。
更新時間:2024-08-13
高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等域。
更新時間:2024-08-13
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：系統(tǒng)主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設備用途：脈沖激光沉積(pulsed laser deposition，簡稱pld)是新近發(fā)展起來的一項技術，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它獨特的優(yōu)點和潛力逐漸被人們認識和重視。該項技術在生成復雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結果。
更新時間:2024-08-13
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：可廣泛應用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)先的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設備用途：用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大院校、科研院所進行薄膜材料的科研。
更新時間:2024-08-13
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備？蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備？蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備？蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備特點：本設備是一個鍍膜平臺，可把
更新時間:2024-08-13
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成，體現(xiàn)立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝
更新時間:2024-08-13
NEXUS IBD-LDD 離子束沉積設備
光掩模制造需要高水平的顆？刂，同時沉積復雜的多層薄膜結構。veeco 的 nexus ibd-ldd 離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，veeco 已成功服務于光掩模市場，多年的學習造就了當先進的系統(tǒng)。ibd-ldd 系統(tǒng)是當 euv 掩模坯料上的鉬 （mo） 和硅 （si） 多層沉積和釕 （ru） 封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。
更新時間:2024-08-13
高真空蒸發(fā)鍍膜設備
ec400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設備，為薄膜制備與研究設計。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)，以及先進的plc+觸摸屏自動控制系統(tǒng)。該設備采用一體化設計，將主機與控制單元緊密結合，不僅操作簡便，而且結構緊湊，占地面積小，非常適合實驗室環(huán)境使用。
更新時間:2024-08-13
多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
ms450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是一種高真空環(huán)境下的先進鍍膜設備，廣泛應用于材料科學、納米技術、電子工程等多個域。
更新時間:2024-08-13
蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：該設備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其
更新時間:2024-08-13
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產品概述：該設備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對接。設備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件
更新時間:2024-08-13
科瓦普物理氣相沉積平臺
covap pvd 平臺為許多過程應用提供了緊湊、經濟且仍然強大的解決方案。為需要安全可靠的工具的實驗室而設計，該工具可在緊湊的占地面積內生產可重復的高質量薄膜。沉積源被隔離，以減少熱效應和交叉污染。covap pvd平臺配備了一整套可拆卸的腔室屏蔽層，以確保腔室易于清潔和維護。在腔室打開時，源、功率和氣動壓力被切斷，確保了高別的安全性。它可以集成到手套箱中，也可以在獨立配置中選擇.
更新時間:2024-08-12
箱式涂布機
箱式涂布機是一種靈活的、與潔凈室兼容的涂布平臺，能夠從小批量生產到大批量生產，能夠主動建模和校正膜厚不均勻性、材料產量和產量。您的研究目標、生產需求和/或應用終目標將告知如何裝備您的箱式涂布機。它非常適合各種應用，包括金屬化、光學鍍膜、傳感和銦凸塊鍵合制造。
更新時間:2024-08-12
AE EvoVac 物理氣相沉積平臺
evovac pvd 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強。evovac 物理氣相沉積平臺是我們具可定制性的單腔室平臺，因此它可以配備用于特定應用的工具，也可以成為適合您實驗室中各種獨特用戶的多功能多源沉積主力。
更新時間:2024-08-12
AE物理氣相沉積平臺
nexdep pvd平臺在經濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預算。您的研究目標、生產需求和/或應用終目標將告知如何裝備您的 nexdep pvd 平臺。
更新時間:2024-08-12
離子槍
通過采用結合空心陽離子槍和磁控管離子槍的新型離子槍，可實現(xiàn)了超精細結構的薄膜。
更新時間:2024-08-12
阿莫德物理氣相沉積平臺
angstrom engineering 的 amod pvd 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)該 pvd 平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應更多的工藝增強功能。您的研究目標、生產需求和/或應用終目標將告知如何裝備您的 amod pvd 平臺。
更新時間:2024-08-12
8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
evictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)加熱基座設計，具備良好的溫度均勻性，高溫厚鋁工藝連續(xù)作業(yè)無累溫
更新時間:2024-06-21
鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
evictor al pvd 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)先進的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率
更新時間:2024-06-21
8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)
polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力
更新時間:2024-06-21
12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)磁控濺射源和腔室結構的設計有效提高靶材利用率
更新時間:2024-06-21
高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)
概述：沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)好的軟件控制系統(tǒng)；4英寸鍍膜區(qū)域內片內膜厚不均勻性：≤±2.5%，8英寸鍍膜區(qū)域內片內膜厚不均勻性：≤±3.5%，測定標準以ti靶材，濺射200——500nm厚薄膜，邊緣去5mm，隨機5點取樣測定為準。
更新時間:2024-06-04

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