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其他產(chǎn)品及廠家

MaskTrack Pro 掩膜版清洗系統(tǒng)
掩模的完整性對高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。masktrack pro 掩膜清洗處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對 193i 1x half-pitch dpt、紫外光刻 (euvl) 和納米壓印光刻 (nil)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)大限度地提高光掩模性能。
更新時(shí)間:2024-08-13

最新產(chǎn)品

熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)(PH計(jì)) 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑