gnp poli-762是高通用性12英寸(300mm) cmp工藝而開(kāi)發(fā),也為先進(jìn)晶圓制造商和耗材供應(yīng)商設(shè)計(jì)的。gnp poli-500廣泛用于耗材供應(yīng)商,襯底制造商和芯片開(kāi)發(fā)商的8“(200mm)高研發(fā)評(píng)估。gnp poli-400l是為先進(jìn)的化學(xué)機(jī)械拋光工藝開(kāi)發(fā)應(yīng)用,如mems, as以及化學(xué)機(jī)械拋光特性研究。該系統(tǒng)擁有成本低,占地面積小。
更新時(shí)間:2024-08-14