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干法清洗設(shè)備產(chǎn)品及廠家

UV-300H 紫外線臭氧清洗機(jī)
uv-300h是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過(guò)滑動(dòng)抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、sic、gaas、inp）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2024-08-14
UV-1 紫外線臭氧清洗機(jī)
uv-1是一款緊湊型臺(tái)式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺(tái)加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、gaas、inp、sic）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2024-08-14
PC-300 等離子清洗設(shè)備
pc-300是一種平行板式等離子清洗機(jī)，用于清洗樣品表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染。該工藝室允許用戶安裝多個(gè)電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的各種產(chǎn)品的批量處理。
更新時(shí)間:2024-08-14
這款紫外臭氧清洗機(jī)，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設(shè)計(jì)，便捷高效，質(zhì)量有保障，業(yè)服務(wù)，是科研與實(shí)驗(yàn)的理想伙伴。
更新時(shí)間:2024-08-13
等離子清洗機(jī)
lebo science的pt500真空等離子清洗機(jī)，作為plasma treatment equipment，具備以下顯著特點(diǎn)：設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式操控設(shè)計(jì)，便于在科研院所等實(shí)驗(yàn)環(huán)
更新時(shí)間:2024-08-13
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，其模塊化控制系統(tǒng)使用新一代處理器，基于 linux 平臺(tái)作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面 (gui)。因此，可支持手動(dòng)和全自動(dòng)控制過(guò)程，并且通過(guò) mfc 控制過(guò)程氣體。在此過(guò)程中，所有參數(shù)都被寫(xiě)入程序并存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)庫(kù)中。與此同時(shí)，當(dāng)?shù)膲毫χ、氣體流量值、輸出值等都顯示在顯示屏上，如果當(dāng)值偏離設(shè)定值，則會(huì)觸發(fā)相應(yīng)的警報(bào)。
更新時(shí)間:2024-08-13
ASx 系列清洗設(shè)備
suss microtecs asx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)提供了先進(jìn)的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺(tái)能夠滿足無(wú)損加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。
更新時(shí)間:2024-08-13
等離子清洗和加熱機(jī)
由德國(guó)unitemp研發(fā)的等離子清洗和加熱機(jī)，大零件裝載面積：305 mm x 305 mm（大零件高度為 25 mm）。
更新時(shí)間:2024-08-13
大氣式等離子清潔系統(tǒng)
plasmapen™ 是pva tepla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
更新時(shí)間:2024-08-13
條形等離子清潔系統(tǒng)
80 plus 條形等離子清潔系統(tǒng)為半導(dǎo)體加工而開(kāi)發(fā)，可支持手動(dòng)及自動(dòng)操作，兩種操作方式均簡(jiǎn)單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個(gè)裝卸站都可支持不同的配置。即便沒(méi)有裝卸站，也可將其集成到生產(chǎn)線中。
更新時(shí)間:2024-08-13
CIF 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)
cif 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)設(shè)備在材料學(xué)，光學(xué)，電子學(xué)，醫(yī)藥學(xué)，環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、活化、改性等目的。cif推出的新一代等離子體清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡(jiǎn)便，性價(jià)比更高，使用成本更低，實(shí)用性更強(qiáng)，更容易維護(hù)。
更新時(shí)間:2024-06-04
CIF手套箱用等離子清洗機(jī)
cif推出vgb-p系列手套箱用等離子清洗設(shè)備，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡(jiǎn)單方便，性能穩(wěn)定，實(shí)用性強(qiáng)，容易維護(hù)。
更新時(shí)間:2024-06-04
CIF透射電鏡樣品桿清洗機(jī)
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源設(shè)計(jì)，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時(shí)間:2024-06-04
CIF掃描電鏡等離子清洗機(jī)
cif 掃描電鏡（sem）等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源設(shè)計(jì)，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于sem或fib等電鏡腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/div> 更新時(shí)間:2024-06-04

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