橢偏儀產品及廠家
德國 sentech 低成本高效益的光譜橢偏儀senpro,senpro橢偏儀是橢偏儀應用的智能解決方案。它具有角度計，入射角度步進值5°。操作簡單，快速測量和直觀的數(shù)據(jù)分析相結合，以低成本效益高的設計來測量單層和多層膜的厚度和光學常數(shù)。
更新時間:2024-11-21
sendira紅外光譜橢偏儀,振動光譜的特點是傅立葉紅外光譜儀ftir。測量紅外分子振動模的吸收譜帶，分析長分子鏈的走向和薄膜的組成。紅外光譜橢偏儀適用于測量導電膜的電荷載流子濃度。
更新時間:2024-11-21
senduro 全自動光譜橢偏儀,包括基于測量處方的僅在幾秒鐘內即可完成的快速數(shù)據(jù)分析。橢圓儀的設計是為了便于操作：放置樣品，自動樣品對準，自動測量和分析結果。在全自動模式下使用光譜橢偏儀非常適合于質量控制和研發(fā)中的常規(guī)應用。
更新時間:2024-11-21
spectraray/4:光譜橢偏測量/分析軟件，senduro®全自動光譜橢偏儀包括基于測量處方的僅在幾秒鐘內即可完成的快速數(shù)據(jù)分析。橢圓儀的設計是為了便于操作：放置樣品，自動樣品對準，自動測量和分析結果。在全自動模式下使用光譜橢偏儀非常適合于質量控制和研發(fā)中的常規(guī)應用。
更新時間:2024-11-21
激光橢偏儀 se 400adv，激光橢偏儀se 400adv測量透明薄膜的厚度和折射率指數(shù)，具有測量速度、亞埃級別的厚度精度和折射率測定的精度。多角度測量允許使用激光橢偏儀se 400adv表征吸收膜特征。
更新時間:2024-11-21
se 500adv 激光橢偏儀激光橢偏儀se 500adv，橢偏儀se 500adv將激光橢偏儀和反射儀結合在一個系統(tǒng)中。這種組合允許零度反射法用于快速薄膜分析，并且允許透明膜以激光橢偏儀的亞埃精度將可測量的厚度范圍擴展到25埃米，從而明確地確定厚度。
更新時間:2024-11-21
激光橢偏儀se 400adv pv se 400adv pv是全球化使用的標準儀器，用于測量pv單層防反射涂層的厚度和折射率指數(shù)。特別用于表征單晶和多晶硅太陽能電池上的sinx 防反射單層膜的性能。該儀器用于sinx涂層和薄鈍化層sio2和al2o3的質量控制。
更新時間:2024-11-21
se 800 pv 激光橢偏儀 sentech設計了se 800 pv，用于表征由sinx/sio2、sinx/siny或sinx/al2o3組成的多層鈍化膜和防反射涂層。分析了單晶和多晶硅太陽電池的折射率指數(shù)、吸收和膜厚。在配方模式下進行復雜的測量，速度快，操作容易。
更新時間:2024-11-21
多功能性設計，配置靈活，具備多角度測量能力，可方便實現(xiàn)在線與離線配置切換。是一款針對單層和多層薄膜進行簡單，快速，精確表征和分析的工具。
更新時間:2024-10-21
一鍵式全自動快速橢偏儀 auto se——新型的全自動薄膜測量分析工具。采用工業(yè)化設計，操作簡單，可在幾鐘內完成全自動測量和分析，并輸出分析報告。是用于快速薄膜測量和器件質量控制理想的解決方案。
更新時間:2024-10-21
三維掃描儀又名光學抄數(shù)機，它采用光電投射單元將結構光面光投射在物體表面,結合計算機視覺技術、光電傳感技術、圖象處理技術、以及軟件控制等實現(xiàn)對物體面形一次性快速測量,采用旋轉物體或者掃描頭,變換掃描視角,基于多視角點云標記點的自動拼接技術,可完成物體全方位360度掃描.
更新時間:2024-09-13
semilab擁有全球zui優(yōu)秀的電學和光學表征技術，產品被廣泛應用于光伏、半導體、科研以及平板測試領域。憑借先進的測試設備，為客戶的生產和質量監(jiān)控提供一套完整的測試方案，在行業(yè)中始終處于領xian地位。
更新時間:2024-08-26
se2000全光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術，采用先進的旋轉補償器，結合光纖li技術將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀，測得線偏振光經(jīng)過樣品反射后的偏振態(tài)變化情況，并通過樣品光學模型的建立，計算出單層或多層薄膜結構的厚度、折射率和消光系數(shù)，實現(xiàn)精確、快速、穩(wěn)定的寬光譜橢偏測試。
更新時間:2024-08-26
sentech ser 800 pv光譜橢偏儀符合perc、topcon、hjt和鈣鈦礦技術等新型太陽能電池技術的研發(fā)要求。它操作簡單，具有高測量靈敏度、去偏振校正和特殊的聚光光學元件，使其成為在粗糙樣品表面上進行光伏應用的理想工具
更新時間:2024-08-14
unecs系列是可以高速、高精度測量薄膜膜厚和折射率的分光橢偏儀。采用的測量方式，實現(xiàn)了高速測量和機體的小型化。我們的產品陣容包括便攜式，自動式和對應真空環(huán)境的設備內置式類型。
更新時間:2024-08-14
偏鎢酸銨水合物英文名稱：ammonium metatungstate hydratecas：12333-11-8單位：瓶貨期：2-3天偏鎢酸銨水合物100g 560
更新時間:2023-10-12
產品簡介：se-l光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀，集眾多科技專利技術，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術，配置全自動測量模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析。se-l光譜橢偏儀廣泛應用于半導體薄膜結構：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、pzt膜，激光二極管gan和algan、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學工程、塊狀材料分析等領域。
更新時間:2023-08-23
產品簡介：me-l是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等？蓱糜诎雽w薄膜結構，半導體周期性納米結構，新材料，新物理現(xiàn)象研究，平板顯示，光伏太陽能，功能性涂料，生物和化學工程，塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。雙旋轉補償器(drc)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素；配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優(yōu)質硬件模塊，軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷；豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力。
更新時間:2023-08-23
產品簡介：se-vm 是一款高精度快速測量光譜橢偏儀？赏ㄟ^橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視化調平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計。
更新時間:2023-08-23
產品簡介：se-pv光伏橢偏儀是一款光伏行業(yè)領域專用型光譜橢偏儀，針對光伏行業(yè)絨面單晶硅或多晶硅太陽能電池表面減反膜測量定制開發(fā)，快速實現(xiàn)薄膜物性表征分析。光伏橢偏儀廣泛應用于光伏絨面單晶硅或多晶硅表面減反膜橢偏測量應用,實現(xiàn)單層到多層薄膜的薄膜、光學常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析。
更新時間:2023-08-23
產品簡介：光譜橢偏儀se-glass 是一款針對玻璃蓋板行業(yè)定制的專用型光譜橢偏儀，針對玻璃蓋板光學鍍膜行業(yè)通過集成微光斑+可視化調平系統(tǒng)儀消除透明基底背反測量定制開發(fā)，快速實現(xiàn)玻璃蓋板上多層薄膜物性表征分析。光譜橢偏儀se-glass 廣泛應用于玻璃基底山減反膜、調光膜、導電膜等薄膜的膜厚，光學常數(shù)測量，完美適用于玻璃蓋板、光學薄膜等鍍膜檢測應用。
更新時間:2023-08-23
產品簡介：全自動橢偏檢測機臺作為一種小型橢偏集成機臺，通過整體高度模塊化，電、氣路集成技術，實現(xiàn)不同橢偏測量模塊在線/離線式整體橢偏測量解決方案。全自動橢偏檢測機臺廣泛應用于科學研究中各種各向同性，異性薄膜材料的膜厚、光學常數(shù)以及一維、二維納米光柵的結構表征；工業(yè)領域新型光電器件行業(yè)所涉及的薄膜（配向膜、光刻膠、ito、發(fā)光薄膜、封裝薄膜）全片離線化快速掃描測量。
更新時間:2023-08-23
產品簡介：se-mapping光譜橢偏儀是一款可定制化mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術，配置全自動mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。se-mapping光譜橢偏儀廣泛應用oled，led，光伏，集成電路等工業(yè)應用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。
更新時間:2023-08-23
產品簡介：se-ve 是一款超高性價比、快速測量光譜橢偏儀，緊湊集成設計，使用簡便，可一鍵快速測量表征各式光學薄膜膜厚以及光學常數(shù)等信息。高性價比光學橢偏測量解決方案，緊湊集成化設計，極致用戶操作體驗，一鍵快速測量分析，人機交互設計，使用便捷，豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力，廣
更新時間:2023-08-23
日本photonic lattic 通過以自研的偏振傳感器為核心的新一代全檢膜厚mapping橢偏儀，可以做到1000點/分鐘，6寸產品快可以在3分鐘內完成，不僅如此，me-210-t針對透明基板也可測量。
更新時間:2023-01-03
solarbio 偏釩酸鈉 常用鹽別名：釩酸鈉；sodium vanadate(v)。分子式：navo3分子量：121.93cas＃：13718-26-8外觀：白色結晶或淺黃色結晶性粉末特性：溶解性：
更新時間:2022-05-01
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更新時間:2020-09-27
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更新時間:2020-09-17
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更新時間:2020-07-05
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更新時間:2020-07-05
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更新時間:2020-07-05
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更新時間:2020-07-01
specel-2000是一款操作便捷的臺式光譜橢偏儀，主要用于測量平整和半透明的樣品，例如硅晶圓片和玻璃片等薄膜。 橢圓偏光技術是一種非接觸式、非破壞性，以光學技術測量表面薄膜特性的方法。其檢測原理是：當一束偏振光經(jīng)過物體表面或界面時，其偏振極化狀態(tài)會被改變。而橢偏儀就是通過探測樣品表面的反射光，來測量此改變（即反射光和入射光的振幅及相位的改變量），以決定表面特性薄膜的光學常數(shù)（n、k值）及膜厚。 specel-2000測試系統(tǒng)主要包括：寬帶光源、高性能線陣ccd光譜儀、導光器件、起偏器、樣品測試臺、檢偏器、光學增強元件及測量分析軟件。 specel-2000適合于探測薄膜厚度、光學常數(shù)以及材料微結構特性，通常應用于有薄膜存在的地方，其應用
更新時間:2020-06-15
上海到張家界物流公司 從上海貨運到張家界需要多少錢？貨運公司哪家好?推薦張家界物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風雨無阻，公司專業(yè)承接；
更新時間:2020-06-05
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更新時間:2020-06-05
器簡介： 20多年技術積累和發(fā)展的結晶,是一款高準確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機型。即使在透明的基底上也能對超薄膜進行最精確的測量。采用pem相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比,能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。
更新時間:2020-05-26
新型的全自動薄膜測量分析工具，工業(yè)化設計，操作簡單，可在幾秒鐘內完成全自動測量和分析，并輸出分析報告。是用于快速薄膜測量和器件質量控制理想的解決方案。
更新時間:2020-05-26
20多年技術積累和發(fā)展的結晶,uvisel是一款高準確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機型。即使在透明的基底上也能對超薄膜進行最精確的測量。采用pem相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比,能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比
更新時間:2020-05-26
智能型多功能橢偏儀smart se采用多功能性設計，配置靈活，具備多角度測量能力，可方便實現(xiàn)在線與離線配置切換。是一款針對單層和多層薄膜進行簡單，快速，精確表征和分析的工具。
更新時間:2020-05-26
鍍膜或刻蝕的過程中，實時監(jiān)測樣品膜的膜厚以及光學常數(shù)（n,k）變化。產品特點：將激發(fā)和探測頭引入生產設備，可實現(xiàn)：· 動態(tài)模式:實時監(jiān)測膜厚變化· 光譜模式：監(jiān)測薄膜的界面和組分技術參數(shù)：
更新時間:2020-05-26
這種光子晶體探測器型的橢偏儀是有日本photonic lattice公司首創(chuàng)，并應用到橢偏儀的測試中。日本photonic lattice公司在光子晶體的研究和制造領域領先世界，由此開發(fā)出的光子晶體探測器型橢偏儀具有測試速度快、測量準確、免維護、價格低廉等特點已經(jīng)在光學薄膜、半導體薄膜、有機薄膜等領域有著廣泛的應用。該橢偏儀可快速準確測量薄膜的厚度和折射率的分布。
更新時間:2020-05-21
em12-pv用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。
更新時間:2020-05-18
es03多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數(shù)（如，厚度）和物理參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k），也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。 es03系列適合于對樣品進行實時和非實時的檢測。
更新時間:2020-05-18
ess01是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量推出的波長掃描式、高精度自動變入射角度光譜橢偏儀，此系列儀器波長范圍覆蓋紫外、可見、近紅外到遠紅外。
更新時間:2020-05-18
empro-pv用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。empro-pv融合多項量拓科技專利技術，采用一體化樣品臺技術，兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品，并實現(xiàn)二者的輕松轉換。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡單安全。
更新時間:2020-05-18
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