光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
1、設(shè)備的用途：設(shè)備中發(fā)光源的激光輻射類(lèi)別檢測(cè)、輻射量、伴隨輻射等參數(shù)的檢測(cè)；2、依據(jù)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：《gb7247.1-2012》、《iec60825-1：2007》
更新時(shí)間:2024-11-21
設(shè)備的用途：相機(jī)鏡頭焦距、各種光學(xué)零件、部件及光學(xué)系統(tǒng)的像質(zhì)研究及光學(xué)基本量的測(cè)定。
更新時(shí)間:2024-11-21
全自動(dòng)激光檢測(cè)分析儀符合標(biāo)準(zhǔn)《iec60825-1:2007》《gb7247.1-2012》《gb9706.20-2000》,用于醫(yī)療器械中醫(yī)用激光得分類(lèi)檢測(cè)、激光輻射檢測(cè)、伴隨輻射檢測(cè)、允許照射量檢測(cè)、輻射量檢測(cè)等。采用觸摸屏控制和計(jì)算機(jī)軟件雙操作平臺(tái)，兩者可兼容操作也可獨(dú)立操作。
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西安航天基地信捷iem300紅光治療儀檢測(cè)設(shè)備光譜測(cè)試系統(tǒng)依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy/t1496-2016、yy0669-2008和yy0901-2013,是一款為光譜治療設(shè)備如紅光治療設(shè)備、嬰兒光治療設(shè)備、紫外治療等設(shè)備光學(xué)性能評(píng)估而設(shè)計(jì)的一款檢測(cè)設(shè)備。
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西安信捷ecr900醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能檢測(cè)裝置是我公司依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy0068.1-2008和yy1298-2016研發(fā)設(shè)計(jì)的一款用于檢測(cè)醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)成像性能的高精度、高效率、多功能、全自動(dòng)的檢測(cè)儀器。
更新時(shí)間:2024-11-21
yy1081-2011西安信捷clt800醫(yī)用內(nèi)窺鏡冷光源檢測(cè)系統(tǒng)產(chǎn)品設(shè)計(jì)依據(jù)醫(yī)藥行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《yy 1081—2011醫(yī)用內(nèi)窺鏡 內(nèi)窺鏡供給裝置 冷光源》,主要用于
更新時(shí)間:2024-11-21
ecr900醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能檢測(cè)儀依據(jù)“yy 0068.1-2008 “醫(yī)用內(nèi)窺鏡 硬性?xún)?nèi)窺鏡 第1部分：光學(xué)性能及測(cè)試方法”標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)試要求，用于腹腔鏡、氣管鏡等多種常用內(nèi)窺鏡的光學(xué)性能測(cè)試。適用于內(nèi)窺鏡生產(chǎn)制造廠商對(duì)于產(chǎn)品的品控與設(shè)計(jì)驗(yàn)證，檢測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)于內(nèi)窺鏡產(chǎn)品的質(zhì)檢和監(jiān)督，科研院所對(duì)于內(nèi)窺鏡的科學(xué)研究。
更新時(shí)間:2024-11-21
1、滿足標(biāo)準(zhǔn)：《yy 1081—2011醫(yī)用內(nèi)窺鏡 內(nèi)窺鏡供給裝置 冷光源》；2、設(shè)備用途：內(nèi)窺鏡供給裝置冷光源檢測(cè)。
更新時(shí)間:2024-11-21
滿足標(biāo)準(zhǔn)：這是一款根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy0843-2011研發(fā)生產(chǎn)的一款用于測(cè)試氣腹機(jī)氣壓、流量、顯示耗氣量準(zhǔn)確性等性能的標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)設(shè)備。
更新時(shí)間:2024-11-21
滿足標(biāo)準(zhǔn)：該設(shè)備是根據(jù)yy/t 0113《牙科學(xué) 復(fù)合樹(shù)脂耐磨耗性能測(cè)試方法》標(biāo)準(zhǔn)要求設(shè)計(jì)的。設(shè)備用途：用于檢測(cè)牙科復(fù)合樹(shù)脂材料的磨耗性能。
更新時(shí)間:2024-11-21
該設(shè)備是對(duì)醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能進(jìn)行檢測(cè)的設(shè)備，是西安信捷依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)《yy 0068.1—2008》研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)的。
更新時(shí)間:2024-11-21
該設(shè)備是依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy 0068.1—2008研發(fā)設(shè)計(jì)的。主要是用于檢測(cè)醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能。
更新時(shí)間:2024-11-21
yy0763標(biāo)準(zhǔn)醫(yī)用內(nèi)窺鏡檢測(cè)裝置的檢測(cè)功能：1.內(nèi)窺鏡光纜出光角測(cè)試2.光譜透過(guò)率測(cè)定3.光能傳遞效率測(cè)定4.扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)5.短暫壓扁試驗(yàn)6.拉伸試驗(yàn)
更新時(shí)間:2024-11-21
燈和燈系統(tǒng)光生物安全檢測(cè)設(shè)備是西安信捷智能檢測(cè)科技有限公司依據(jù)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《iec 62471:2006 燈和燈系統(tǒng)的光生物安全性》和《gb/t 20145-2006 燈和燈系統(tǒng)的光生物安全性》研發(fā)設(shè)計(jì)的。
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日本dnp透射燈箱廠家總代理？哪里有日本dnp燈箱和測(cè)試卡？購(gòu)買(mǎi)dnp品牌產(chǎn)品需要找哪里？歡迎您來(lái)電聯(lián)系蘇州欣美和儀器有限公司；本公司專(zhuān)注顏色管理和攝像頭影像測(cè)試方案，提供反射和透射式燈箱以及一切測(cè)試卡，如分辨率測(cè)試卡，灰度卡，以及提供透射燈箱的燈管配件和電源變壓器等，本公司還專(zhuān)業(yè)維修修理日本dnp透射燈箱。
更新時(shí)間:2024-11-21
愛(ài)色麗標(biāo)準(zhǔn)版新款印刷密度儀exact將色彩測(cè)量和管理提升到一個(gè)新的水平。這是一個(gè)可擴(kuò)展的平臺(tái)，可根據(jù)需要升級(jí)版本，在現(xiàn)場(chǎng)將簡(jiǎn)單的密度儀升級(jí)到先進(jìn)的光譜測(cè)量?jī)x器。愛(ài)色麗標(biāo)準(zhǔn)版新款印刷密度儀，印刷商和包裝轉(zhuǎn)印商能夠真正理解、控制、管理和交流色彩，避免重印和返工。
更新時(shí)間:2024-11-21
通過(guò)使用愛(ài)色麗標(biāo)簽印刷紙品禮盒分光密度儀，印刷和包裝企業(yè)可以顯著縮短印刷準(zhǔn)備時(shí)間，提高印刷質(zhì)量，減少基材和油墨浪費(fèi)，并獲得高效的印刷運(yùn)轉(zhuǎn)。
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó)optosol r1 涂層吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，用于測(cè)量管狀或平面太陽(yáng)能吸收涂層的定向熱發(fā)射度，其基礎(chǔ)是測(cè)量來(lái)自擴(kuò)展熱源的紅外輻射的反射率操作溫度:70 - 90°c
更新時(shí)間:2024-11-21
德optosol-k3 太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，k3型發(fā)射率檢測(cè)儀由一個(gè)被加熱到70℃的發(fā)光體（作為熱輻射源）和三個(gè)對(duì)波長(zhǎng)在8-14μm范圍的光線敏感的探測(cè)器組成。 來(lái)自發(fā)光體的輻射均勻分布在用作漫射輻射源的積分球內(nèi)。檢測(cè)器以與樣品表面法線成12°的角度安裝。被測(cè)量的是由樣品反射回來(lái)的輻射。
更新時(shí)間:2024-11-21
optosol absorber control k1 太陽(yáng)能平板集熱器膜層吸收與發(fā)射率快速測(cè)量?jī)x，
更新時(shí)間:2024-11-21
trisol aaa美國(guó)oai標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)能模擬器，低成本，標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器提供高度準(zhǔn)直，均勻的光，幾乎任何材料或產(chǎn)品暴露在陽(yáng)光下長(zhǎng)時(shí)間或短時(shí)間的基本測(cè)試。根據(jù)配置，這些太陽(yáng)能模擬器的輸出功率為350w-5,000w。
更新時(shí)間:2024-11-21
tss-52,tss-100,tss-156,tss-208,tss-300美國(guó)oai太陽(yáng)能模擬器，這些模擬器,取決于配置、輸出額定350 w -5000 w。oai 3 a太陽(yáng)模擬器可以提供一個(gè)范圍的空氣質(zhì)量過(guò)濾器復(fù)制太陽(yáng)能模擬太陽(yáng)的光譜。目的探明oai透鏡和鏡像技術(shù)可以使一個(gè)廣泛的接觸區(qū)域。
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó) d&s 發(fā)射率測(cè)量?jī)x ae1/rd1，是專(zhuān)門(mén)針對(duì)測(cè)量物體的輻射率設(shè)計(jì)的，ae1測(cè)量樣品最小直徑為2.25英寸（5.7cm）？蛇x附件ae-ad1和ae-ad3探測(cè)頭能使測(cè)量樣品最小直徑為1.0英（2.54cm），可以為圓柱形表面和幾乎任何幾何形狀面需求的客戶提供定制探頭。對(duì)小直徑圓柱形面樣品測(cè)量，可以測(cè)量平行放置的多個(gè)樣品。
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)sonix 晶圓檢測(cè)設(shè)備 autowafe pro.為全自動(dòng)晶圓檢測(cè)設(shè)計(jì)的機(jī)型，主要應(yīng)用在bond wafer，mems 內(nèi)部空洞、離層檢測(cè)，tsv量測(cè)方面。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體？蓽y(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)泰克tek keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200a-scs ，加快半導(dǎo)體設(shè)備、材料和工藝開(kāi)發(fā)的探索、可靠性和故障分析研究。 業(yè)內(nèi)領(lǐng)先性能參數(shù)分析儀，提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測(cè)量。
更新時(shí)間:2024-11-21
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來(lái)實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2024-11-21
韓國(guó)ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類(lèi)型。
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó) mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類(lèi)型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
更新時(shí)間:2024-11-21
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó)mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國(guó)際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó) yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性?xún)r(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專(zhuān)用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó) sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專(zhuān)為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó)bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó)bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無(wú)破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2024-11-21
最新產(chǎn)品
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