Phenom G6 pureFEI臺式掃描電鏡Phenom飛納 標準版
產(chǎn)品性能：
第六代 Phenom Pure 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。Pure 具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
Phenom Pure 經(jīng)濟型標準版
產(chǎn)品參數(shù)
電子顯微鏡：175,000 倍
探測器：高靈敏度四分割背散射電子探測器
燈絲材料：1,500 小時 CeB6 燈絲
分辨率：優(yōu)于 10 nm
放置環(huán)境：采用業(yè)防震設(shè)計，可擺放于普通實驗室或辦公室、廠房
加速電壓：5kV 和 10kV
抽真空時間：小于 15
復納科學儀器 (上海) 有限公司 (Phenom-Scientific)，負責荷蘭飛納臺式掃描電鏡在中國市場的推廣和銷售，提供業(yè)的技術(shù)支持和測試服務，飛納中國擁有業(yè)的服務團隊，提供優(yōu)化的解決方案；飛納中國提出飛納學校 （Phenom University）的概念，為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應用工程師的進階培訓，在上海、北京、廣州設(shè)立了測試中心和售后服務中心，目飛納在中國已經(jīng)擁有超過 1500 名用戶。
DelongLVEM5臺式透射電子顯微鏡-掃描電鏡
  | Delong America Inc. 榮譽出品 • 世界唯一的小型臺式透射電子顯微鏡（TEM） • 世界唯一的多用途臺式電子顯微鏡 • 透射電鏡（TEM）、電子衍射（ED）、掃描電鏡（SEM）、掃描透射電鏡（STEM）四種成像模式 • 分辨率：2nm（TEM）；3nm（SEM） • Schottky場發(fā)射電子槍：高亮度、高對比度 • 觀察生物樣品無需染色 • 體積僅為傳統(tǒng)透射電鏡1/10，價格僅為其1/5  |
| 臺式設(shè)計：體積小巧，靈活性高，價格低 傳統(tǒng)透射電子顯微鏡體積龐大，對放置環(huán)境有著嚴格的要求，并且需要制冷機等外置設(shè)備。通常會占據(jù)整間實驗室。LVEM5從根本上區(qū)別于傳統(tǒng)電鏡，尺寸較傳統(tǒng)電鏡縮小了90%，對放置環(huán)境無嚴格要求，無需任何外置冷卻設(shè)備，可以安裝用戶所需的任意實驗室或辦公室桌面。價格僅為傳統(tǒng)電鏡的1/5，是目前性價比最高的電子顯微鏡。 |  |
|
Schottky場發(fā)射電子槍：高亮度/高對比度 電子槍類型是決定電鏡性能的重要參數(shù)。LVEM5采用特殊設(shè)計的倒置肖特基（Schottky）場發(fā)射電子槍，提供高亮度高相干的電子束。電子槍使用壽命可達2000小時以上。 傳統(tǒng)TEM多采用100kV以上電子束加速電壓，高能電子束不能區(qū)分輕材料中相近的密度和原子序數(shù)，對于輕元素樣品（C、N、O樣品，生物樣品）難以獲得好的對比度，影響圖像質(zhì)量。 LVEM5采用5kV低電壓設(shè)計，低電壓電子束對密度和原子序數(shù)有很高的靈敏度，對于小到0.005 g/cm3的密度差別仍能得到很好的圖像對比度。例如，對20nm碳膜樣品，5KV電壓下比100KV電壓下對比度提高10倍以上。而LVEM5的空間分辨率在低電壓下仍能達到2nm。 |  |
 未經(jīng)染色的老鼠心臟切片在80kV透射電鏡下得到的圖像，與LVEM5下得到的圖像。 LVEM5采用5kV低加速電壓，圖像具有更好的對比度 | |
| TEM-STEM-ED-SEM 四種成像模式 TEM模式 LVEM5是世界上唯一的臺式透射電子顯微鏡，同時也是唯一的低加速電壓（5kV）透射電鏡。同傳統(tǒng)透射電鏡（80-200kV）相比，增加了電子束與樣品的相互作用，從而提高了圖像對比度 ? 提高了圖像對比度 ? 無需重金屬染色即可觀察輕元素樣品（如生物樣品） ? 避免染色造成的假象，觀察樣品真實結(jié)構(gòu) 分辨率2nm，放大倍數(shù) 5000-202,000x，圖像采集：2048 x 2048SEM模式 掃描電鏡（SEM）模式可用于觀察任意固體樣品。在SEM模式下，LVEM5采用4分割背散射探測器，提供多個觀測角度。 普通掃描電鏡在觀察不導電樣品時，需要對樣品進行噴金、噴碳處理，以增加樣品導電性。LVEM5的另一優(yōu)點在于，無需噴金可直接觀測不導電樣品。 分辨率3nm，放大倍數(shù) 640x - 1,000,000x，圖像采集：2048 x 2048 STEM模式 在掃描透射電子顯微（STEM）模式下，電子束被聚焦到很小直徑，在樣品上進行掃描？捎糜谟^察厚度較厚的樣品或染色樣品 ED模式 電子衍射（ED）可用于確定樣品的晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶度、相組成. |  |
 TEM：細胞器  STEM：聚乙烯單晶 |  ED：ZnO單晶  SEM：水凝膠 |
| |
| | |
|
|  |
| 用戶列表 LVEM5在全球范圍已擁有麻省理工、加州大學、喬治亞理工、慕尼黑大學、曼徹斯特大學等50多個用戶。優(yōu)異的性能為LVEM5贏得了用戶的一片贊譽。 更多用戶列表請點擊  |
| 技術(shù)參數(shù)表 |
電子顯微鏡SEM掃描電鏡選擇價格
日本Hitachi在電子顯微鏡領(lǐng)域一向以引領(lǐng)技術(shù)潮流著稱：1972年發(fā)布全球第一臺場透射電子微鏡，經(jīng)過30多年的發(fā)展，日立開發(fā)、應用了大量的新技術(shù)，例如電子槍多重偏壓、浸沒式(In-lens)、半浸沒式(Semi In-lens)物鏡、E x B式探測器，電子減速功能等等。推出了一系列性能優(yōu)異、應用廣泛的新型號電鏡，受到了用戶的一致好評。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外，在北美和歐洲也擁有研究開發(fā)中心，在全球六十多個國家經(jīng)營銷售、技術(shù)支持和提供維修服務。 Hitachi公司將納米尺度呈獻給研究人員和生產(chǎn)廠商。 在成功推出S-3000系列后，推出新型S-3400N型鎢燈絲SEM，它集成了Hitachi多年開發(fā)的新技術(shù)，例如新型電子槍、大錐角物鏡、5分割半導體式背散射探頭、物鏡光闌自動合軸等等，極大地提高設(shè)備的性能和應用擴展能力、使操作和維護更加簡易。 S-4800屬于場發(fā)射SEM，它集成S-4700和S-5200型的優(yōu)點，采用新型E x B式探測器和電子束減速功能提高了圖像質(zhì)量，特別是低電壓的圖像分辨率；新型的透鏡系統(tǒng)，提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距離模式、磁性樣品模式等多種工作模式。 作為掃描電鏡配套的能譜分析儀器，我們供應日本Horiba公司或美國EDAX公司的產(chǎn)品。 S-4800場發(fā)射SEM系統(tǒng)： 1. 分辨率：二次電子（SE）成像：高真空模式：1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率：低倍模式20 ～2,000倍；高倍模式100 ～800,800倍 3. 電子槍：冷陰極場發(fā)射電子源，束流1pA–2nA；加速電壓：0.5～30 kV；3級電磁透射會聚系統(tǒng) 4. 樣品室可容納樣品左右直徑200 mm，同心樣品臺，四軸自動，可安裝EDS、冷卻臺附件 5. 移動最大范圍：X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°；傾斜T：范圍不小于-5°～70°(手動) 6. 探測器：二次電子檢測器、固體背散射電子檢測器；樣品室 IR-CCD 相機 7. 圖像掃描：不低于5120×3840像素；圖像顯示1280×960像素
CCU-010 HV_CT-010瑞士Safematic電鏡制樣設(shè)備CCU-010 HV_CT-010高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀
緊湊型、模塊化和智能化CCU-010 HV_CT-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動型的熱蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設(shè)計，變換鍍膜頭非常簡單。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理(可選項)。模塊化設(shè)計可輕松避免交叉污染。CCU-010標配膜厚監(jiān)測裝置。
特點和優(yōu)點✬高性能蒸發(fā)鍍碳和可選等離子處理✬有的自動碳源卷送設(shè)計–多達數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預✬獨特的即插即用蒸碳鍍膜模塊✬一流的真空性能和快速抽真空✬結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修✬雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
巧妙的真空設(shè)計CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀涵蓋了高的SEM，TEM和薄膜應用。特別選擇和設(shè)計的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時間。兩個附加的標準真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。
CT-010碳蒸發(fā)模塊緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹立了新標桿。將該頭插入CCU-010 HV鍍膜主體后，即可立即使用，既適合EDS噴碳應用，更適合SEM、TEM和任何需要高質(zhì)量碳膜應用的場合。CT-010使用歐洲有的、獨特且技術(shù)先的碳繩卷軸系統(tǒng)，可以進行多達數(shù)十次涂層的鍍膜，而無需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后，新的一段會自動進，用過的碳繩會掉落到方便的收集盤中。除了易于使用外，自動卷軸系統(tǒng)還允許在一個鍍膜循環(huán)內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對溫度敏感的樣品進行溫和的蒸鍍薄膜到在FIB應用中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動啟動擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，并可避免火花引起的表面不均勻。
GD-010輝光放電模塊可選的GD-010輝光放電系統(tǒng)可快速安裝，通過空氣、氬氣或其它用氣體進行表面處理，例如，使碳膜親水。本機可按順序進行碳鍍膜和輝光放電處理，無需“破”真空或更換處理頭，大地簡化了操作過程。本單元安裝到CT-010，與所有樣品臺兼容。
ET-010等離子刻蝕單元在對樣品進行鍍膜之或鍍膜之后，可選對樣品進行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜清潔樣品，增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍碳后進行等離子處理，從而對碳膜表面進行改性。
Coating-LAB軟件（可選）使用基于PC的Coating-LAB軟件，可查看包括圖表信息在內(nèi)的處理數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)包括壓力、電流、電壓、鍍膜速率和膜厚，鍍膜速率為實時曲線。便捷的軟件升和參數(shù)設(shè)置讓此智能工具更為完美。
RC-010手套箱應用的遠程控制軟件（可選）◎基于window的遠程控制軟件◎創(chuàng)建和調(diào)用配方◎?qū)崟r圖表，包含導出功能（Excel、png等）◎自動連接到設(shè)備
可選多種樣品臺CCU-010系列噴金噴碳儀提供一個直徑不小于60mm的樣品臺，該樣品臺插入到高度可調(diào)且可傾斜的樣品臺支架上？蛇x其它用的旋轉(zhuǎn)樣品臺、行星臺、載玻片樣品臺等。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀及其版本CCU-010 HV 系列高真空鍍膜系統(tǒng)為滿足電鏡樣品制備域及材料科學薄膜應用的高要求而設(shè)計。CCU-010 HV 高真空鍍碳儀采用優(yōu)質(zhì)組件和智能設(shè)計，可在超高分辨率應用中提供出色的結(jié)果。該設(shè)備是全自動抽真空和全自動操作，采用TFT 觸摸屏，配方可編程，保證結(jié)果可重復。CCU-010 HV 標配抽真空系統(tǒng)完全無油，含高性能渦輪泵和隔膜泵，均位于內(nèi)部，外部沒有笨重的旋轉(zhuǎn)泵和真空管路。這是一款尺寸合理的桌上型高真空鍍膜儀。使用無油抽真空系統(tǒng)可將鍍層中的污染或缺陷降至低。關(guān)閉時，該設(shè)備可以保持在真空下，這有效地保護了系統(tǒng)免受灰塵和濕氣的影響，并為高質(zhì)量的鍍層創(chuàng)造了快速抽真空和有利的真空條件。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀版本：CCU-010 HV高真空磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 HV高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀；CCU-010 HV高真空離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 HV高真空手套箱用鍍膜儀
CCU-010 HV 系列高真空鍍膜儀的主要亮點在于實現(xiàn)了兩大技術(shù)性突破：一是獨家采用自動碳纖維卷繞系統(tǒng)，在每次蒸發(fā)后自動推進碳纖維，在不破真空更換碳源的情況下可進行數(shù)十次的鍍碳運行，比市場上常見的單次、雙次或四次碳纖維鍍膜方式節(jié)省大量的人工操作，既適用于大多數(shù)常規(guī)鍍碳應用，也適用于超薄或超厚碳膜以及溫度敏感樣品的應用。二是將“鍍膜對樣品表面進行等離子清潔（增加附著力）+鍍膜+鍍膜后對膜層表面進行改性（比如：親水化）或刻蝕”全流程集于同一臺儀器同一次真空下完成，大大提高了鍍膜質(zhì)量，拓寬了應用范圍。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品質(zhì)”的代名詞；瑞士原廠貨源，覃思本地服務，客戶買得放心、用得省心！
FERA3 XMU/XMH超級聚焦離子束掃描電鏡，掃描電鏡分析，透射掃描電鏡
FERA3 XMU/XMH是TESCAN最新推出的一款超級聚焦離子束掃描電鏡,以高品質(zhì),完全計算機控制,用戶友好界面為基礎(chǔ)的系列產(chǎn)品。這款聚焦離子束掃描電鏡的FIB部分處理速度是普通FIB的50倍，而且具有使用方便,產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,分析高效為特點的獨創(chuàng)設(shè)計。該型號樣品臺行程大，可承受最大樣品重量甚至可達10Kg，是現(xiàn)有樣品臺可載重最大的掃描電子顯微鏡。使用于航空航天，汽車配件，發(fā)動機等事業(yè)單位和研究單位，其超大的樣品室和載重可為您帶來無可比擬的便捷，使得對一些不方便進行切割等處理的樣品的觀察成為可能。
超級聚焦離子束掃描電鏡，掃描電鏡分析，透射掃描電鏡超級聚焦離子束掃描電鏡主要特點：
國內(nèi)首家使用中文操作界面的電鏡廠商 1.系統(tǒng)實現(xiàn)了電子束和離子束的共聚焦，有氣體注入系統(tǒng); 2.可以提供五種觀察影像模式:分辨率模式;景深模式;視野模式;大視野模式,channeling模式，可以非常方便的尋找樣品位置; 3.獨創(chuàng)的低真空二次電子探測器(LVSTD). 4.紅外線樣品室內(nèi)攝像裝置,可以在測量同時觀測樣品; 5.真空系統(tǒng)采用一臺機械泵和一臺分子泵，F(xiàn)IB電子槍部分使用離子泵，抽真空速度快,在更換樣品后,三分鐘內(nèi)就可達到待測狀態(tài);并且不需要使用冷卻水冷卻. 6.采用主動式電磁減震系統(tǒng)，對環(huán)境的要求更寬泛 7.先進的軟件系統(tǒng),在數(shù)據(jù)儲存數(shù)據(jù)記錄數(shù)據(jù)打印等方面具有多種創(chuàng)新功能. 8.完善的自動功能，能幫助您更快更好的獲取圖片 9.12個以上外擴展接口,可安裝更多的附件10.可進行遠程控制 超級聚焦離子束掃描電鏡，掃描電鏡分析，透射掃描電鏡
配掃描電鏡的X射線能譜儀
| |||
| 產(chǎn)品說明、技術(shù)參數(shù)及配置 | |||
| |||
5eV輸入電壓：DC 12V/500mA計數(shù)率可達：100KCPS工作溫度：15—30℃工作濕度：≤70%掃描電鏡技術(shù)服務
詳情請登入:www.biovol.net
透射掃描電鏡檢測實驗技術(shù)服務
透射掃描電鏡檢測實驗技術(shù)服務技術(shù)服務介紹產(chǎn)品資料
透射電子顯微鏡在材料科學、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到后的成像質(zhì)量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液體樣品，通常是掛預處理過的銅網(wǎng)上進行觀察。
掃描電鏡主要用二次電子觀察形貌，成像原理如圖所示。在掃描電鏡中，電子槍發(fā)射出來的電子束，經(jīng)三個電磁透鏡聚焦后，成直徑為幾個納米的電子束。末透鏡上部的掃描線圈能使電子束在試樣表面上做光柵狀掃描。試樣在電子束作用下，激發(fā)出各種信號，信號的強度取決于試樣表面的形貌、受激區(qū)域的成分和晶體取向。設(shè)在試樣附近的探測器把激發(fā)出的電子信號接受下來，經(jīng)信號處理放大系統(tǒng)后，輸送到顯象管柵以調(diào)制顯象管的亮度。由于顯象管中的電子束和鏡筒中的電子束是同步掃描的，顯象管上各點的亮度是由試樣上各點激發(fā)出的電子信號強度來調(diào)制的，即由試樣表面上任點所收集來的信號強度與顯象管屏上相應點亮度之間是對應的。因此，試樣各點狀態(tài)不同，顯象管各點相應的亮度也必不同，由此得到的象定是試樣狀態(tài)的反映。放置在試樣斜上方的波譜儀和能譜儀是用來收集X射線，借以實現(xiàn)X射線微區(qū)成分分析的。值得強調(diào)的是，入射電子束在試樣表面上是逐點掃描的，象是逐點記錄的，因此試樣各點所激發(fā)出來的各種信號都可選錄出來，并可同時在相鄰的幾個顯象管上顯示出來，這給試樣綜合分析帶來大的方便。
技術(shù)服務內(nèi)容參數(shù)規(guī)格
| 編號 | 項目 | 價格 | 備注 |
| 1 | 掃描電鏡觀察 | 詢價 | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
| 2 | 透射電鏡觀察細胞和組織（無特殊定位） | 詢價 | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
| 3 | 電鏡觀察植物 | 詢價 | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
| 4 | 電鏡觀察細菌 | 詢價 | 我方提供試劑，每樣拍5-8張圖片 |
透射掃描電鏡檢測實驗技術(shù)服務客戶須知注意事項
電鏡標本要求
1）透射電鏡需客戶提供1mm3 左右的組織塊，取材部位要求盡量精準。
2）掃描電鏡，需客戶提供10*10*5mm大小的組織塊。
3）如為細胞，細胞數(shù)需≥106
實驗周期
20個工作日內(nèi)（具體實驗周期視實驗設(shè)計方案而異）
公司介紹創(chuàng)凌生物直致力于生命醫(yī)學和生物技術(shù)域的積累與沉淀，目創(chuàng)凌生物技術(shù)研發(fā)團隊50余人，配備了先進的分析和檢測設(shè)備，通過自主創(chuàng)新以及與國內(nèi)外的科研單位合作研發(fā)，不斷突破新技術(shù)，質(zhì)量成熟，各類產(chǎn)品和技術(shù)服務贏得了眾多科研機構(gòu)的認可。
SU5000新型熱場發(fā)射掃描電鏡哪里有賣？
產(chǎn)品介紹：
日立全新一代熱場發(fā)射掃描電鏡SU5000繼承了日立半導體行業(yè)掃描電鏡CD-SEM高穩(wěn)定性和易操作的特點，不僅具有強大的觀察分析能力，同時具有全新的操作體驗。SU5000既滿足了專業(yè)電鏡操作者對高分辨觀察和分析的需求，也滿足了電鏡初學者對高質(zhì)量圖片的需求，是一臺操作簡便且功能強大的掃描電鏡。
胡先生 158--6255 / QQ： 122-600-6936
主要特點：
? 高穩(wěn)定性熱場發(fā)射電子槍
? 全新的EM Wizard軟件，無需設(shè)置參數(shù)即可獲得高質(zhì)量圖片
? 高分辨率和強大的分析能力
? 樣品適用性強：不導電樣品直接觀察（低真空功能，10-300Pa）
? 全新的multi-finder功能，方便快捷的尋找樣品
? 附件功能強大：拉伸臺，冷熱臺，電子束曝光，紅外CCD，離子束清潔系統(tǒng)等。
EMS 25掃描電鏡冷臺
- Peltier 電制冷冷臺及二次液體冷卻
- 真空接口，具有Peltier電源，冷卻及溫度可監(jiān)視
- 可選液體冷卻裝置（可用掃描電鏡冷卻水或自來水）
- 具有P.I.D（Proportional, Integral, Derivative）數(shù)字控制單元，可設(shè)置輸入目標溫度點及測量溫度顯示
- 直流低電壓Peltier電源
- EMS 25可用于市場上各種掃描電鏡（Hitachi, Leo, Joel or FEI SEM），用鍵盤和雙顯示器作為溫度控制和顯示，同時顯示實際溫度和目標溫度。真空接口板具有所有連接，雙重微處理器控制。
- 溫度范圍從 -35℃ 到75℃，3分鐘內(nèi)從室溫降臨至 -25℃
- 可用于各種掃描電鏡—通過不同的接口板
- 同時顯示實際溫度和目標溫度
- 控制單元體積小優(yōu)點
- 對VP/EP & ESEM 來說，系統(tǒng)通用性強
- 樣品快速冷卻
- 通用系統(tǒng)
- 當系統(tǒng)準備后很容易觀察
| 樣品臺溫度控制范圍 | +70℃ to -30℃，分辨率 +/- 1℃ |
| 典型的操作溫度 | 3 分鐘內(nèi)從室溫+25℃ 降至-25℃ |
| 溫度顯示精度 | 0.1℃ |
| 溫度穩(wěn)定度 | 0.2℃ |
| 控制單元體積 | 137mm H x 235mm W x 260mm |
| 樣品尺寸 | 正常樣品大小, 最大直徑為 25mm |
| X,Y 正常物臺 | 保持移動功能傾斜：X射線分析正常移動（典型為45 |
| 工作距離 | +/- 25mm |
| 旋轉(zhuǎn) | 大于180° |
| 電源 | 230V單相,5 Amp max |
| 貨號 | 產(chǎn)品名稱 | 規(guī)格 |
| 90100 | EMS25 Cooling Stage | 臺 |
最新產(chǎn)品
- 發(fā)布動態(tài)/抗檢測原料/ 抗檢測抗115項抗檢測原粉@技術(shù)資料 2024/11/21 22:17:14
- 發(fā)布動態(tài)/強力v1/抗檢測強力v1/高品質(zhì)原料@詳情介紹 2024/11/21 22:15:56
- 發(fā)布動態(tài)/鹽酸達泊西汀/達泊西丁原料@技術(shù)資料 2024/11/21 22:14:40
- 發(fā)布動態(tài)/無水茶堿/茶葉提取物/茶堿/茶堿原料/臺風新聞 2024/11/21 22:13:41
- 發(fā)布動態(tài)/奧利司他/奧利司他原料@技術(shù)資料 2024/11/21 22:12:32
- 發(fā)布動態(tài)/他達那非/他達那非原料/技術(shù)資料 2024/11/21 22:11:22
- 發(fā)布動態(tài)/育亨賓/鹽酸育亨賓原料@技術(shù)資料 2024/11/21 22:10:16
- 發(fā)布動態(tài)/無水茶堿/茶葉提取物/茶堿/茶堿原料/技術(shù)資料 2024/11/21 22:09:14
- 發(fā)布動態(tài)/西地那非/西地那非原粉/西地原料/技術(shù)資料 2024/11/21 22:08:12
- 發(fā)布動態(tài)/金陽堿/金陽堿原料@技術(shù)資料 2024/11/21 22:07:09
- 發(fā)布動態(tài)/抗檢測原料/ 抗檢測抗115項抗檢測原粉@價格優(yōu)惠 2024/11/21 22:05:21
- 發(fā)布動態(tài)/強力v1/抗檢測強力v1/高品質(zhì)原料@價格優(yōu)惠 2024/11/21 22:04:11
- 發(fā)布動態(tài)/鹽酸達泊西汀/達泊西丁原料@價格優(yōu)惠 2024/11/21 22:03:03
- 發(fā)布動態(tài)/無水茶堿/茶葉提取物/茶堿/茶堿原料/市場行情 2024/11/21 22:01:53
- 發(fā)布動態(tài)/奧利司他/奧利司他原料@價格優(yōu)惠 2024/11/21 22:00:28
- 發(fā)布動態(tài)/他達那非/他達那非原料/價格優(yōu)惠 2024/11/21 21:59:20
- 發(fā)布動態(tài)/育亨賓/鹽酸育亨賓原料@價格優(yōu)惠 2024/11/21 21:58:06
- 發(fā)布動態(tài)/無水茶堿/茶葉提取物/茶堿/茶堿原料/價格優(yōu)惠 2024/11/21 21:56:57
- 發(fā)布動態(tài)/西地那非/西地那非原粉/西地原料/價格優(yōu)惠 2024/11/21 21:55:53
- 發(fā)布動態(tài)/金陽堿/金陽堿原料@價格優(yōu)惠 2024/11/21 21:54:41
- 發(fā)布動態(tài)/抗檢測原料/ 抗檢測抗115項抗檢測原粉@資料中心 2024/11/21 21:52:37
- 發(fā)布動態(tài)/強力v1/抗檢測強力v1/高品質(zhì)原料@資料中心 2024/11/21 21:51:13
- 發(fā)布動態(tài)/鹽酸達泊西汀/達泊西丁原料@資料中心 2024/11/21 21:49:50
- 發(fā)布動態(tài)/無水茶堿/茶葉提取物/茶堿/茶堿原料/詳情介紹 2024/11/21 21:48:32
- 發(fā)布動態(tài)/奧利司他/奧利司他原料@資料中心 2024/11/21 21:47:07
- 發(fā)布動態(tài)/他達那非/他達那非原料/資料中心 2024/11/21 21:45:46
- 發(fā)布動態(tài)/育亨賓/鹽酸育亨賓原料@資料中心 2024/11/21 21:44:27
- 發(fā)布動態(tài)/無水茶堿/茶葉提取物/茶堿/茶堿原料/資料中心 2024/11/21 21:42:58
- 發(fā)布動態(tài)/西地那非/西地那非原粉/西地原料/資料中心 2024/11/21 21:41:01
- 發(fā)布動態(tài)/金陽堿/金陽堿原料@資料中心 2024/11/21 21:39:35