直觀好用的Windows? 7操作環(huán)境
自動聚焦和消象散設(shè)置
一鍵式預置高分辨或高產(chǎn)出模式
功能全面的NanoSuite軟件,包括強大的鄰近效應修正和GDSII CAD圖形編輯
寫場大至500 μm,實時進行動態(tài)修正
新研制的靜電偏轉(zhuǎn)器
50 MHz圖形發(fā)生器
曝光效率高至1cm2/h(占空比50%)
VOYAGER是根據(jù)用戶的寶貴的需求和反饋來進行研制的。
寬松的環(huán)境指標:迷你小環(huán)境,允許大的溫度波動和噪聲容忍度
基于先進和靈活的現(xiàn)場可編程門陣列設(shè)計,圖形發(fā)生器可現(xiàn)場升級
集成的變焦鏡頭可實現(xiàn)束電流范圍寬,且可連續(xù)調(diào)節(jié)
高分辨成像和量度,用于曝光結(jié)果的檢測和確認
強大而靈活的對準能力,任何形狀和位置的標記都可識別
智能化的設(shè)計意味著蘊含很多聰明的點子,曝光結(jié)果更理想。
創(chuàng)新
VOYAGER電子束直寫系統(tǒng)在系統(tǒng)構(gòu)建和曝光應用上都體現(xiàn)出了創(chuàng)新
先進的電子槍設(shè)計,含三個透鏡,用于快速及方便的對準
InLens二次電子探測器,圖像清晰且真實
緊湊開關(guān)模式電源
無拼接曝光模式(連續(xù)移動工作臺+移動電子束),對應長路徑或周期性圖形
專業(yè)的三維曝光模式,如菲涅耳透鏡模擬和大面積灰度位圖曝光
經(jīng)濟
VOYAGER從大局到小細節(jié)都圍繞著全面實現(xiàn)提高功效和性價比的設(shè)計理念
迷你小環(huán)境節(jié)省了設(shè)備整個使用時間內(nèi)的房間環(huán)境費用
占地小,節(jié)約了實驗室面積
光刻機內(nèi)還含有高分辨成像功能和樣品導航選址能力
只換燈絲部分而不用更換電子槍整體,更換費用降低
其他為設(shè)備所有者節(jié)約費用的優(yōu)化
更多VOYAGER 新一代高速度電子束曝光系統(tǒng)介紹,請查看:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=481
電子束曝光系統(tǒng)(electron beam lithography, EBL)是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機十分相近,美國JC Nabity Lithography Systems公司成功研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng),簡稱NPGS,又稱電子束微影系統(tǒng))。電子束曝光技術(shù)具有可直接刻畫精細圖案的優(yōu)點,且高能電子束的波長短(< 1 nm),可避免繞射效應的困擾,是實驗室制作微小納米電子元件理想選擇。相對于購買昂貴的用電子束曝光機臺,以既有的SEM等為基礎(chǔ),外加電子束控制系統(tǒng),透過電腦介面控制電子顯微鏡中電子束之矢量掃描,以進行直接刻畫圖案,在造價方面可大幅節(jié)省,且兼具原SEM 的觀測功能,在功能與價格方面均具有優(yōu)勢。由于其具有高分辨率以及低成本等特點,在北美研究機構(gòu)中,JC Nabity的NPGS是非常熱銷的配套于掃描電鏡的電子束微影曝光系統(tǒng),而且它的應用在各地越來越廣泛。NPGS的技術(shù)目標是提供一個功能強大的多樣化簡易操作系統(tǒng),結(jié)合使用市面上已有的掃描電鏡、掃描透射電鏡或聚焦離子束裝置,用來實現(xiàn)藝術(shù)的電子束或離子束平版印刷技術(shù)。NPGS能成功滿足這個目的,得到了當眾多用戶的強烈推薦和一致肯定。一. 技術(shù)描述:為滿足納米電子束曝光的要求,JC Nabity的NPGS系統(tǒng)設(shè)計了一個納米圖形發(fā)生器和數(shù)模轉(zhuǎn)換電路,并采用PC機控制。PC機通過圖形發(fā)生器和數(shù)模轉(zhuǎn)換電路去驅(qū)動SEM等儀器的掃描線圈,從而使電子束偏轉(zhuǎn)并控制束閘的通斷。通過NPGS可以對標準樣片進行圖像采集以及掃描場的校正。配合精密定位的工件臺,還可以實現(xiàn)曝光場的拼接和套刻。利用配套軟件也可以新建或?qū)攵喾N通用格式的曝光圖形。(一) 電子源(Electron Source)曝照所需電子束是由既有的SEM、STEM或FIB產(chǎn)生的電子束(離子束)提供。(二) 電子束掃描控制(Beam Scanning Control)電子射出后,受數(shù)千乃至數(shù)萬伏特之加速電壓驅(qū)動沿顯微鏡中軸向下移動,并受中軸周圍磁透鏡(magnetic lens)作用形成聚焦電子束而對樣本表面進行掃描與圖案刻畫。掃描方式可分為循序掃描(raster scan)與矢量掃描(vector scan)。循序掃描是控制電子束在既定的掃描范圍內(nèi)進行逐點逐行的掃描,掃描的點距與行距由程式控制,而當掃描到有微影圖案的區(qū)域時,電子束開啟進行曝光,而當掃描到無圖案區(qū)域時,電子束被阻斷;矢量掃描則是直接將電子束移動到掃描范圍內(nèi)有圖案的區(qū)域后開啟電子束進行曝光,所需時間較少。掃描過程中,電子束的開啟與阻斷是由電子束阻斷器(beam blanker)所控制。電子束阻斷器通常安裝在磁透鏡組上方,其功效為產(chǎn)生一大偏轉(zhuǎn)磁場使電子束完全偏離中軸而無法到達樣本。(三) 阻劑(光阻)阻劑(resist)是轉(zhuǎn)移電子束曝照圖案的媒介。阻劑通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。高能電子束的照射會改變阻劑材料的特性,再經(jīng)過顯影(development)后,曝照(負阻劑)或未曝照(正阻劑)的區(qū)域?qū)粼诨谋砻,顯出所設(shè)計的微影圖案,而后續(xù)的制程將可進一步將此圖案轉(zhuǎn)移到阻劑以下的基材中。PMMA(poly-methyl methacrylate)是電子束微影中很常用的正阻劑,是由單體甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)經(jīng)聚合反應而成。用在電子阻劑的PMMA 通常分子量在數(shù)萬至數(shù)十萬之間,受電子束照射的區(qū)域PMMA 分子量將變成數(shù)百至數(shù)千,在顯影時低分子量與高分子量PMMA 溶解度的對比非常大。負阻劑方面,多半由聚合物的單體構(gòu)成。在電子束曝照的過程中會產(chǎn)生聚合反應形成長鏈或交叉鏈結(jié)(crosslinking)聚合物,所產(chǎn)生的聚合物較不易被顯影液溶解因而在顯影后會留在基板表面形成微影圖案。目常用的負阻劑為化學倍增式阻劑(chemically amplified resist),經(jīng)電子束曝照后產(chǎn)生氫離子催化鏈結(jié)反應,具有高解析度、高感度,且抗蝕刻性高。(四) 基本工序電子束微影曝光技術(shù)的基本工序與光微影曝光技術(shù)相似,從上阻、曝照到顯影,各步驟的參數(shù)(如溫度、時間等等)均有賴于使用者視需要進行校對與調(diào)整。二. 主要技術(shù)指標:型號:NPGS細線寬(μm):根據(jù)SEM小束斑(μm):根據(jù)SEM掃描場:可調(diào)加速電壓:根據(jù)SEM,一般為0-40kV速度:5MHz(可選6MHz)A. 硬件:微影控制介面卡:NPGS PCI-516A High Speed Lithography Board,high resolution (0.25%)控制電腦:Pentium IV 3.0GHz/ 512Mb RAM/ 80G HD/ Windows XP皮可安培計:KEITHLEY 6485 PicoammeterB. 軟件:微影控制軟件 NPGS V9.1 for Windows2000 或 XP 圖案設(shè)計軟件 DesignCAD LT 2000 for Windows三. 應用簡述NPGS電鏡改裝系統(tǒng)能夠制備出具有高深寬比的微細結(jié)構(gòu)納米線條,從而為微電子域如高精度掩模制作、微機電器件制造、新型IC研發(fā)等相關(guān)的微/納加工技術(shù)提供了新的方法。NPGS系統(tǒng)作為制作納米尺度的微小結(jié)構(gòu)與電子元件的技術(shù)平臺,以此為基礎(chǔ)可與各種制程技術(shù)與應用結(jié)合。應用范圍和域取決于客戶的現(xiàn)有資源,例如: NPGS電子束曝光系統(tǒng)可與等離子應用技術(shù)做很有效的整合,進行各項等離子制程應用的開發(fā)研究,簡述如下:(一) 半導體元件制程等離子制程已廣泛應用于當半導體元件制程,可視為電子束微影曝光技術(shù)的下游工程。例如:(1) 等離子刻蝕(plasma etching)(2) 等離子氣相薄膜沉積(plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD)(3) 濺鍍(sputtering)(二) 微機電元件制程(Semiconductor Processing)微機電元件在制程上與傳統(tǒng)半導體元件制作有其差異性。就等離子相關(guān)制程而言,深刻蝕(deep etching)是主要的應用,其目標往往是完成深寬比達到102 等的深溝刻蝕或晶圓穿透刻蝕。而為達成高深寬比,深刻蝕采用二種氣體等離子交替的過程?涛g完成后可輕易以氧等離子去除側(cè)壁覆蓋之高分子。在微機電元件制作上,深刻蝕可與電子束微影曝光技術(shù)密切結(jié)合。電子束微影曝光技術(shù)在圖案設(shè)計上之自由度十分符合復雜多變化的微機電元件構(gòu)圖。一旦完成圖案定義,將轉(zhuǎn)由深刻蝕技術(shù)將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓基板。
設(shè)備型號 | FC/BJD-2000 | FC/BCD-2800 | FC-3800 | FC-4400 |
2inch 晶圓 | 42 | N/A | N/A | N/A |
3inch 晶圓 | 17 | 47 | N/A | N/A |
100mm晶圓 | 13 | 25 | 53 | 55 |
150mm晶圓 | 5 | 12 | 25 | 30 |
200mm晶圓 | N/A | 6 | 14 | 15 |
聯(lián)系人:張先生 139-11514522 (12531012#qq.com)
西瑪 吸錫泵/C0014 庫號:RL187840 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30 庫號:RL187841 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30C0017 電烙鐵配件 |
世達 快速升溫雙功率電烙鐵/03263 庫號:RL187842 | 產(chǎn)品描述:1、傳統(tǒng)電烙鐵只有一種功率,但此款特有兩種功率,只需按鈕,功率既能由20W提升至130W,一支電烙鐵能同時焊接不同大小元件。2、配用陶瓷發(fā)熱元件,絕熱層手柄不會燙手,設(shè)計輕巧,使用時手感舒適。產(chǎn)品參數(shù):1、電源電壓:220V/50HZ2、絕緣電阻:100兆歐3、電氣強度:3750V 一分鐘不擊穿4、消耗功率:20W/130W注意事項:1、請保持烙鐵頭頭部始終掛錫。2、請勿敲打烙鐵頭。3、請勿采用較強酸性助焊劑。4、嚴禁在電烙鐵通電使用時,拆卸電熱部分零件。5、非專業(yè)維修人員,請勿自行拆 |
西瑪 環(huán)保型電烙鐵/C0017-30 庫號:RL187843 | 產(chǎn)品描述:西瑪 環(huán)保型電烙鐵/C0017-30GS TUV認證產(chǎn)品,保證品質(zhì)。三插插頭,無鉛產(chǎn)品,環(huán)保設(shè)計。注意事項:1.在使用不含松香焊錫時,焊接處要涂上松香劑;2.要等焊錫凝固后方可移動焊接處;3.通電后的烙鐵溫度非常高,處理不當會造成燙傷或引起火災,請小心處理;4.烙鐵頭經(jīng)特殊處理,請勿用鋼銼去磨;5.不用時請及時拔掉插頭。??????????? |
西瑪 膠柄電烙鐵/C0016-220-30 庫號:RL187844 | 產(chǎn)品描述:西瑪 膠柄電烙鐵/C0016-220-30GS TUV認證產(chǎn)品,保證品質(zhì)。兩插插頭,110V與220V兩種選擇。注意事項:1.在使用不含松香焊錫時,焊接處要涂上松香劑;2.要等焊錫凝固后方可移動焊接處;3.通電后的烙鐵溫度非常高,處理不當會造成燙傷或引起火災,請小心處理;4.烙鐵頭經(jīng)特殊處理,請勿用鋼銼去磨;5.不用時請及時拔掉插頭。 |
西瑪 電烙鐵頭子(彎頭)/C0017B-30-W 庫號:RL187845 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵頭子(彎頭)/C0017B-30-WC0017 電烙鐵配件? |
西瑪 吸錫泵/C0014 庫號:RL187846 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30 庫號:RL187847 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵芯/C0017A-30C0017 電烙鐵配件 |
西瑪 吸錫泵/C0014 庫號:RL187848 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 吸錫泵/C0014 庫號:RL187849 | 產(chǎn)品描述:西瑪 吸錫泵/C00141.鋁合金一體成型。吸力強勁,快速有效去除焊錫迅速分離連接件;2.優(yōu)質(zhì)的PTFE三吸嘴,耐高溫,耐溶劑性能優(yōu)良;3.經(jīng)常清潔泵內(nèi),以保證正常使用。 ???? |
西瑪 電烙鐵頭子(直頭)/C0017B-30-Z 庫號:RL187850 | 產(chǎn)品描述:西瑪 電烙鐵頭子(直頭)/C0017B-30-ZC0017 電烙鐵配件 |
鷹牌 膠柄電烙鐵 庫號:RL187851 | 產(chǎn)品描述:鷹牌 膠柄電烙鐵1.電烙鐵是用來焊接電器元件的,為方便使用,通常用“焊錫絲”作為焊劑,焊錫絲內(nèi)一般都含有助焊的松香。 焊錫絲使用約60%的錫和40%的鉛合成,熔點較低;2.電烙鐵的選用:電烙鐵的種類及規(guī)格有很多種,而且被焊工件的大小又有所不同,因而合理地選用電烙鐵的功率及種類,對提高焊接質(zhì)量和效率有直接的關(guān)系;1)焊接集成電路、晶體管及受熱易損元器件時,應選用 20W 內(nèi)熱式或 25W 的外熱式電烙鐵;2)焊接導線及同軸電纜時,應先用 45W~75W 外熱式電烙鐵,或 50W |
西瑪 膠柄電烙鐵芯子/C0016A-220-30 庫號:RL187852 | 產(chǎn)品描述:西瑪 膠柄電烙鐵芯子/C0016A-220-30C0016 膠柄電烙鐵配件。? |
世達工具 外熱式長壽烙鐵頭(特尖頭)/03241 庫號:RL187853 | 產(chǎn)品描述:世達工具 外熱式長壽烙鐵頭(特尖頭)/032411、世達長壽命外熱式烙鐵頭采用高級優(yōu)質(zhì)銅材經(jīng)精密加工而成。表面特別處理的合金層具有卓越的抗高溫氧化性能及耐磨性能。防腐蝕表面處理確保優(yōu)良的抗腐蝕性。2、烙鐵頭頭部已進行上錫處理,使您在焊接作業(yè)中更方便快捷。3、本烙鐵頭適用于世達外熱式長壽電烙鐵。 貨號: 5BA1030C 制造商型號: 03241 貨號: 5BA1031C |
世達 快速升溫雙功率電烙鐵/03263 庫號:RL187854 | 產(chǎn)品描述:1、傳統(tǒng)電烙鐵只有一種功率,但此款特有兩種功率,只需按鈕,功率既能由20W提升至130W,一支電烙鐵能同時焊接不同大小元件。2、配用陶瓷發(fā)熱元件,絕熱層手柄不會燙手,設(shè)計輕巧,使用時手感舒適。產(chǎn)品參數(shù):1、電源電壓:220V/50HZ2、絕緣電阻:100兆歐3、電氣強度:3750V 一分鐘不擊穿4、消耗功率:20W/130W注意事項:1、請保持烙鐵頭頭部始終掛錫。2、請勿敲打烙鐵頭。3、請勿采用較強酸性助焊劑。4、嚴禁在電烙鐵通電使用時,拆卸電熱部分零件。5、非專業(yè)維修人員,請勿自行拆 |
產(chǎn)品描述:世達工具 外熱式長壽電烙鐵/03210
1、采用高阻抗天然云母發(fā)熱芯,經(jīng)久耐用
2、配合不同焊嘴.適用于微型及大面積電子焊接大熱 容量,快速傳熱.回熱迅速.工作效率高
3、簡易更換發(fā)熱芯裝置.方便快捷.省時省力.泄漏 電流低于0.25mA,安全可靠
4、輕便小巧手柄散熱快.長時間作業(yè)倍感舒適
5、請選用世達外熱式長壽電烙鐵頭及外熱式天然云母 發(fā)熱芯作為配件
產(chǎn)品參數(shù):
1、電源電壓:AC 220V 50HZ
2、發(fā)熱無件:天然云母發(fā)熱元件
3、絕緣阻抗:大于100MΩ以上
4、泄漏電流:025mA以下
注意事項:
1、初次使用時,焊嘴必須先搪錫
2、請使用弱酸性助焊劑
3、焊嘴請勿敲擊或用銼刀打磨
4、焊頭發(fā)黑氧化,應用清潔海綿清潔焊嘴。搪錫后使用。
5、通電作業(yè)時,嚴禁拆卸電熱部分元器件
6、使用時,應配備具有自然散熱結(jié)構(gòu)的烙鐵座
7、放置遠離兒童處作業(yè),以免燙傷
8、焊接敏感元件時,必須將本產(chǎn)品接地
貨號: | 5BA1017C | 制造商型號: | 03210 | |
貨號: | 5BA1018C | 制造商型號: | 03220 | |
貨號: | 5BA1019C | 制造商型號: | 03230 | |
貨號: | 5BA1020C | 制造商型號: | 03240 |
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供應真空電子束焊機真空泵,電子束在配置大路通DLT.V0300真空泵的真空環(huán)境里焊接因具有不用焊條、不易氧化、工藝重復性好及熱變形量小的優(yōu)點而廣泛應用于航空航天、原子能、國防及軍工、汽車和電氣電工儀表等眾多行業(yè)。電子束焊接要求真空度很高,一般是需要配置多臺真空泵才能達到要求,大路通DLT.V0300真空泵是一款結(jié)構(gòu)緊湊,堅固耐用,安全環(huán)保的真空泵,轉(zhuǎn)子具有良好的幾何對稱性,故振動小,運轉(zhuǎn)平穩(wěn),真空泵高,所以多作為真空電子束焊機的前級泵配置。本公司技術(shù)人員集多年的行業(yè)應用經(jīng)驗,借鑒多款歐美產(chǎn)品的優(yōu)點,結(jié)合中國用戶的使用維護習慣而獨立開發(fā)的產(chǎn)品.選用優(yōu)質(zhì)配套件,采用先進的加工裝配工藝,確保產(chǎn)品的高品質(zhì)及可靠性.DLT.V0300真空泵能長期不間斷運行.DLT.V0300真空泵參數(shù)抽氣速率: 300立方米/小時極限壓力: 0.1mbar電 源:380V 電機功率: 7.5KW重量: 約210KG可按應用要求配置多種附件, 體積緊湊,運行寧靜,尤其適合各類機械設(shè)備配套.產(chǎn)品特點:1.設(shè)計精密.結(jié)構(gòu)堅固.重量輕.易于安裝及維護.1.低噪音,低震動,工作環(huán)境不會受影響 2.內(nèi)置高效油霧過濾器,所排出的氣體不含油霧 3.采用風冷卻,但較大型的真空泵配有冷卻風管,利用風扇將風管內(nèi)的潤滑油冷卻,提高冷卻效果 4.內(nèi)置止回閥及氣鎮(zhèn)閥,可避免停機后泵逆轉(zhuǎn)而造成油逆流及避免高真空環(huán)境下,空氣所含水氣經(jīng)壓縮凝結(jié)成水點,造成潤滑油乳化變質(zhì)5.抽風量強勁,極限真空可達到0.1mbar(10Pa)6.運轉(zhuǎn)聲音小.大路通真空泵已普遍應用于各類儀器真空包裝,橡膠和塑料工業(yè)上的真空吸塑成形,印刷工業(yè)上的紙張輸送,各類鑄件的真空浸漬防漏,機械加工上的真空夾具,電子半導體工業(yè)上的元器件真空裝夾定位,化工上的真空干燥,過濾,大型機械零件在空真狀態(tài)下的動平衡試驗以及醫(yī)院手術(shù)室的真空吸引等在本型泵所能達到的真空范圍的各種真空處理。適用機械:硫化機/加硫機/吸塑機/層壓機/橡膠硫化機/精雕機/自動化機械手/吸附加工/真空貼膜機/食品包裝機/線路板/薄膜開關(guān)/模具抽真空/真空機床吸盤/雕銑機/高光機/CD紋機/數(shù)控批花機/含浸機/浸漆機/破波機/脫泡機/灌膠機/點膠機/注型機/電子束焊機
技術(shù)參數(shù)
1.電子束源&電源 •單個或者可自由切換換電子束源: --蒸發(fā)室數(shù)量 1 ~ 12(標配: 4, 6) --坩堝容量:7 ~ 40 cc (最大可達200 cc) ----標準:25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) ----最大:200 cc (156cc for UHV) 可用于長時間的沉積 •偏轉(zhuǎn)角度:180º, 270º •輸出功率:6, 10, 15, 20 kW •支持兩個或者三個電子束源在一個系統(tǒng)上 •可連續(xù)或者同時沉積兩種或三種材料 •高速率沉積 2.薄膜沉積控制: •IC-5 ( or XTC, XTM) 和計算機控制 --沉積過程參數(shù)可控 --石英晶體振蕩傳感器 --光學檢測系統(tǒng)用于光學多層薄膜沉積:測量波長范圍350-2000 nm,分辨率1 nm •薄膜厚度檢測和處理過程可通過計算機程序控制 •薄膜厚度檢測和沉積速率可通過計算機程序控制 --支持大面積沉積 --支持在線電子束蒸發(fā)沉積 --基底尺寸:20~100英寸 --薄膜均勻性 <±1.0 to 5.0 % 3.真空腔體: •圓柱形腔體 --直徑:φ500 ~ 1,500 mm --高度:800 ~ 1500 mm •方形腔體 --根據(jù)客戶的需求定制 4.真空泵和測量裝置: •低真空:干泵和convectron真空規(guī) •高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī) •超高真空:雙級渦輪分子泵,離子泵和離子規(guī) 5.控制系統(tǒng)PLC和 觸摸屏計算機: •硬件: PLC, 觸摸屏計算機 --包括模擬和數(shù)字輸入/輸出卡 --顯示器: LCD •自動和手動程序控制 --程序控制:加載,編輯和保存 --程序激活控制: ----泵抽真空,蒸發(fā)沉積,加熱, 旋轉(zhuǎn)等 ----膜厚度檢測和控制多層薄膜沉積 ----系統(tǒng)狀態(tài),數(shù)據(jù)加載等 ----問題解答和聯(lián)動狀態(tài)
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主要特點
擴展功能: •質(zhì)量流量控制器:反應和等離子體輔助惰性氣體控制 •離子源和控制器:等離子體輔助沉積 •射頻電源:基底預先處理 •溫度控制器:基底加熱 •熱蒸發(fā)器:1 or 2 boat •蒸鍍源cell:1 or 2 for doping •冷卻器:系統(tǒng)冷卻
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全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商,為各個領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積、離子泵等; 電子束蒸發(fā)系統(tǒng): 1.膜電子束蒸發(fā)系統(tǒng)E -Beam Evaporation System 2.高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)High Vacuum E -Beam Evaporation System 3.超高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System 4.離子輔助蒸發(fā)系統(tǒng)Ion Beam Assisted Evaporation System 5.離子電鍍系統(tǒng)Ion Plating System 6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System 7.在線電子束蒸發(fā)系統(tǒng)In-line E -Beam Evaporation System |
型號:JX163574高精度鍍膜儀208HR | 型號:JX163578電子束蒸發(fā)鍍膜EBES | 型號:JX163565電鏡專用高真空鍍膜儀208HR |
208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時,樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力,可以對膜層的均勻性和一致性進行控制,并減小充電效應。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm,其作用是對所鍍薄膜的厚度進行控制,它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚(0.5-3nm)的要求。
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是:
Pt/Pd:非導電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
Cr:優(yōu)良的半導體樣品的鍍膜材料
Ir:優(yōu)良的真正無細晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇,可配備標準的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵,標配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
一、主要特性
· 可選擇多種鍍膜材料
· 的膜厚控制
· 樣品臺控制靈活:可對樣品臺進行獨立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動、傾斜控制,保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。
· 多個樣品座:提供4個樣品座,每個樣品座直徑32mm,可裝載多達6個小樣品座。
· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/span> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率(1.0nm/s ~ 0.002nm/s)
· 寬范圍的操作壓力:獨立的功率和壓力調(diào)節(jié),氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
· 緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計
· 操作容易
矽碁電子束蒸發(fā)系統(tǒng)簡介
矽碁電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是專為實驗室科學研究開發(fā)設(shè)計,系統(tǒng)靈活,高度可定制化,可實現(xiàn)共蒸鍍等功能。
系統(tǒng)基本規(guī)格
腔體真空度可達<10-7Torr
基板旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)
全自動鍍膜,工業(yè)級操作軟件
可實現(xiàn)共蒸鍍制程
電腦即時監(jiān)控系統(tǒng)運作狀況(真空度,基板溫度,鍍率,膜厚...)
可選項
可選用turbo/cryo/diffusion泵浦
坩堝選擇(1//2/4/6)
傳送機構(gòu)(Load-Lock System)
手套箱連接
鍍膜基板冷卻
鍍膜基板加熱(800℃)
可結(jié)合其他制程設(shè)備以達到雙腔、Cluster(枚葉式)或In-line(連續(xù)式)制程需求
應用范圍
LIFT-OFF制程應用
光電組件(發(fā)光/鐳射二極管)
通訊組件
半導體組件
分子泵超高分辨鍍膜,放大倍率可到30-60萬倍也不會看到鍍膜顆粒,適用于現(xiàn)階段超高分辨場發(fā)射或雙束電鏡使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga;
專利磁控冷態(tài)噴鍍
專利冷態(tài)鍍膜設(shè)計使用真正的“平衡磁控管”沒有等離子體電流在樣品,在得到高分辨非晶鍍膜層同時避免樣品受到熱損傷,對熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合
廣泛的鍍層靶材選擇
特殊雙極磁控管頭設(shè)計和有效的氣體離子處理使得208HR擁有廣泛多種鍍層靶材選擇
全自動化設(shè)計
自動的換氣與泄氣功能,濺射電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控,蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制保證了均勻一致的膜厚,和的導電噴鍍效果。
超高精度膜厚監(jiān)控設(shè)計
使用可選MTM-20全自動高分辨膜厚監(jiān)控儀可優(yōu)化設(shè)計鍍膜條件達到0.1nm膜厚可控效果
多用途樣品托設(shè)計
獨立的旋轉(zhuǎn),水平和傾斜 3軸移動設(shè)計優(yōu)化了多樣品以及不規(guī)則樣品的均勻一直鍍膜
?可變的樣品室?guī)缀卧O(shè)計
為了優(yōu)化鍍層結(jié)構(gòu)樣品室?guī)缀卧O(shè)計可用于調(diào)整噴鍍速度從1.0納米每秒到0.002納米每秒
廣泛的操作氣體壓力
獨立的電壓,電流以及壓力回路控制系統(tǒng)允許可操作氬氣壓力從0.2-0.005mbar真空度
緊湊型時尚桌面式設(shè)計
節(jié)能,緊湊設(shè)計消除了對于樓層空間要求,水要求和專業(yè)電氣連接要求
鍍膜不同多樣樣品
超高分辨208HR鍍膜系統(tǒng)現(xiàn)在針對噴鍍不同電鏡樣品提供了理想的解決方案。為了減小噴鍍晶粒尺寸影響,208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和前所未有的膜厚鍍層控制條件。為了更小優(yōu)化充電效果,208HR的特殊樣品臺設(shè)計和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜一致性和統(tǒng)一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調(diào)整。
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