FXH50/ZF腐蝕清洗機(jī)
腐蝕清洗設(shè)備主要用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴(kuò)散前、CMP后、氧化前及光刻后等關(guān)鍵工藝的清洗。 我公司可生產(chǎn)手動(dòng)、半自動(dòng)及全自動(dòng)刻蝕、清洗設(shè)備，以滿足2˝～8˝晶片各種工藝需求。 用戶可根據(jù)不同工藝選擇不同的工藝模塊。模塊有：一號(hào)液（SCⅡ）、二號(hào)液（SCⅢ）、稀釋氫氟（DHF）、快排沖水（QDR）、恒溫水浴緩沖刻蝕（BOE）、干燥（IPA）等。操作方式可分為全自動(dòng)（PLC+觸摸屏）、半自動(dòng)和手動(dòng)方式。 專業(yè)為客戶做適用于各種場(chǎng)合的濕法刻蝕、清洗等設(shè)備。
腐蝕清洗機(jī) 刻蝕機(jī) 腐蝕清洗設(shè)備
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JP500型數(shù)字控制超聲波清洗機(jī)
分體機(jī)型
超聲功率：500W
超聲頻率：28KHZ
清洗槽內(nèi)尺寸：320＊280＊150mm
清洗槽材質(zhì)：SUS304不銹鋼
數(shù)字功率可調(diào)：0-9檔（10%-100%）
數(shù)字時(shí)鐘可調(diào)：0-99分鐘
數(shù)字掃頻可調(diào)：0-F檔（10hz-170hz）
超聲波清洗器工作原理：超聲波清洗器發(fā)出的高頻震蕩信號(hào)，通過(guò)換能器轉(zhuǎn)換成高頻機(jī)械震蕩，使之在清洗液中散播，使液體流動(dòng)而產(chǎn)生數(shù)以萬(wàn)計(jì)的微小氣泡，這些氣泡在超聲波傳播過(guò)程中形成的負(fù)壓區(qū)成型、生長(zhǎng)，在正壓區(qū)迅速閉合。此過(guò)程可產(chǎn)生超過(guò)1000個(gè)大氣壓的瞬間高壓，且連續(xù)不斷，稱之為“空化效應(yīng)”。就像一連串爆炸，不斷沖擊物體表面及縫隙中，從而達(dá)到清洗的效果。
超聲波清洗器是一種無(wú)損無(wú)污染的清洗設(shè)備，是利用超聲波在液體中的空化作用過(guò)程達(dá)到清洗目的，同時(shí)超聲波在液體中還能起到加速溶解和乳化作用、脫氣效果也非常顯著，故此被廣泛應(yīng)用在機(jī)械、電子、醫(yī)療、化學(xué)試驗(yàn)等行業(yè)？烧{(diào)式超聲波清洗器更適合您的多種脫氣、清洗.調(diào)制式超聲波清洗器在使用范圍上更為廣泛,調(diào)制后的脈沖幅值均在空化閥值以上，這樣的結(jié)果使用得能量大部分用在空化效應(yīng)上，清洗強(qiáng)度充分提高。
超聲波清洗器適用于：電子器件、半導(dǎo)體硅片、電路板、電鍍件、光學(xué)鏡片、音頻磁頭、化纖噴絲頭、打印機(jī)噴墨、醫(yī)療器械、手術(shù)器械、玻璃器皿、照相器械、通訊器械、金銀首飾、精密機(jī)械零件的清洗是最理想的設(shè)備。同時(shí)在生化、化學(xué)、醫(yī)學(xué)廣泛應(yīng)用。
本公司產(chǎn)品使用技術(shù)已獲得國(guó)家專利，專利號(hào)：ZL200320128230.3
本公司在以上專利技術(shù)的基礎(chǔ)上又采用計(jì)算機(jī)技術(shù)進(jìn)行了技術(shù)提升。其創(chuàng)新點(diǎn)為：一是數(shù)顯時(shí)鐘控制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)0—99和長(zhǎng)開(kāi)循環(huán)、時(shí)鐘任選及設(shè)定時(shí)鐘記憶；二是數(shù)顯功率可調(diào)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)0—9共十段可調(diào)控制，及設(shè)置參數(shù)記憶；三是數(shù)顯低頻調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)10Hz至160Hz分16段可調(diào)，及設(shè)置參數(shù)記憶。從而實(shí)現(xiàn)了超聲波功率源的全數(shù)字化升級(jí)。該項(xiàng)技術(shù)于2006年5月獲得武漢市重大科技成果，成果登記號(hào)為：WK200605042。2006年6月本公司被武漢市科學(xué)技術(shù)局授予高新技術(shù)企業(yè)稱號(hào)。
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