產(chǎn)品特點紅外分析工作原理
該儀器屬于不分光式紅外線氣體分析器,其工作原理是基于某些氣體對紅外線的選擇性吸收。儀器采用單光源、管隔半氣室及先進的檢測器,工藝精湛、分析精度高、穩(wěn)定性好。采用先進的數(shù)字處理技術(shù),全新的液晶顯示畫面。
應用范圍
紅外線氣體分析器用于連續(xù)分析CO、CO2、SO2、CH4、NH3等一種氣體在多種氣體混合物中的含量。
應用領(lǐng)域
1.用于大氣及污染源排放等環(huán)保監(jiān)測 2.用于石油、化工、電站等工業(yè)過程控制 3.用于農(nóng)業(yè)、醫(yī)療衛(wèi)生和科研等領(lǐng)域 4.實驗室各種燃燒試驗的氣體含量測定 5.用于公共場所的空氣監(jiān)測
特點
標準19機箱,能安裝在成套設(shè)備中 大屏幕LCD顯示,全中文菜單操作,且有操作提示功能,操作簡單、高效 手動/自動零/終點校準、 全數(shù)字化處理,更加準確穩(wěn)定可靠 標準RS232數(shù)字通訊功能,可直接與電腦或DCS連接 輸出為同步、隔離的(0/2/4-20)mA及(0/0.5/1-5)V信號可選,默認為(4-20)mA和(1-5)V,電流輸出負載≤400Ω,電壓輸出負載≥250Ω
主要特點
該儀器/系統(tǒng)由數(shù)字量輸出的變頻電量變送器和數(shù)字量輸入的二次儀表構(gòu)成,兩者通過光纖連接。完全避免了復雜電磁環(huán)境下傳輸環(huán)節(jié)的衰減和干擾。
采用電機、變頻器、變壓器、節(jié)能燈具等電器產(chǎn)品的各種試驗工況下實測最低準確度指標作為標稱準確度指標。
根據(jù)電壓、電流的量程從1mV~20kV,100uA~7000A,變頻電量變送器有100多種規(guī)格型號可供選擇,對于高壓、大電流測量,既可采用低電壓、小電流的變送器與外部傳感器配套使用,也可直接采用高電壓、大電流的變頻電量變送器直接測量,減少中間環(huán)節(jié),提高系統(tǒng)測量準確度。
每臺分析儀可配置1~6個功率單元(變頻電量變送器),對于更多功率單元的測試項目,可采用多臺分析儀級聯(lián),在同步光纖的控制下,實現(xiàn)多臺分析儀之間的準確同步測量。
在熱力生產(chǎn)過程中,鍋爐燃燒的好壞是影響熱力生產(chǎn)效率及環(huán)保要求的一個重要因素。提高鍋爐效率,實現(xiàn)優(yōu)化燃燒,需要對有關(guān)燃燒參數(shù)在線及時準確監(jiān)測,以便實現(xiàn)人工調(diào)節(jié)和自動控制,保持鍋爐在最佳燃燒狀態(tài)下運行。 在鍋爐運行中,必須控制好進入鍋爐的空氣量與燃料量兩者的比例。若空氣量與燃料量之比越大,則排煙損失越大,同時,高溫下空氣中的氧易與燃料中的硫和空氣中的氮發(fā)生化學反應,生成對換熱設(shè)備和環(huán)境具有不良影響的SOx和NOx;;若空氣量與燃料量之比越小,則化學未完全燃燒損失越大,燃料燃燒不充分,降低了燃燒的經(jīng)濟性。因此,為了使鍋爐保持最佳燃燒工況,必須使空氣量與燃料量的比例合適,這個比例稱為過?諝庀禂(shù)(α),數(shù)值應在1.20—1.30之間。由于直接測量和控制過?諝庀禂(shù)十分困難,而α值又與煙氣中的O2及CO2有確定(單值)的函數(shù)關(guān)系,且受燃料品種變化影響較小,所以通常用測量煙氣中氧氣含量的方法來了解過?諝庀禂(shù),以判斷燃燒狀況,控制進入爐膛的空氣量,從而維持最佳風煤比,達到優(yōu)化燃燒的目的。
1 氧化鋯氧量計原理及應用時注意的問題
1.1 氧化鋯氧量計的工作原理:
氧化鋯氧量計的工作原理是利用氧化鋯(ZrO2)作固體電解質(zhì)而進行測量的,如圖1所示。
圖1:氧化鋯氧量計測量原理
高溫下電解質(zhì)在兩側(cè)氧濃度不同時產(chǎn)生氧濃差電勢,如一側(cè)氧濃度固定,即可通過測量輸出電勢來測量另一側(cè)的氧含量。氧化鋯測量原理可用公式1表述:
PPln(RT0nFE)
公式1:氧化鋯測量原理公式
式中,E---為氧濃差電勢,mV; R---氧的氣體常數(shù),R=8.314J/( mol·K); n---反應時,一個氧分子輸送的電子數(shù),4; T---熱力學溫度,K; P0---參比氣體中氧分壓(或體積分數(shù)),Pa(或%); P---被測煙氣中氧分壓(或體積分數(shù)),Pa(或%);
F---法拉第常數(shù),F(xiàn)=96.487×103C/mol。
當鋯管溫度恒定時,探頭的輸出電勢只與兩側(cè)的氧濃度有關(guān)?梢,如能測出氧探頭的輸出電動勢E和被測氣體的絕對溫度T,即可算出被測氣體煙氣的氧分壓(濃度)P。
1.2 氧化鋯氧量計在應用時注意的問題:
1.2.1因為氧濃差電勢E與氧化鋯工作管的絕對溫度T成正比關(guān)系,因此在測量系統(tǒng)中應有恒溫裝置,以保證輸出不受溫度影響;
1.2.2工作溫度T要選在600℃以上,以保證有足夠的靈敏度;
1.2.3參比氣體中的氧分壓要恒定不變,且比被測氣體中的氧分壓大得多,保證輸出靈敏度大;
1.2.4保證參比氣體和被測氣體都有一定的流速,以便不斷更新;
1.2.5氧濃差電勢E與被測氣體氧含量成對數(shù)關(guān)系,應進行線性化處理。
2 AMETEK氧量分析儀裝置配置介紹
某公司4×300MW機組,每臺鍋爐均配置了A、B側(cè)空預器進口及A、B側(cè)空預器出口共四只氧化鋯氧量計,采用AMETEK公司W(wǎng)DG210型氧量分析儀。
WDG210型氧量分析儀組件組成:
氧化鋯元件為探頭的關(guān)鍵部件,包括氧化鋯管及涂制在管底部的鉬電極和電極引線,電極引線可將信號引出;加熱爐用于加熱氧化鋯管;標氣管用于接通標氣,校準探頭;熱電偶用于測量氧電池中的溫度,接入變送器溫控系統(tǒng);接線板設(shè)有信號、熱電偶和加熱爐三對接線柱,其它還有過濾器、安裝法蘭和探頭外殼。
控制器接受氧電勢信號,并轉(zhuǎn)換為氧量信號;同時控制鋯管溫度,使它恒定在設(shè)定溫度(615℃)上。
3 氧量分析儀維護中常見故障及處理:
AMETEK WDG210型氧量分析儀在使用2000小時后,由于鋯頭長期在高溫的環(huán)境下工作,容易出現(xiàn)內(nèi)阻增大,性能下降,反映遲鈍現(xiàn)象。需要對其準確度進行校準,同時對氣路的氣密性也要進行檢查。在實際維護中氧量分析儀會出現(xiàn)各類故障,根據(jù)故障現(xiàn)象將引起儀器故障分為外部故障和內(nèi)部故障。
3.1氧量分析儀常見外部故障處理
氧化鋯氧量測量系統(tǒng)運行時間過長,因其所處位置溫度較高、配件老化等原因,會出現(xiàn)法蘭墊、標準氣入口等部位松動、漏風。因此,必須對氧化鋯氧量測量系統(tǒng)進行定期維護,同時要經(jīng)常觀察氧量的變化情況,發(fā)現(xiàn)顯示異常要及時處理。
3.1.1密封性問題 氧量測量裝置通過與焊接在煙道壁上的發(fā)蘭盤相連而固定的,同時為了防止外層套管被煙氣長期沖刷而磨穿,加裝了耐磨陶瓷保護管,其安裝示意圖如圖3所示,兩法蘭盤之間通過石棉墊片進行密封。該處法蘭接頭處漏氣會影響測量精度或造成信號波動,對輸出電勢影響較大,因為氧濃差電勢與含氧量成指數(shù)曲線關(guān)系,氧量稍有變化,會引起較大電勢變化。
4.83% 5.08% 4.86% 5.40% #2爐現(xiàn)氧量
5.13% 5.32% 4.97% 5.02% #3爐現(xiàn)氧量
5.4% 6.13% 6.28% 6.39% 表1:四臺鍋爐進出口氧量對比數(shù)據(jù)表
分析上表,發(fā)現(xiàn)空預器出口氧量基本和空預器進口氧量相同,故空預器出口氧量測量明顯不正確。后通過燃燒效率分析儀testo-350對現(xiàn)場進行氧量分析,與原在線氧量值對比,發(fā)現(xiàn)空預器出口氧量測量裝置安裝位置不好,利用停機檢修逐一對出口氧量測點進行移位改造,見圖5所示。改進前的原氧量測點位于鍋爐空預器出口折角的上部,這一部位很容易形成煙氣死角,
煙氣流的阻力較大,造成原在線測點處煙氣的流通性不好。改造后的氧量測點位于尾部煙道后,此處煙氣流速較高,不易積灰,煙氣流通性好,氧化鋯探頭易接觸到最新鮮的煙氣。移位后出口氧量測點的在線氧量顯示值與試驗測點所測氧量值跟蹤對應良好。
4、
結(jié)束語
煙氣中的氧量過高或過低,都嚴重影響鍋爐安全經(jīng)濟運行,為了提高煙氣中含氧量的測量準確度,必須對氧化鋯氧量測量系統(tǒng)進行定期維護,同時要經(jīng)常檢查在線氧量的變化情況,發(fā)現(xiàn)顯示異常要及時處理。
常用型號
1.P/N: 90253VE E
2.P/N: 70049SE
3.P/N: 90219VE
4.72346SE AMETEK
5.3006JE
6.33010JE
7.33169JE
8.5780UE
9.P/N (100-1662)
10.300-2070
1.P/N : 880042001
2.P/N : 202813026
3.P/N : 200887001
4.P/N : 202813026
5.P/N : 880033901
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35.880 042 001
36.202 813 026
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41.74422SE
42.71785SE
43.80485SE
44.5385WE
45.42152je
油田天然氣:
美國 NOV 國民油井旗下 varco 華高頂驅(qū)配件、德瑞克、DERRICK(篩網(wǎng)、電機都是全國
最低價)、馬丁戴克、VAL-TEX 注脂槍、marantz 馬蘭士對講機、Nordstrom 注脂槍、
DELTA、MagTech 液位計、ITALVIBRAS 電機、庫美(KOOMEY)、Tesco、CANRIG 等頂驅(qū)配
件、Cameron 卡梅隆計量器、SWACO 離心機配件、HALLIBURTON(哈 里伯頓)、Druck 德
魯克、ENRAF 雷達液位計、馬丁電機、 威創(chuàng) VIATRAN 傳感器、密析爾 MICHELL 露儀
(MDM300IS 現(xiàn)貨)、海德瑞(HYDRA RIG)、美國 SPM、FMC、等進口 油田品牌配件,國
內(nèi)油田用的進口品牌基本都有,中海 油、中石化都有入網(wǎng)資格。
煤礦相關(guān)配件:
ITALVIBRAS 振動電機、AVITEQ 振動電機、FRIEDRICH 振動電機、 德瑞克 DERRICK 電機
、德瑞克 DERRICK 篩網(wǎng)、歐力臥龍振動電 機、德國 mogensen(摩根森)篩網(wǎng)、電機、
SCHENCK(申克)德 國激振器、美國 CONN-WELD 康威德激振器、馬丁電機、Kem-Tr on(坎
特龍)振動電機、MASTERVOCT 電機、等。
工程機械:
卡特彼勒配件、GARLOCK 卡洛克油封、底特律、沃爾沃、肯沃斯、萬國、德科瑞美、
DOLLINGER、威伯科 WABCO 、 圖爾克、漢森、天馬、GAC、等。
海事產(chǎn)品:
PLT 拋繩器、米森(MISSION)、荷蘭 ORGA 燈、WOLFLITE狼牌、格拉馬克 GLAMOX、莫爾
斯 TIDELAND 等海上作業(yè) 平臺照明導航系列、BILLY PUGH 救生衣、COLTIR SUB 空壓機、
PALFINGER 克令吊、FMC、SPM 泵閥等船舶配件 及其它海事用品。
液壓產(chǎn)品:
勝凡 SUNFAB 泵(現(xiàn)貨)、美國 CAT 貓牌泵(現(xiàn)貨)、哈威泵代理、意大利 GALTECH 齒
輪泵、voith 福伊特齒輪泵、 馬祖奇泵、WABCO 威伯科泵、法國 HYDRO-LEDUC 柱塞泵、
福鳥泵、美國派克 parker 泵(幾個系列很有優(yōu)勢)、英格索蘭泵、Brinkmann 泵、Comet
慧星泵、奧蓋爾 OILGEAR、 英格索蘭馬達、SPECK 柱塞泵、威格士、KTI、UFM 流量
計、CR、FAG、NATIONAL 流量計等液壓件、等液壓元件。
安防警報:
泰科 tyco、MEDC、E2S、德國 FHF、DNH 報警器、諾蒂菲爾、AUTRONICA 防爆按鈕、
Apollo 火災報警探頭、等。
儀器儀表:
MURPHY 摩菲儀表、NOSHOK 壓力表、VDO 儀表、MC DANIEL壓力表、馬丁戴克儀表油、SPM
振動傳感器、馬達戴克 傳感器、Dynalco 傳感器、AUXITROL 傳感器、等進口品 牌儀器儀
表。
聯(lián)系人:尤工
座機:
手機:15059511360
QQ:2851519514
郵箱:2851519514@qq.com
地址:泉州市展覽城二期A棟
集團公司:泉州市雙環(huán)貿(mào)易發(fā)展有限公司
測試目的:主要測試鏡片的抗顆粒破壞性能,要求將鏡片以一定速度旋轉(zhuǎn)(250±10r/min),與一定量的石英砂(3kg)發(fā)生摩擦,進而觀察鏡片的受損情況。
測試方法:
1.將鏡片固定于儀器內(nèi)的吸盤上;
2.啟動儀器,轉(zhuǎn)動吸盤,使鏡片以250±10r/min的速度旋轉(zhuǎn),將3kg石英砂從儀器頂部漏斗中倒入,使其慢慢漏完;
3.關(guān)掉電源,取下鏡片,觀察鏡片受損狀況。
關(guān)鍵參數(shù):
1. 導管長度:1650mm
2. 導管直徑:120±3mm
3. 試樣座角度:45±1°
4. 吸盤打轉(zhuǎn)速度:250±10r/min
5. 網(wǎng)眼:1.6mm
6. 電源:AC100~240V 50/60Hz
7 尺寸:46×47×227 CM(長×寬×高)
8. 重量:55 Kg9.
低損耗激光鏡片 鍍金屬膜鏡片 激光用濾光片 多功能帶寬鏡片
納秒皮秒激光鏡片 飛秒激光光學元件 飛秒激光反射鏡 超快激光鏡片及組件 負色散鏡 GT干涉鏡
LAYERTEC公司于1990年成立于德國,是世界頂尖的光學鏡片OME廠。憑借多年在光學領(lǐng)域中對飛秒激光鏡片的研究開發(fā)以及設(shè)計生產(chǎn),LAYERTEC的飛秒鏡片性能品質(zhì)不僅十分出眾,在功能方面也多種多樣。
深圳維爾克斯光電是LAYERTEC中國供應商,專供應其公司的所有型號系列。光學鏡片應用波長范圍從VUV(157nm)到NIR(4µm)。
LAYERTEC主要產(chǎn)品包括:各種波長的納秒、皮秒、飛秒、連續(xù)激光反射鏡,以及研究應用的激光濾光片,多功能寬帶鏡,負色散鏡,GT干涉鏡等
常應用于科研以及工業(yè)上基本所有的主流光學領(lǐng)域,鏡片的材質(zhì)也根據(jù)功能多種選擇,有YAG,Sapphire,CaF2,IR-fused silica,Fused Silica,BK7,尺寸大部份為0.5英寸-2英寸。
NanosecondLaserOptics、Picosecond Laser Optics、Femtosecond Laser Optics
cw and ns Laser Optics、Low Loss Laser Optics、Multipurpose Broadband Mirrors
Metallic Mirrors、 Filters for Laser Applications、Uncoated Optics
主要優(yōu)點是:高透反率、低損耗和高損傷閾值。
飛秒激光光學元件按照其工作特行來劃分,主要包含以下幾類:
·標準飛秒激光光學元件·寬帶飛秒激光光學元件·倍頻程帶寬飛秒光學元件
·銀鏡·高功率飛秒激光光學元件·鈦藍寶石倍頻飛秒激光光學元件
·鈦藍寶石三倍頻飛秒激光光學元件·鈦藍寶石高次諧波飛秒激光光學元件
·gires-tournois干涉儀鏡·1100-1600nm飛秒激光激光光學元件
Layetec提供的納秒激光反射鏡規(guī)格如下:
HR(0°,157nm)>=92% |
HR(0°,193nm)>96% |
HR(9°-12°,193nm)>96% |
HRr(0°,260nm)>99.5% |
HRr(0°,266nm)>99.5% |
HR(0°,355nm)>99.9% |
HR(0°,355nm)>99.85% |
HRs,p(8.5°, 355nm)>99.75% + Rs,p(8.5°, 532nm)<0.5% + Rs,p(8.5°, 1064nm)<5% (high power) |
HRs,p(0-20°, 355nm)>99% + HRs,p(0-20°, 532nm)>99% + Rs,p(0-20°, 1064nm)<1% |
HR (0°, 515-532nm) >99,9% + R (0° , 1030-1064nm) <1% |
HR(0-10°, 532nm)>99.8% + R(0-10°, 1064nm)<1% (High Power) |
|
HRr(45°,193nm)>95% |
HRs(45°,213nm)>97% + Rp(45°,266nm)<2% + Rs(45°,532nm)<10% + Rp(45°,1064nm)<2% |
HRr(45°, 248nm)>98% (fluoridic) |
HRr(45°,248nm)>99% |
HRr(45°,248nm)>99% + Rr(45°,355+848nm)<10% |
HRs(45°,266nm)>99.5% + Rp(45°,532+1064nm)<2% + Rs(45°,532+1064nm)<10% |
HRr(45°, 308nm)>99.5% |
HRr(45°, 308nm)>99.8% |
HRs(45°,343nm)>99.9% + Rp(45°,515nm)<0.2% + Rs(45°,1030nm)<0.2% |
HRr(45°,351nm)>99.5% |
HRr(45°, 355nm)>99.5% |
HRr(45°, 355nm + 532nm)>99.5% |
TFP(45°,355nm) Rs>99.5% Rp<2% |
HRp(45°, 355nm)>99.8% + Rs(45°, 532nm)<1% + Rp(45°, 1064nm)<1% |
HRs,p(45°, 532nm)>99.8% + Rs,p(45°, 1064nm)<2% (high power) |
HRs,p(45°,1030nm)>99.96% (Zero Phase Shift) |
HRr(45°,1030nm)>99.98% (High Power) |
HRs(45°, 1030-1064nm)>99.9% (High Power) |
HRr(45°, 1064nm)>99.9% |
HRr(45°, 1064nm + 532nm)>99.8% + HRr(45°,355nm)>99.4% |
HRr(45°,1064nm)>99.9% + Rr(45°,532nm)<10% |
HRr(45°,1064nm)>99.9%+HTr(45°, 532+808nm)>90% |
HRs(22.5°,343nm)>99.8% + Rp(22.5°,515nm)<1% + Rs(22.5°,1030nm)<1% |
TFP(56°, 355nm) Rs>99.5% Rp<2% |
TFP(56°(±3°)*, 532nm) Rs>99.8% Rp<2%, (±3°)* angle adjustment |
PR(0°, 650-720nm)=80±5% + R(0°, 740-950nm)<10% (analogous F0305017) |
PRr(45°,193nm)=30+/-3% |
PRr(45°,248nm)=50±3% |
PRs,p(45°,532nm)=50±5%, |Rs-Rp|<5% |
PRp(45°, 1030-1064nm)=30.0±2% 由于字數(shù)限制,更多型號咨詢可隨時聯(lián)系維爾克斯光電工作人員。
|
HR(0°,343nm)>99.7% + R(0°,515+1030nm)<1% (ps-pulses) | |
HR(0°, 515nm)>99.9% (high power) | |
HR(0°,532nm)>99.9% (High Power) | |
HR(0°,750-850nm)>99.9% (high power for ps-pulses) | |
HR(0°,970-1090nm)>99.9% (High Power for ps-Pulses) | |
HRr(0-20°,970-1090nm)>99.95% (high power) | |
HR(0°, 980-1090nm)>99.98% (High Power für ps-Pulse) | |
HR(0°,990-1070nm)>99.98% (High Power für ps-Pulse) | |
HR(0-10°, 1030±30nm)>99.98% (High Power ps-Pulse) | |
HR(0°,1000-1100nm)>99.98% (High Power für ps-Pulse) | |
HR(0°,1030nm)>99.98% (High Power) | |
HR(0°,1030±30nm)>99.98% (High Power for ps-Pulses) | |
HRr(0-20°,970-1090nm)>99.95% (high power for ps-pulses) | |
HR(0°,1030-1064nm)>99.9% (High Power) | |
HR(0°,1064nm)>99.98% (High Power für ps-Pulse) | |
HRr(22.5°,1010-1070nm)>99.9% (High Power) | |
Ag + Multilayer, HRr(0-45°, 1020-1040nm)>99.9% | |
HRr(45°,213nm)>95% (HRs(45°,208-218nm)>97%, HRp(45°,213nm)>93%) (fluoridisch) | |
HRs(45°,343nm)>99.9% + HRp(45°,343nm)>99.7% | |
HRp(45°, 355nm)>99.0% + Rs(45°, 532nm)<3% + Rp(45°, 1064nm)<2% | |
HRp(45°, 355nm)>99.5% + Rs(45°, 532nm)<5% + Rp(45°, 1064nm)<5% | |
HRr(45°, 515nm)>99.9% (High Power for ps-pulses), T>0.05% | |
HRs,p(45°,515nm)>99.9% (High Power für ps) | |
HRs,p(45°,515nm)>99.9% + Rs,p(45°,1030nm)<2% | |
HRs(45°,515nm)>99.95% + Rp(45°,1030nm)<1% (high power) | |
HRr(45°,532nm)>99.9% (High Power for ps) | |
HRr(45°,1030±40nm)>99.9% (High Power for ps-Pulses) | |
HRr(45°, 1030±40nm)>99.9% (High Power für ps-Pulse), T>0.05% with HRr~99.95% => |Rs-Rp|~0.1% | |
HRr(45°,990-1070nm)>99.98% (High Power für ps-Pulse) | |
HRr(45°,1030±40nm)>99.9% + PRr(633-655nm)>80% (High Power für ps-Pulse) | |
HRr(45°, 1030nm)>99.9% (High Power für ps-Pulse), T>0.05% | |
HRr(45°, 1030nm)>99.98% (High Power for ps-pulses) | |
HRr(45°, 1030nm + 515nm)>99.9% (high power) | |
TFP(45°, 1030nm) Rs>99.9% Rp<2% | |
TFP(55°, 1030nm), Rs>99.9%, Rp<1% | |
PR(0°,1030nm)=75±2% | |
PR(0°,1030nm)=77±2% | |
PR(0°,1030nm)=79±2% | |
PR(0°,1030nm)=81±2% | |
PR(0°,1030nm)=83±2% | |
PR(0°,1030nm)=85±2% | |
PR(0°,1030nm)=87±2% | |
由于字數(shù)限制,更多型號咨詢可隨時聯(lián)系維爾克斯光電工作人員。
三、飛秒激光反射鏡 Femtosecond Laser Optics
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HR(0°, 580-1020±10nm)>99.8%, GVD-oscillation(700-1000nm)~-100...0fs2 | |
HR(0°, 580-1030±8nm)>99.9%, GVD(650-1000nm)~ -50fs2±20fs2 , (GVD-oszillation compensated) | |
HR(0°, 580-1060±8nm)>99.8%, GDD - oscillation~-120...+40fs2 | |
HR(0°, 600-700nm±6nm)>99.9%, GVD<20fs2 | |
both mirrors: HR(0°, 600-900nm)>99.8%, GVD (600-900nm)~ -45fs2±20fs2, (GVD-Oscillation compensated, see data sheet) | |
HR(0°, 600-930nm)>99.9%, GVD(700-950nm)~ -65±20fs2 (GVD-Oszillation compensated) | |
HR(0°, 600-980nm)>99.9%, GVD(700-880nm)~-100fs2...+40fs2 | |
HR(0°, 610-1030nm±10nm)>99.8% | |
HR(0°, 620-720nm±5nm)>99.9% | |
HR(0°, 620-900±8nm)>99.9%, GVD(700-900nm)~ -65±20fs2(GVD oscillation compensated) | |
HR(0-12°, 620-1000±7nm)>99.8%, GVD(680-900nm)~-60±20fs2 | |
HR(0°, 620-1000nm)>99.85%, GDD(0°, 700-1000nm)~ -50±20fs2, GDD - osz. compensated | |
HR(0°, 620-1050nm)>=99.9% + R(0°, 490-540nm)<5%, GDD(680-1020nm)~ -50+/-20fs2, (GDD-oszillation compensated) | |
HR(0°,620-1080nm)>99.9% + R(0°,488-532nm)<5% | |
HR(0°, 620-1120±10nm)>99.9%, GD optimized | |
HR(0°, 630-980nm)>99.7% + R(0°, 515-545nm)<10%, GDD(700-1020nm)~ -70+/-30fs2, (GDD-oszillation compensated) | |
HR(0°, 630-1100±8nm)>99.8% + R(0°, 480-540nm)<10% | |
HR(0°, 630-1140+/-10nm)>99.85%, GVD~-200fs2....100fs2 | |
HR(0°, 630-1200nm)>99.8%, |GDD-R(0°, 650-1150nm)|<400fs2 | |
HR(0°,640-1000nm)>99.8% + R(0°,(510-545)±5nm)<15%, GDD(720-1000nm)~ -70±30fs2, (GDD-oscillation compensated) | |
HR(0°, 630-1000nm)>99.8% + R(0°, 510-550nm)<10%, GVD(720-1020nm)~ -70±30fs2 | |
HR(0°, 640-1080+/-8nm)>99.9% + R(0°, 490-540+/-5nm)<5%, GVD~ -200...+100fs2 (GVD optimized for OPO-application) | |
HR(0°, 650-860±7nm)>99.9%, GVD(770-795nm)~-550±75fs2 | |
HR(0°, 650-900±5nm)>99.9%, GVD(700-900nm)~ -100±30fs2 , (GVD-oszillation compensated) | |
HR(0°, 650-900±8nm)>99.9%, GVD~-150fs2....0fs2, with smoothed GD | |
HR(0°, 650-1100nm)>99.8%, GD optimized | |
HR(0°, 650-1070±8nm)>99.9%, GVD(740-980nm)=-70±30fs2 | |
HR(0°,650-1100nm)>99.8% + R(0°,488-532nm)<5% | |
HR(0°,660-980nm±10nm)>99.7% + R(0°,500-550nm)<5%, GVD~-50±20fs2(730-1000±10nm) | |
HR(0°, 660-1050nm)>99.9%, High Power optimized (780-850nm) | |
booth mirrors HR(0°, 660-1060nm)>99.8%, GDD(730-970nm)= -70±20fs2, (GDD-Oszillation compensated) | |
HR(0°, 660-1100±9nm)>99.8%, GVD(740-1010nm)=-70±20fs2 | |
HR(0°,660-1130nm±10nm)>99.9%, GVD(780-1010nm)~ -120fs2...+40fs2 | |
HR(0°, 660-1130+/-8nm)>99.9% + R(0°, 510-550+/-5nm)<5%, GVD~ -200...0fs2 (GVD optimized for OPO-application) | |
HR(0°,660-1150nm)>99.9% + R(0°,480-560nm)<5% | |
HR(0°,670-1000nm)>99.8%, GVD(700-970nm)=-60±20fs2 | |
HR(0-5°, 670-1020nm)>99.8%, GDD Osz. compens. (0-5°, 730-850nm) ~-500...+750±100fs2, TOD opt. | |
HR(0-5°, 670-1040nm)>99.8%, GDD Osz. compens. (0-5°, 770-990nm) ~-120±30fs2 | |
HR(0°, 680-890±7nm)>99.8%, GVD (0°, 720-880nm)~+100±30fs2 | |
HR(0°, 680-890±7nm)>99.8%, GVD (0°, 720-880nm)~+80±30fs2 | |
HR(0°,680-1100nm)>99.8%, not GVD optimized | |
HR(0°,680-1100nm)>99.8% + HT(0°,488-532nm)>90% | |
HR(0°,690-820nm)>99.9% + R(0°,488-532nm)<5%, GVD<20fs2 | |
HR(0°,690-880nm±10nm )>99.9% + R(0°,500-550nm)<2%, GVD<20fs2 (710-870±10nm) | |
HR(0°, 690-890±5nm)>99.9% + R(0°, 532nm)<2%, GDD(0°, 700-880±10nm)~0fs2 | |
HR(0°,690-960nm±10nm)>99.9% + R(0°,500-540nm)<5%, GDD~0fs2(690-880±10nm) | |
HR(0°,700-840nm)>99.95%, GVD<20fs2 | |
HR(0°, 700-850nm)>99.8% + HT(0°, 514-532nm)>95%, GVD~0fs2 | |
HR(0°,700-870±7nm)>99.9%, |GDD|<40fs2 | |
HR(0°, 700-870±8nm)>99.9%, GDD=-40±15fs2(725-880nm) | |
HR(0°, 700-880±8nm)>99.9% + R(0°, 450-550nm)<2%, GVD<20fs2 (710-870±8nm) | |
HRr(0-45°,700-890±10nm)>99.9% (not GVD-optimized) | |
HR(0°,700-900nm)>99.8%, GDD<40fs2 | |
HR(0°,700-900nm)>99.9%, GVD(700-900)~ -50±20fs2 (GVD-oscillation compensated) | |
HR(0°, 700-900nm)>99.9%, GVD(780-805nm)~-550±50fs2 | |
HR(0°,700-900nm)>99.9%, GVD<40fs2 | |
HR(0°,700-900nm)>99.8% + R(0°,532nm)<2%, GDD~0fs2 | |
HR(0°, 700-950±5nm)>99.9% + R(0°, 505-535nm)<10%, GVD~ -50±20fs2(680-940±5nm) | |
HR(0°, 700-970nm)>99.85%, GDD(700-950nm)~ -60....-30fs2 (GDD - oscillation compensated and TOD optimized) | |
HR(0°,700-980nm)>99.9% + R(0°,510-532nm)<10%, IGDD(R,0°,710-870nm)I<30fs2 | |
HR(0°,700-1000nm)>99.9%, GDD-R(0°,700-1000nm)=-50±50fs2 | |
HR(0°,700-1030nm)>99.8%, GVD(730-1000nm)=-60±20fs2 | |
HR(0°, 705-920±8nm)>99.9%, GVD~-40±15fs2 | |
HR(0°, 710-850±8nm)>99.9% + R(0°,350-400±5nm)<3% | |
HR(0°,710-860nm)>99.9% + R(0°,480-570nm)<2%, GVD<20fs2 | |
HR(0°, 710-880±5nm)>99.9%, GDD<20fs2 | |
由于字數(shù)限制,更多型號咨詢可隨時聯(lián)系維爾克斯光電工作人員。
我公司提供的眼鏡片硬度計專用于測量樹脂片與玻璃片制做的眼鏡片的硬度測量,也可用于PVC管,人造大理石,石器亞克力衛(wèi)生潔具,等的硬度測量,它以特定壓頭在標準彈簧的壓力作用下壓入試樣,以壓痕的深淺表征試樣的硬度。硬度計有100個刻度,每個刻度代表壓入 0.0076mm 的深度.測量,使用方便,是各生產(chǎn)單位、計量部門在質(zhì)量認證、質(zhì)量監(jiān)控、計量測試等方面的專用檢測儀器.
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光學實驗中,用于夾持不同尺寸矩形鏡片。
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