OTS正邦測試儀器（東莞）公司銷售烘箱測試機(jī)烘箱適用于烘烤有化學(xué)性氣體及食品加工行業(yè)的欲烘烤物品、基板應(yīng)力的去除、油墨的固化、漆膜的烘干等。廣泛使用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、PC板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材……等等的精密烘烤、烘干、回火、預(yù)熱、定型、加工等。
主要參數(shù):
工作室溫度范圍 室溫~250℃特殊可達(dá)350-400℃
工作室含塵濃度 ≥0.5UM塵粒≤3.5顆/升
工作室內(nèi)凈尺寸 寬650×高620×深430（MM）
外開尺寸 寬790×高1400×深915（MM）
電源 380V 50hz
功耗 4KW，風(fēng)機(jī)功率 180W
控溫精度 ±1℃
1.真空環(huán)境大大降低了需要驅(qū)逐的液體的沸點(diǎn),所以真空干燥箱可以輕松應(yīng)用于熱敏性物質(zhì)。
2.對于不容易干燥的樣品,例如粉末或其他顆粒狀樣品,使用真空干燥法可以縮短干燥時(shí)間。
3.各種構(gòu)造復(fù)雜的機(jī)械部件或其他多孔樣品經(jīng)過清洗后使用真空干燥法,干燥后不留任何參與物質(zhì)。
4.使用更安全－－在真空或惰性條件下,消除氧化物遇熱爆炸的可能。
5.與依靠空氣循環(huán)的普通干燥相比,粉末狀樣品不會(huì)被流動(dòng)空氣吹動(dòng)或移動(dòng)。
OTS正邦測試儀器（東莞）公司成立至今,一直于研發(fā)制造烘箱、電爐、高低溫試驗(yàn)箱、電熱恒溫鼓風(fēng)干燥箱、工業(yè)烤箱、印制板烘箱、潔凈烘箱、高溫烘箱、充氮烘箱、光電元件干燥箱、電焊條烘干箱、電力電容器烘干箱、臺(tái)車烘箱、電熱密閉烘箱.本廠匯集了一批高層次.高素質(zhì)的專業(yè)人才，采用的管理經(jīng)驗(yàn)，建立了完整的質(zhì)量體系。公司技術(shù)力量雄厚、工藝裝備、制造經(jīng)驗(yàn)豐富、產(chǎn)品質(zhì)量、售后服務(wù)周到，擁有專業(yè)的生產(chǎn)和管理人員，的產(chǎn)品試驗(yàn)設(shè)備，檢測儀器和加工設(shè)備。并具有豐富的設(shè)計(jì)制造經(jīng)驗(yàn)和完善的售后服務(wù)體系，多年深受用戶信賴。
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上海松安制冷技術(shù)有限公司 劉先生 銷售工程部經(jīng)理 地址: 上海市中山北路311號 郵編: 200070
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本公司是一家集研發(fā),生產(chǎn),銷售,服務(wù)為一體的高新技術(shù)企業(yè).致力于客戶提供科技優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品.產(chǎn)品性能的可靠性,安全性等各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到行業(yè)規(guī)定的一流標(biāo)準(zhǔn),繼而被各界合作單位認(rèn)同知名企業(yè).電話:/31314396
【林頻】是臺(tái)式烘箱的專業(yè)生產(chǎn)廠家,公司同時(shí)還生產(chǎn)各種標(biāo)準(zhǔn)及非標(biāo)的環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備！產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空航天、大專院校、質(zhì)檢科研單位、汽摩行業(yè)、電子電工、通迅設(shè)備、電鍍涂層、汽車飾件等眾多領(lǐng)域。獲得廣大新老客戶高度贊揚(yáng)！
以下是關(guān)于"臺(tái)式烘箱"的相關(guān)資料,請參考:
型號:DHG-9023A 工作室尺寸:340×325×300 外型尺寸:620×540×490 功率：870W型號:DHG-9030A 工作室尺寸:340×320×320 外型尺寸:620×538×490 功率：870W型號:DHG-9053A 工作室尺寸:420×395×350 外型尺寸:700×610×520 功率：1120W型號:DHG-9070A 工作室尺寸:450×400×450 外型尺寸:740×618×630 功率：1570W型號:DHG-9140A 工作室尺寸:550×450×550 外型尺寸:840×670×730 功率：2070W型號:DHG-9240A 工作室尺寸:600×500×750 外型尺寸:880×720×930 功率：2470W
一、技術(shù)指標(biāo)1、溫度范圍：RT+10℃～250℃/RT+10℃～300℃2、控制精度：±1％（滿量程）3、恒溫波動(dòng)度：±1℃4、溫度分辨率：0.1℃5、升溫速率：2.0～8.0℃/min6、溫度定時(shí)范圍：1-9999M7、載物托盤：2（PCS）8、電源要求：AC220V 50Hz
二、箱體結(jié)構(gòu)1、試驗(yàn)箱設(shè)計(jì)完美，箱體采用數(shù)控機(jī)床加工成型，操作容易；2、設(shè)有雙層玻璃觀察窗，供觀察工作室狀況之用；3、內(nèi)膽為優(yōu)質(zhì)鏡面不銹鋼板，外殼為A3板噴塑處理，更顯光潔、美觀；4、電路系統(tǒng)側(cè)采用門式開啟，方便維護(hù)和檢修；5、送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)采用低噪音、長壽命、空調(diào)型美國進(jìn)口風(fēng)機(jī)，風(fēng)輪為多翼式離心風(fēng)葉。熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)由能在高溫下連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的風(fēng)機(jī)和合適的風(fēng)道組成。工作室內(nèi)溫度均勻。
三、控溫系統(tǒng)溫度控制器采用觸摸按鍵、數(shù)顯LED顯示、P.I.D智能控制儀表；精度：0.1℃（顯示范圍）；解析度：±0.1℃；感溫傳感器：PT100鉑電阻測試器；控制方式：熱平衡調(diào)溫方式。
四、保溫系統(tǒng)保溫系統(tǒng)采用超細(xì)玻璃纖維填充保溫區(qū),內(nèi)外膽連接部位采用非金屬耐高溫材料,有效降低高溫度傳導(dǎo)。
1、供 貨 期: 收到預(yù)付款后3個(gè)工作日內(nèi)發(fā)貨；2、付款方式: 面議或電詢；3、送貨方式：通過汽運(yùn)或托運(yùn)免費(fèi)送貨上門；4、售后服務(wù)：保修壹年，終生維護(hù)，每半年一次不定期保養(yǎng)。
主營產(chǎn)品:鹽霧試驗(yàn)箱/二氧化硫試驗(yàn)箱/高低溫試驗(yàn)箱/高溫試驗(yàn)箱/低溫試驗(yàn)箱/溫度沖擊試驗(yàn)箱/恒溫恒濕試驗(yàn)箱/紫外耐候試驗(yàn)箱/氙燈試驗(yàn)箱/換氣式老化試驗(yàn)箱/砂塵試驗(yàn)箱/箱式淋雨試驗(yàn)箱/擺管淋雨試驗(yàn)裝置/滴水試驗(yàn)裝置/臭氧老化試驗(yàn)箱/霉菌試驗(yàn)箱/鹽霧試驗(yàn)室/ 高低溫試驗(yàn)室/振動(dòng)試驗(yàn)臺(tái)/防銹油脂濕熱試驗(yàn)箱/精密干燥試驗(yàn)箱/高溫箱/真空烘箱/大型步入式試驗(yàn)箱/藥品穩(wěn)定性試驗(yàn)箱/臺(tái)式氙燈老化試驗(yàn)箱/鹽霧恒溫恒濕高溫試驗(yàn)箱/溫度老化室/鹽霧試驗(yàn)箱/高低溫試驗(yàn)箱/恒溫恒濕試驗(yàn)箱/溫濕度振動(dòng)試驗(yàn)箱
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是至關(guān)重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，而涂膠工藝的好壞，直接影響到光刻的質(zhì)量，所以涂膠也顯得尤為必要，尤其在所刻線條比較細(xì)的時(shí)候，任何一個(gè)環(huán)節(jié)有一點(diǎn)紕漏，都可能導(dǎo)致光刻的失敗。在涂膠工藝中，所用到的光刻膠絕大多數(shù)是疏水的，而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，如果在晶片表面直接涂膠的話，勢必會(huì)造成光刻膠和晶片的粘合性較差，甚至造成局部的間隙或氣泡，涂膠厚度和均勻性都受到了影響，從而影響了光刻效果和顯影。
為了解決這一問題，涂膠工藝中引入了一種化學(xué)制劑，即HMDS，它的英文全名叫Hexamethyldisilazane（HMDS），化學(xué)名稱叫六甲基二硅氮甲烷，把它涂到硅片表面后，通過加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主題的化合物，這實(shí)際上是一種表面活性劑，它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起到耦合的作用，再者，在顯影的過程中，由于它增強(qiáng)了光刻膠與基底的粘附力，從而有效地抑制刻蝕液進(jìn)入掩模與基底的側(cè)向刻蝕。 最初，人們用液態(tài)的HMDS直接涂到晶片上，然后借著晶片的高速旋轉(zhuǎn)在晶片表面形成一層HMDS膜。這樣就階段性的解決了基片和光刻膠之間的結(jié)合問題，但隨著光刻線條的越來越細(xì)，膠的越來越薄，對粘附力提出了更高的要求，于是我們研制出了現(xiàn)在的HMDS預(yù)處理系統(tǒng)。
2 HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的優(yōu)越性
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)在于：
（1）預(yù)處理性能更好，由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有著更好的處理效果。
（2）處理更加均勻。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
（3）效率高。液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)多盒的晶片。
（4）更加節(jié)省藥液。實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理多盒晶片所用藥液還多；
（5）更加環(huán)保和安全，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對環(huán)境造成污染。
3系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
整個(gè)系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等5部分組成。
3.1加熱模塊
由于工藝的整個(gè)過程都需要在150℃左右的環(huán)境下進(jìn)行，所以自始至終加熱系統(tǒng)都在工作。
本系統(tǒng)采用在腔體外側(cè)加熱，采用人工智能PID調(diào)節(jié)儀實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制，調(diào)節(jié)儀控制固態(tài)繼電器的輸出，從而實(shí)現(xiàn)溫度的精確穩(wěn)定控制，測溫采用通用的高精度熱敏電阻Pt100。
3.2真空模塊
由機(jī)械泵、真空組件、真空測量等組成，主要作用是置換氣體和抽走剩余的HMDS蒸汽，不再贅述。
3.3充氮模塊
作用是在置換過程中，用氮?dú)鈦碇饾u稀釋空氣或藥液蒸汽，從而最終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛。
主要由氮?dú)庠、控制閥和噴頭組成。
3.4加藥模塊
加藥模塊的作用是在需要的時(shí)候把藥液變成蒸汽，均勻的涂布到晶片表面。
它主要由藥液瓶，接口、控制閥和噴頭組成。
3.5控制模塊
控制模塊是本系統(tǒng)的核心模塊，它的作用是控制各個(gè)模塊的動(dòng)作和時(shí)序，完成整個(gè)工藝過程。
它主要由人機(jī)界面，CPU控制中心，控制接口和輸出部件，報(bào)警等5部分組成。
人機(jī)界面采用臺(tái)灣威綸通觸摸屏來實(shí)現(xiàn)參數(shù)、狀態(tài)等界面的顯示和參數(shù)的設(shè)定輸入。PLC采用三凌FX系列小型化PLC。
4軟件組成
整個(gè)控制軟件共分4個(gè)部分，即自動(dòng)運(yùn)行、手動(dòng)控制、參數(shù)設(shè)定、幫助。
當(dāng)按下自動(dòng)運(yùn)行鍵后，畫面轉(zhuǎn)換到運(yùn)行畫面，顯示當(dāng)前的工藝狀態(tài)，運(yùn)行時(shí)間等，同時(shí)系統(tǒng)開始運(yùn)行。
首先打開真空泵、開始抽真空、待腔內(nèi)真空度達(dá)到某高真空度（該值可預(yù)設(shè)）后，開始充入氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度（該值也可預(yù)設(shè)）后的再次重復(fù)抽真空、充入氮?dú)獾倪^程，達(dá)到設(shè)定的充入氮?dú)獾拇螖?shù)后再次抽真空，然后充入藥液，達(dá)到設(shè)定時(shí)間后，停止充入藥液，進(jìn)入保持階段。當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開始抽真空、充入氮?dú)，次?shù)為設(shè)定值，當(dāng)系統(tǒng)自動(dòng)工作完成后，畫面切換到結(jié)束畫面，同時(shí)給出聲光報(bào)警等待取片，在自動(dòng)工作過程中若出現(xiàn)異常可點(diǎn)擊運(yùn)行畫面中的停止鍵，隨時(shí)終止程序的運(yùn)行。5、 HMDS-90真空系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
內(nèi)部尺寸：450X450X450
電源： AC220V，功率：3000W
真空度： 常壓到—133pa或1TORR以下
材質(zhì)： 內(nèi)部SUS316電解處理 外殼SS41靜電噴涂。
管路： SUS潔凈管
層架； SUS316材質(zhì)
門內(nèi)板： 鋼化玻璃
流程控制：液晶觸摸屏（臺(tái)灣威綸通）、PLC控制(三菱)，流程可編輯，可以預(yù)存5組程序。（可根客戶要求可以更改流程）
加熱方式：腔體外側(cè)加溫。 溫度：RT+10℃～ 200℃；微電腦溫度控制器，控溫
精確可靠？販鼐龋1℃，真空室溫度均勻
氮?dú)庋b置：氮?dú)膺M(jìn)入箱內(nèi)有調(diào)壓裝置，控制有自動(dòng)閥完成。
HMDS裝置：HMDS藥液進(jìn)入箱內(nèi)采用壓力差吸取瓶內(nèi)HMDS方式，自動(dòng)閥控制
真空泵：抽氣速度4升\秒
工作流程：
首先打開真空泵、開始抽真空、待腔內(nèi)真空度達(dá)到某高真空度（該值可預(yù)設(shè)）后，開始充入氮?dú)，充到達(dá)到某低真空度（該值也可預(yù)設(shè)）后的再次重復(fù)抽真空、充入氮?dú)獾倪^程，達(dá)到設(shè)定的充入氮?dú)獾拇螖?shù)后再次抽真空，然后充入藥液，達(dá)到設(shè)定時(shí)間后，停止充入藥液，進(jìn)入保持階段。當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開始抽真空、充入氮?dú)，次?shù)為設(shè)定值，當(dāng)系統(tǒng)自動(dòng)工作完成后，畫面切換到結(jié)束畫面，同時(shí)給出聲光報(bào)警等待取片，在自動(dòng)工作過程中若出現(xiàn)異？牲c(diǎn)擊運(yùn)行畫面中的停止鍵，隨時(shí)終止程序的運(yùn)行。
| 型號/數(shù)據(jù) | -0 | -1 | -2 | -3 |
| 工作電壓（V） | 220v 50Hz | 220v 50Hz | 220v 50Hz | 220v 50Hz |
| 功率（kw） | 1.6 | 2.4 | 2.4 | 5 |
| 工作室尺寸（mm） | 350×350×350 | 350×450×450 | 450×550×550 | 500×600×750 |
| 控溫范圍（℃） | 室溫+10-250℃ | 室溫+10-250℃ | 室溫+10-250℃ | 室溫+10-250℃ |
| 溫度波動(dòng)（℃） | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 |
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