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最大放大倍數(shù) — 6000x  

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    超薄輸出窗口設(shè)計(jì)使樣品能安全地放置在250μm焦斑范圍內(nèi)，具有高達(dá)6000倍的系統(tǒng)放大倍數(shù)。由于Hawk獨(dú)特的棱錐傳輸（pyramid transmission）X射線目標(biāo)，大基片和PCB板的細(xì)節(jié)放大倍數(shù)甚至在陡峭的視角上仍保持非常高的水平。 

高分辨率 — 微米級(jí)特征 

  嚴(yán)格控制的微焦點(diǎn)X射線焦斑和的CCD成像器技術(shù)了Hawk甚至在最有挑戰(zhàn)性的樣品上也能產(chǎn)生微米級(jí)特征的清晰圖像。單極電子透鏡是計(jì)算機(jī)控制的，以在所有kV設(shè)置時(shí)圖像仍保持清晰（即焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)），使用高功率時(shí)射線靶不會(huì)燒壞。

 高穿透性電壓 — 160kV 

    榮獲專利的X-Tek Xi “開管”X射線源比任何其它設(shè)計(jì)都要小，使厚樣品和密實(shí)樣品內(nèi)的X射線圖像細(xì)節(jié)能夠很容易被觀察到。這種高能真空拆裝式裝置可通過焊接點(diǎn)和吸熱元件在陡峭角度上進(jìn)行觀察，無(wú)需耗盡能量。

 可從任意角度進(jìn)行觀察

     大型碳纖維托盤在X方向和Y方向都可通過手動(dòng)控制或程序控制進(jìn)行移動(dòng)，速度可達(dá)60mm/s，使XT H 160 T 非常適用于更小零部件和組件的批生產(chǎn)。     與樣品一起裝載在定制夾具上的托盤可作為該檢測(cè)系統(tǒng)的一部分，并且可通過大容量的機(jī)器視覺功能庫(kù)進(jìn)行檢測(cè)，這些功能以快捷且易于編輯的方式鏈接在一起。    利用兩個(gè)可編程的精密旋轉(zhuǎn)軸和一個(gè)定制樣品夾具更換該托盤，掃描范圍可達(dá)310mm x 500mm，從而可從樣品周圍360°范圍內(nèi)生成放大倍數(shù)很大的清晰圖像。     對(duì)于零部件封裝檢測(cè)，標(biāo)準(zhǔn)的JEDEC試樣盤或大量IC料條可放入 XT H 160 T的托盤內(nèi)，專用軟件工具可測(cè)量出芯片粘接空洞率和引線彎曲比例。     對(duì)于進(jìn)一步的深入檢測(cè)，可旋轉(zhuǎn)單獨(dú)的料條和射線管，以便發(fā)現(xiàn)分層和環(huán)線問題。

的人體工程學(xué) 

    XT V 160 T在設(shè)計(jì)上易于操作使用，并且不會(huì)降低其性能 。 可調(diào)的活動(dòng)擱板所有系統(tǒng)控件都在操作員可觸及的范圍內(nèi)，無(wú)論操作員是站立的還是坐著的，而且與人的身高無(wú)關(guān)。    Windows控制屏從邏輯上講放置的都是常用功能，且都為單擊按鈕，而精密操縱桿的運(yùn)動(dòng)從樣品操縱器和X射線圖都可以給出直接邏輯響應(yīng)。 該系統(tǒng)使用操作非常直觀，因此大大減少了操作人員培訓(xùn)時(shí)間。

 集成的Inspect-X軟件  

    XT V 160 T裝有進(jìn)的圖像采集和分析軟件。結(jié)果數(shù)據(jù)可以保存或直接導(dǎo)出成MS Word、 Excel和任意其它COM包?？稍诟鞣N噴墨打印機(jī)、激光打印機(jī)或熱升華打印機(jī)上打印出高質(zhì)量照片。 處理硬件和軟件都是內(nèi)部控制的，使技術(shù)上的都可及時(shí)傳遞給用戶，不會(huì)有任何耽擱。 Inspect-X包括一些特殊功能，可用于檢測(cè)半導(dǎo)體封裝空隙、引線接合和BGA 焊料隆起焊盤。 它也使用Microsoft Visual Basic作為腳本/宏語(yǔ)言，以便能實(shí)現(xiàn)快速軟件定制，滿足各種具體檢測(cè)要求。

 運(yùn)營(yíng)成本低 Footprint Efficient     結(jié)構(gòu)緊湊的Xi源為XT V 160 T留出了更多的樣品操縱空間，提供了系統(tǒng)覆蓋區(qū)內(nèi)超大的20” x 14”掃描范圍，這是任何其它“開管”X射線系統(tǒng)無(wú)可比擬的。 

運(yùn)營(yíng)成本低    X-Tek的X射線開管技術(shù)開發(fā)減少了設(shè)備尺寸、減輕了重量，降低了成本并且仍保持了超高質(zhì)量和超高性能。通過引入獲得專利的零維護(hù)無(wú)電纜高壓發(fā)生器，大大減少了預(yù)防性維護(hù)，使其運(yùn)營(yíng)成本顯著低于基于密封管的系統(tǒng)。

特性     該系統(tǒng)是專門制造用于生產(chǎn)環(huán)境中的體積檢測(cè)，即可用于半導(dǎo)體封裝，也可用于PCB板組裝。由于樣品掃描范圍高達(dá)350 x 530mm，因此該機(jī)柜可容納大樣品或零部件托盤。

• 2µm或5µm 焦斑傳輸目標(biāo)X射線源（Focal Spot Transmission Target X-Ray Source）、25～160 kV、0～500 µA（非連續(xù)）、 10 W （5µm）或20 W （2µm）。
• 5kg 容量：三軸可編程操縱器，2kg容量：傾斜和旋轉(zhuǎn)。
• 固定裝置可提供5個(gè)可編程的軸。
• 最大掃描范圍350 x 530mm（310 x 500mm，帶傾斜和旋轉(zhuǎn)固定裝置）
• 最大幾何放大倍數(shù)：2400x。
• 最大系統(tǒng)放大倍數(shù)：5000x。
• 特征識(shí)別分辨率：最小1 μm。
• 外機(jī)柜尺寸：長(zhǎng)1060mm、深350mm、高1955mm。
• 系統(tǒng)控制和圖像處理軟件。

應(yīng)用 

• 半導(dǎo)體封裝
• 封裝空洞（Package Void）檢測(cè)
• 生物樣品
• 塑料樣品

上海浦時(shí)電子科技有限公司聯(lián)系人：李經(jīng)理手機(jī)：156-1888-9180（歡迎您來(lái)電咨詢）郵箱：celery_wang@foxmail.com

AB Sciex API 4000 ™ LC/MS/MS系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)

• 檢測(cè)限：API 4000 系統(tǒng)的靈敏度可以確保較低的檢測(cè)限。

• 靈活選件提高通量：通過易用的 Turbo V 離子源，您可以在寬流速范圍下進(jìn)行定量分析，同時(shí)可在大氣壓化學(xué)電離 (APCI) 和 TurboIonSpray 探針間快速切換?？蛇x的 DuoSpray 離子源可以加快方法開發(fā)速度，并同時(shí)提高分析通量和數(shù)據(jù)質(zhì)量。

• 自動(dòng)采集數(shù)據(jù)：創(chuàng)新型軟件應(yīng)用程序可以自動(dòng)采集 MS 和 MS/MS 數(shù)據(jù)，從而幫助您從單次 LC-MS 分析中提取盡可能多的信息。

• 堅(jiān)固、可靠、易用：創(chuàng)新型 Turbo V 離子源擁有出色的電離效率、可靠性和易用性，得到可靠的結(jié)果。

快速、安全地獲取供 DMPK 研究之用的信息：不僅與 Analyst 軟件集成，而且擁有數(shù)據(jù)采集和處理能力，讓您能夠快速、安全地獲取供 DMPK 研究之用的信息。

Turbo V™離子源－－離子化效率高，靈敏度的定量分析，適應(yīng)寬范圍的液相流速

•LINAC ® 碰撞室技術(shù) －－快速掃描功能

• 氣簾接口－－降低交叉污染，提高離子化效率

• 可適應(yīng)液相的高流速性能－－降低離子抑制現(xiàn)象，自清潔探頭設(shè)計(jì)，接口設(shè)計(jì)為高通量、高效率分析提供了保證

• 可選的DuoSpray™離子源－－快速方法開發(fā)和增加分析通量

• 可選的PhotoSpray ® 離子源－－擴(kuò)展了儀器的應(yīng)用領(lǐng)域

• 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的視窗分析Analyst ® 軟件也是GLP認(rèn)證的工具，也符合21 CFR PART 11法規(guī)

有關(guān)譜質(zhì)：     譜質(zhì)分析檢測(cè)技術(shù)（上海）有限公司是國(guó)內(nèi)二手分析儀器行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者，二手分析儀器租賃專家，公司由原廠專門致力于產(chǎn)品研發(fā)的工程師、為客戶提供技術(shù)支持與銷售服務(wù)的市場(chǎng)人員和商業(yè)專業(yè)人士組成。在國(guó)內(nèi)二手分析儀器領(lǐng)域不斷為用戶提供主流的儀器、技術(shù)與服務(wù)。     譜質(zhì)公司提供多種分析儀器，包括：液相色譜儀、氣相色譜儀、單四級(jí)桿質(zhì)譜儀、三重四級(jí)桿質(zhì)譜儀、離子肼質(zhì)譜儀、飛行時(shí)間質(zhì)譜儀、液質(zhì)聯(lián)用儀、氣質(zhì)聯(lián)用儀、原子吸收光譜儀、等離子體發(fā)射光譜儀、傅立葉變換紅外光譜儀、生命科學(xué)儀器、核磁共振波譜儀、色譜耗材配件、頂空進(jìn)樣器、氣相色譜/質(zhì)譜儀、液相色譜/質(zhì)譜儀等分析儀器，以及Q/TOF、TSQ、LCT、ICP/MS、GC/MS等聯(lián)用儀。    經(jīng)營(yíng)品牌有Agilent（安捷倫）、Waters（沃特世）、Thermo（賽默飛）、AB sciex、Perkin Elmer（珀金埃爾默）、Dionex（戴安）、SHIMADZU（島津）等國(guó)際知名品牌儀器，滿足您的不同需求。

關(guān)于譜質(zhì)的服務(wù)： 1.儀器經(jīng)過專業(yè)工程師維修測(cè)試，具備可以與新機(jī)相媲美的性能狀態(tài)，保證您的科學(xué)實(shí)驗(yàn)流暢運(yùn)行！ 2.得天獨(dú)厚的二手儀器價(jià)格優(yōu)勢(shì)讓您不再為實(shí)驗(yàn)室建設(shè)資金不足而煩惱，節(jié)省出的經(jīng)費(fèi)則可以投入更重要的實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目！ 3.原廠的售后技術(shù)服務(wù)標(biāo)準(zhǔn)為您解決后顧之憂，強(qiáng)大而全面的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您的儀器提供終身維修支持！ 4.充足的儀器庫(kù)存，無(wú)論是液相色譜、氣相色譜、液質(zhì)聯(lián)用、氣質(zhì)聯(lián)用以及儀器的維修配件，均能現(xiàn)貨供應(yīng)！

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低溫TPRx裝置

1、 通過液氮冷浴中蒸發(fā)的氣流和特殊化學(xué)吸附樣品管夾套達(dá)到冷卻目的

2、 高溫爐加熱低溫氣流以達(dá)到控溫目的

3、 低溫TPR測(cè)量可從173K開始。

技術(shù)參數(shù)

Phoenix 總共有五種配置: 5 PHOENIX available •PHOENIX 2000 : 4 burners – 2 samples/cycle •PHOENIX 3000 : 6 burners – 3 samples/cycle •PHOENIX 4000 : 8 burners – 4 samples/cycle •PHOENIX 5000 : 10 burners – 5 samples/cycle •PHOENIX 6000 : 12 burners – 6 samples/cycle      個(gè)數(shù)字代表可以同事處理的樣品數(shù)，例如: Phoenix 6000 表示在一個(gè)循環(huán)中可以處理六個(gè)樣品。一個(gè)樣品循環(huán)根據(jù)樣品材料的不同,時(shí)間一般在5-20分鐘。      從Phoenix 6000/VFD到2000/VFD采用同樣尺寸的腔體.客戶為提高質(zhì)量控制時(shí)增加制樣程序時(shí),這種設(shè)計(jì)可以使制樣簡(jiǎn)單而精確.在這種情形下,客戶可以增加燃燒頭就可以輕易從Phoenix 2000升級(jí)到4000 或 6000. 尺寸: Phoenix 2000-6000/VFD: 高=310 mm 深=630 mm 寬=880 mm 重量= 75 - 90 kg 電源:110 or 240 VAC 50/60 Hz 功率: 720 Watts 氣壓:丙烷(LPG)：50-100 kPa （天然氣: 8-12 kPa） 空氣源: 500 kPa (min) 氧氣源: 400 kPa

主要特點(diǎn)•絕對(duì)的性和完善的技術(shù)服務(wù)支持， •自動(dòng)化和可重復(fù)的樣品準(zhǔn)備， •快速熔融/制片， •微處理最儲(chǔ)存80個(gè)定制程序， •坩鍋和鑄模都有獨(dú)立的火爐和控制功能， •每個(gè)火爐都可精確控溫（從300到1600°C）， •出眾的均質(zhì)性， •牢固耐用，低保養(yǎng)和修理費(fèi)用。 靈活的程序設(shè)置： 每個(gè)程序包括4個(gè)不同步驟，預(yù)加熱(氧化)，熔融，熔融搖擺，冷卻控制； 整個(gè)操控通過一組按鍵和一個(gè)真空熒光顯示屏(藍(lán)綠色)，每個(gè)程序可以通過按鍵輕松導(dǎo)出,屏幕會(huì)顯示每個(gè)單獨(dú)熔融階段的狀態(tài)。

靈活的熔融參數(shù)： 通過控制器可對(duì)所有熔融參數(shù)方便地進(jìn)行設(shè)置: 預(yù)熱溫度和時(shí)間， 熔化溫度和時(shí)間， 搖擺/混合速度和頻率， 模具(鑄造盤)預(yù)熱溫度和時(shí)間， 鑄造前暫停， 鑄造角度,速度和時(shí)間， 預(yù)冷時(shí)間和空氣流速， 冷卻時(shí)間和空氣流速。

儀器介紹

     X射線熒光分析對(duì)于粉末樣品，目前采用直接壓片法制備試樣較為普遍，但由于粒度、礦物、偏析等效應(yīng)的影響，勢(shì)必帶來(lái)分析誤差，降低元素分析的精密度與度，樣品制備已經(jīng)成為一個(gè)主要的誤差因素。玻璃熔融法制成的試樣能消除試樣的粒度、礦物、偏析等效應(yīng)，同時(shí)也可降低樣品元素間的吸收和增強(qiáng)效應(yīng)，會(huì)明顯提高分析的精度和度。對(duì)于ICP、AA和濕法化學(xué)分析手段，對(duì)于難溶樣品，熔融方法同樣是一種非常的制樣手段。