產(chǎn)品特點(diǎn):
專業(yè)全功能過塑機(jī).可做熱塑.冷裱工作使用;
數(shù)碼管顯示.特別適合執(zhí)照證件塑封各種;
恒溫待機(jī),電子風(fēng)冷,過熱自動(dòng)保護(hù);
緊急進(jìn)退等多種安全設(shè)計(jì);
工作膠輥采用硅膠制造,加熱均勻,恒溫穩(wěn)定,可10/J、時(shí)連續(xù)工作;
采用兩套加熱系統(tǒng);
過塑文件無卷曲或氣泡現(xiàn)象;
工作速度.溫度均可自由調(diào)節(jié)。
對于各種介質(zhì)均可做到塑封。
產(chǎn)品參數(shù):
● 最大工作寬度:450mm;
● 最大工作厚度:2mm;
● 工作膠輥數(shù)量:4支;
● 工作速度:150-1600mm/min(10檔調(diào)節(jié));
● 工作溫度:0-180℃(自由設(shè)定);
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美國GRACO進(jìn)口膠泵打膠機(jī)供膠系統(tǒng)15989860007
SS60標(biāo)準(zhǔn)型單軸機(jī)械手
特點(diǎn):■本體寬60mm■高剛性合金底座■重復(fù)定位精度±0.02■扭力平穩(wěn)■可配伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)■性價(jià)比好
■基本規(guī)格
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注:1、安裝方式有三種:a、采用底部安裝槽配M4螺母;b、用壓板壓住側(cè)壓槽;c、底部孔安裝(由內(nèi)往外鎖M4螺釘)2、因行程繁多,此表只統(tǒng)計(jì)了常用行程的機(jī)械手,如您需要的機(jī)械手行程未在本表所列,請與我公司聯(lián)系。3、行程400mm以下為6個(gè)安裝孔,行程400mm以上(含400mm)為10個(gè)安裝孔。4、本體重量為不含電機(jī)重量。5、表中電機(jī)罩尺寸是指當(dāng)電機(jī)不帶剎車時(shí)電機(jī)罩的外形尺寸。
注:1、安裝方式有三種:a、采用底部安裝槽配M4螺母;b、用壓板壓住側(cè)壓槽;c、底部孔安裝(由內(nèi)往外鎖M4螺釘)2、因行程繁多,此表只統(tǒng)計(jì)了常用行程的機(jī)械手,如您需要的機(jī)械手行程未在本表所列,請與我公司聯(lián)系。3、行程400mm以下為6個(gè)安裝孔,行程400mm以上(含400mm)為10個(gè)安裝孔。4、本體重量為不含電機(jī)重量。
MYCRO美國原裝進(jìn)口的旋涂儀,自1985年開始,我們便為提供化工半導(dǎo)體材料清潔涂敷處理等特殊工藝。公司擁有WS系列各類旋轉(zhuǎn)涂敷系統(tǒng),目前客戶已遍布全球。勻膠機(jī)有很多種稱謂,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又稱甩膠機(jī)、勻膠臺(tái)、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)/旋轉(zhuǎn)涂層儀、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機(jī) 旋涂儀、進(jìn)口勻膠機(jī)、臺(tái)式勻膠機(jī)、實(shí)驗(yàn)室勻膠機(jī)、勻膠機(jī)價(jià)格、勻膠機(jī)品牌、晶圓勻膠機(jī)
特色:◆ 科研制備理想的旋涂儀; ◆ 天然聚丙烯或特氟龍材質(zhì)構(gòu)造;◆ 216毫米,318毫米和370毫米三種腔體大小;◆ 可選擇臺(tái)面式,和用于濕站或者手套箱系統(tǒng)的不同構(gòu)造;◆ 最大轉(zhuǎn)速可達(dá)12000RPM;◆ 易編程的數(shù)碼控制器(WS650型控制器);◆ 可升級成為自動(dòng)滴膠型;請根據(jù)您實(shí)際需要的大小和材質(zhì)選擇相應(yīng)的旋涂儀型號: WS-650-23NWS-650-8NWS-650-15N可選配件:自動(dòng)滴膠系統(tǒng)UD3、EBR晶圓去邊系統(tǒng)UD-3B、TFL特氟龍內(nèi)襯、針對不同基片材質(zhì)可定制托盤、單點(diǎn)滴注系統(tǒng)(適用于大劑量滴膠)旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)/旋涂儀超準(zhǔn)的速度控制:我們的臺(tái)式旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)/旋涂儀機(jī)數(shù)碼速度控制器采用的是一個(gè)高計(jì)數(shù)位的光學(xué)編碼器輸入至伺服馬達(dá)控制器,其設(shè)置點(diǎn)精度小于0.006%(遵照美國NIST激光測量標(biāo)準(zhǔn)),無需校準(zhǔn);旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)/旋涂儀內(nèi)包含20個(gè)51步程序段或者手動(dòng)模式,非常方便設(shè)定速度和加速度程序段, 1~10000RPM的穩(wěn)定轉(zhuǎn)速可以隨意設(shè)定!旋涂儀價(jià)格 旋涂儀工作原理 什么旋涂儀好 西安laurell勻膠機(jī) 成都旋涂儀 旋涂儀那家的好 旋涂儀操作流程需要更詳細(xì)的產(chǎn)品資料咨詢,請與邁可諾技術(shù)有限公司中國營銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系!
勻膠機(jī)(英文名:Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜 詳細(xì)介紹: 勻膠機(jī)(英文名:Spin Coater) 行業(yè)俗稱:勻膠臺(tái),甩膠機(jī),涂膠機(jī),鍍膜機(jī),涂層機(jī) 品牌 LAURELL型號 WS-650-23N WS-650-8N WS-650-15N產(chǎn)品概述: WS650型勻膠機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面涂覆. 勻膠機(jī)穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快速的啟動(dòng),可以保證半導(dǎo)體中膠厚度的一致性和均勻性,這正是WS650型均勻膠機(jī)的特點(diǎn). 該機(jī)在這方面采取了許多措施: (一)該設(shè)備采用美國先進(jìn)技術(shù). (二)轉(zhuǎn)速在12000轉(zhuǎn)/分范圍內(nèi)非常穩(wěn)定. (三)本勻膠機(jī)采用PLC控制,速度無極調(diào)節(jié).在啟動(dòng)之后,一般工藝先以低速運(yùn)轉(zhuǎn),使膠攤開,然后自動(dòng)變到高速運(yùn)轉(zhuǎn).步驟轉(zhuǎn)速及相應(yīng)的時(shí)間分別可調(diào). (四)本勻膠機(jī)采用直流驅(qū)動(dòng)馬達(dá),超過10年的使用歷史(五)"吸片"采用電磁閥控制氣路,這樣適合流水線的工藝,一個(gè)氣泵可同時(shí)帶幾個(gè)勻膠機(jī)工作,提高了效率. (六)智能型調(diào)節(jié)勻膠時(shí)間,倒計(jì)時(shí)數(shù)字顯示 (七)在安裝結(jié)構(gòu)上,采取了減振措施,保證了在運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)噪音很低,保證涂覆表面均勻,保證通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)涂覆厚度. (八)勻膠機(jī)配真空泵使用. 性能指標(biāo):
高性能馬達(dá)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)控制Mz型高精度旋涂用馬達(dá)轉(zhuǎn)速范圍:50~12000RPM (注 50RPM是最小穩(wěn)定轉(zhuǎn)速)最大加速度:13000RPM/S;轉(zhuǎn)速誤差:<±0.5RPM @8000RPM NIST標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證;勻膠均勻性:<1% @6 inch Wafer
電源電壓:220V/ 50Hz 電機(jī)功率:200W 適用:Φ10-Φ150mm硅片及其它材料等勻膠. 體積小,重量輕,操作簡便
客戶參考:香港理工大學(xué),香港科技大學(xué),香港城市大學(xué),北京大學(xué),清華大學(xué)復(fù)旦大學(xué),東南大學(xué),北京工業(yè)大學(xué),江蘇工業(yè)大學(xué),上海大學(xué),北京科技大學(xué),電子科技大學(xué) ,中國地質(zhì)大學(xué),廈門大學(xué),天津大學(xué),貴州大學(xué),西南師范大學(xué),香港電訊學(xué)院,陜西師范大學(xué),北京石油化工學(xué)院,重慶西南大學(xué),中國地質(zhì)大學(xué),北京理工大學(xué),哈爾濱工業(yè)大學(xué),哈爾濱工程大學(xué),武漢大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),四川師范大學(xué),同濟(jì)大學(xué),天津大學(xué),西南交通大學(xué),南京大學(xué),南京工業(yè)大學(xué),華中科技大學(xué),河南大學(xué),鄭州大學(xué)等。中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所,華為集團(tuán)、TCL集團(tuán)等著名高校及半導(dǎo)體微電子行業(yè).。主要市場 中國、香港、韓國 、新加坡、美國 等國家 產(chǎn)品用途: WS650型勻膠機(jī)適合半導(dǎo)體硅片,晶片,基片,導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面涂覆. 請與邁可諾技術(shù)有限公司 中國營銷服務(wù)中心聯(lián)系
桌面式微波等離子體去膠機(jī) 立式微波等離子體去膠機(jī)
產(chǎn)品優(yōu)勢:
去膠快速徹底
對樣片無損傷
操作簡單安全
設(shè)計(jì)緊湊美觀
產(chǎn)品性價(jià)比高
產(chǎn)品用途:
高劑量離子注入光刻膠的去除
濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
MEMS中犧牲層的去除
去除化學(xué)殘余物
清除浮渣工藝
SU-8膠的去除:
MEMS工藝中經(jīng)常用到SU8光刻膠,然而SU8非常穩(wěn)定,其最致命的缺點(diǎn)就是去膠困難。為了解決SU-8光刻膠的去膠問題,我們向您推薦德國Alpha Plasma專業(yè)的SU-8微波等離子體去膠機(jī),該設(shè)備采用氟基氣體的去膠工藝,利用氟基氣體與SU-8膠的化學(xué)反應(yīng),實(shí)現(xiàn)快速去除SU-8功能。同時(shí)設(shè)備中還集成了溫控系統(tǒng),去膠過程中對襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結(jié)構(gòu)的完整性,最終實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量MEMS器件的制備。SU-8去膠速率驗(yàn)收指標(biāo)為1μm/min,實(shí)驗(yàn)中可達(dá)到幾個(gè)微米。因此這款專業(yè)的SU8去膠機(jī)是MEMS去膠工藝的理想選擇。