時(shí)間:2017-05-01 分類:日本三豐圓度/圓柱度儀
Roundtest(圓度、圓柱形狀測(cè)量?jī)x)RA-120/120P211 系列—小型圓度測(cè)量?jī)x操作簡(jiǎn)單、小巧輕便,用于車間生產(chǎn)線旁邊。具有全面特征分析的小型圓度測(cè)量?jī)x,能適應(yīng)各種不同工件的測(cè)量超出了一般工作用途,這臺(tái)小型圓度測(cè)量?jī)x能針對(duì)使用優(yōu)先級(jí)提供眾多的用戶友好特征,比如更大測(cè)量范圍的檢測(cè)器,帶有大屏幕LCD 的易于理解的操作屏,更易于調(diào)心和調(diào)水平的DAT 功能等。實(shí)現(xiàn)了更加有效的測(cè)量及分析類型歸類的功能
流量計(jì)廠家業(yè)提供:蒸汽流量計(jì)|氣體流量計(jì)|液體渦輪流量計(jì)|渦街流量計(jì)|電磁流量計(jì)|金屬管浮子流量計(jì)|橢圓齒輪流量計(jì)|山西流量計(jì)|河北流量計(jì)|陜西流量計(jì)|山東流量計(jì)|河南流量計(jì)|吉林流量計(jì)|黑龍江流量計(jì)|甘肅流量計(jì)|內(nèi)蒙古流量計(jì)|荊門流量計(jì)|湖南流量計(jì)——湖北南控
儀表名稱:基本脈沖輸出型渦街流量計(jì)
公稱通經(jīng)(mm) | 15,20,25,40,50,65,80,100,125,150,200,250,300 |
儀表材質(zhì) | 1Cr18Ni 9Ti |
公稱壓力(Mpa) | PN1.6Mpa;PN2.5Mpa; PN4.0Mpa |
被測(cè)介質(zhì)溫度(℃) | -40~+250℃ ;-40~+350℃ |
環(huán)境條件 | 溫度-10~+55℃,相對(duì)濕度5%~90%,大氣壓力86~106Kpa |
精度等 | 測(cè)量液體:示值的±0.5 測(cè)量氣體或蒸汽:示值的±1.0、±1.5 |
量程比 | 1:10;1:15 |
阻力損失系數(shù) | Cd<2.6 |
輸出信號(hào) | 傳感器:脈沖頻率信號(hào)0.1 ~ 3000Hz 低電平≤1V 高電平≥6V 變送器:兩線制4 ~ 20mADC電流信號(hào) |
供電電源 | 傳感器:+12VDC 、+24VDC(可選) 變送器:+24VDC 現(xiàn)場(chǎng)顯示型:儀表自帶3.2V鋰電池 |
信號(hào)傳輸線 | STVPV3×0.3(三線制),2×0.3(二線制) |
傳輸距離 | ≤500m |
信號(hào)線接口 | 內(nèi)螺紋M20×1.5 |
防爆等 | ExdIIBT6 |
防護(hù)等 | IP65 |
允許振動(dòng)加速度 | 1.0g |
四、產(chǎn)品型號(hào)與標(biāo)記
產(chǎn)品型號(hào)與標(biāo)記 | 說(shuō)明 | ||||||||
種類LUG | | | | | | | | | 利用卡門渦街原理,流量傳感器 |
檢測(cè)方法 | B | 應(yīng)力式檢測(cè) | |||||||
| — | | |||||||
法 蘭 連 接 | 1 | 表體法蘭標(biāo)準(zhǔn):GB/T9119·10-2000 | |||||||
法 蘭 卡 裝 | 2 | 產(chǎn)品出廠自帶卡裝法蘭、螺栓及墊片 | |||||||
被測(cè)介質(zhì) | 氣 體 | 1 | | ||||||
液 體 | 2 | | |||||||
蒸 汽 | 3 | | |||||||
口 徑 | 01 | 20mm | |||||||
02 | 25mm | ||||||||
04 | 40mm | ||||||||
05 | 50mm | ||||||||
06 | 65mm | ||||||||
08 | 80mm | ||||||||
10 | 100mm | ||||||||
12 | 125mm | ||||||||
15 | 150mm | ||||||||
20 | 200mm | ||||||||
25 | 250mm | ||||||||
30 | 300mm | ||||||||
信號(hào)及轉(zhuǎn)換器類型 | Z | 一體型 | |||||||
| N | 電壓脈沖 | |||||||
A | 4~20mADC,二線制 | ||||||||
B | 電池供電,現(xiàn)場(chǎng)液晶顯示 | ||||||||
C | 現(xiàn)場(chǎng)液晶顯, 示,4~20mADC | ||||||||
F | | 分體型 | |||||||
| N | 電壓脈沖 | |||||||
C | 4~20mADC,帶電流指示表頭 | ||||||||
| E | 防爆,ExdIIBT6 | |||||||
N | 不防爆 |
A、包裝:25kg/塑料桶
B、用途:本品由有機(jī)膦酸鹽、聚羧酸鹽、含磺酸鹽共聚物、唑類等組成,對(duì)水中的碳酸鈣、磷酸鈣等均有很好的鰲合分散作用,并且對(duì)碳鋼、銅具有良好的緩蝕效果,主要用于循環(huán)冷卻水系統(tǒng)阻垢緩蝕,如電廠、化工廠、鋼廠、中央空調(diào)等循環(huán)冷卻水系統(tǒng),其阻垢力強(qiáng)、緩蝕效果好。
C、用量:添加量為每日補(bǔ)給水每噸30~100ppm添加,如地區(qū)水質(zhì)差,則需加大投藥量。歡迎訪問(wèn)公司網(wǎng)站 了解更有詳細(xì)的信息www.fjfzyk.com
沉淀硫酸鋇
▋說(shuō)明TOS-831B 采用歐美進(jìn)之全平面把手,外觀質(zhì)感高水準(zhǔn),全系列日制專用控制器,操作簡(jiǎn)單,可供作溫濕度及超低溫雙重試驗(yàn)。
一、規(guī)格:( 產(chǎn)地:臺(tái)灣)
A. 溫度范圍:-40℃~+150℃
B. 濕度范圍:20%~98%R.H
C. 控制溫濕度精度:約 ±0.2℃,±2.5%RH
D.控制方式:斜率控制,可輸入99段,循環(huán)99次,可任意分割成若干可程式,個(gè)別設(shè)定循環(huán)次數(shù),各段程式時(shí)間設(shè)定可達(dá)59min,可做程式循環(huán)式或做單一溫濕度控制,程式執(zhí)行中可顯示該段剩余之時(shí)間,具斷電記憶系統(tǒng),復(fù)電可繼續(xù)執(zhí)行剩余之程式.LCD液晶顯示薄。
E.升溫時(shí)間:RT~-120℃約40min
F.降濕時(shí)間:RT~-40℃約需45min
G.試驗(yàn)室的工作尺寸(cm):40*50*40
二、隨機(jī)附件: 一年質(zhì)量書一份, 機(jī)臺(tái)操作說(shuō)明書一份。三、服務(wù): 大陸貴工廠,含到廠安裝調(diào)試 及人員操作培訓(xùn)!注:本公司貨源廣闊,絕大部分直接從國(guó)外引進(jìn),成色新,價(jià)格低,性價(jià)比極高, 銷售及出租數(shù)量巨大,歡迎來(lái)電垂詢或親臨選購(gòu),并歡迎預(yù)訂。
產(chǎn)品名稱:ELISA試劑盒北京現(xiàn)貨代測(cè)-現(xiàn)貨供應(yīng)人基質(zhì)細(xì)胞衍生因子1aELISA說(shuō)明書,人SDF-1a/CXCL12 ELISA試劑盒供應(yīng)商報(bào)價(jià)北京 (本公司可以為您提供免費(fèi)代測(cè)服務(wù))
英文名稱:Human Stromal cell derived factor 1a,SDF-1a ELISA Kit
產(chǎn)品期:6個(gè)月
產(chǎn)品規(guī)格:96T/48T(盒裝)
安全性:
1、避免直接接觸終止液和底物A、B。一旦接觸到這些液體,請(qǐng)盡快用水沖洗。
2、實(shí)驗(yàn)中不要吃喝、抽煙或使用化妝品。
3、不要用嘴吸取試劑盒里的任何成份。
公司其他優(yōu)勢(shì)產(chǎn)品: 現(xiàn)貨供應(yīng)人基質(zhì)細(xì)胞衍生因子1aELISA說(shuō)明書,人SDF-1a/CXCL12 ELISA試劑盒供應(yīng)商報(bào)價(jià)北京
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新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8 光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低,且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形;它還具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性。SU- 8 在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián),是一種化學(xué)擴(kuò)大負(fù)性膠,可以形成臺(tái)階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形;且 SU- 8 膠不導(dǎo)電,在電鍍時(shí)可以直接作為絕緣體使用。由于具有較多優(yōu)點(diǎn),SU- 8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU- 8 光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。
光刻前清洗工藝:
為了獲得更好的光刻效果,在進(jìn)行光刻膠旋涂之前,需要對(duì)基材進(jìn)行清洗。常用的清洗方法是利用濃硫酸及雙氧水的混合溶液浸泡,隨后用去離子水清洗并用氮?dú)獯蹈伞3酥膺€可以利用反應(yīng)離子刻蝕或等離子表面清洗儀清洗。
光刻工藝:
將 SU- 8 光刻膠組分旋涂在基材上,旋涂厚度幾至幾百微米。涂覆晶片經(jīng)過(guò)前烘并冷卻至室溫。在烘干過(guò)程中,優(yōu)先選擇加熱均勻且溫度控制精確的加熱板;不能使用鼓風(fēng)干燥箱,防止因?yàn)楣饪棠z表面優(yōu)先固化從而阻止內(nèi)層光刻膠溶劑的揮發(fā)。冷卻后,將負(fù)光掩模與涂覆晶片接觸并在汞燈的紫外輻射劑量10-250mJ/㎝²條件下進(jìn)行曝光。曝光結(jié)束后,選擇合適的烘烤溫度及時(shí)間。將晶片在顯影液中浸漬顯影,隨后用氮?dú)獯蹈伞?/span>