SB721供應(yīng)臨沂電子臺(tái)秤
| 型號(hào) | 秤量 | 規(guī)格 | 外部精度 |
| SB721-30 | 30kg | e= 10g / d= 2g | 1/15 000 |
| SB721-75 | 75kg | e= 50g / d= 5g | 1/15 000 |
| SB721-150 | 150kg | e= 50g / d=10g | 1/15 000 |
| SB721-300 | 300kg | e=100g / d=20g | 1/15 000 |
| 適用溫度：0°C~40°C (32°F~104°F) | |||
| 電源：AC 220V( -15%, +10%) + 6V/4Ah 蓄電池 | |||
| 秤盤(pán)尺寸：400 x 500mm; 420 x 520mm; 450 x 550mm; 600 x 800mm | |||
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
| 技術(shù)參數(shù)
1.電子束源&電源 •單個(gè)或者可自由切換換電子束源： －－蒸發(fā)室數(shù)量 1 ~ 12(標(biāo)配: 4, 6) －－坩堝容量：7 ~ 40 cc (最大可達(dá)200 cc) －－－－標(biāo)準(zhǔn)：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) －－－－最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于長(zhǎng)時(shí)間的沉積 •偏轉(zhuǎn)角度：180º, 270º •輸出功率：6, 10, 15, 20 kW •支持兩個(gè)或者三個(gè)電子束源在一個(gè)系統(tǒng)上 •可連續(xù)或者同時(shí)沉積兩種或三種材料 •高速率沉積 2.薄膜沉積控制： •IC-5 ( or XTC, XTM) 和計(jì)算機(jī)控制 －－沉積過(guò)程參數(shù)可控 －－石英晶體振蕩傳感器 －－光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)用于光學(xué)多層薄膜沉積：測(cè)量波長(zhǎng)范圍350-2000 nm，分辨率1 nm •薄膜厚度檢測(cè)和處理過(guò)程可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制 •薄膜厚度檢測(cè)和沉積速率可通過(guò)計(jì)算機(jī)程序控制 －－支持大面積沉積 －－支持在線電子束蒸發(fā)沉積 －－基底尺寸：20~100英寸 －－薄膜均勻性 <±1.0 to 5.0 % 3.真空腔體： •圓柱形腔體 －－直徑：φ500 ~ 1,500 mm －－高度：800 ~ 1500 mm •方形腔體 －－根據(jù)客戶的需求定制 4.真空泵和測(cè)量裝置： •低真空：干泵和convectron真空規(guī) •高真空：渦輪分子泵，低溫泵和離子規(guī) •超高真空：雙級(jí)渦輪分子泵，離子泵和離子規(guī) 5.控制系統(tǒng)PLC和 觸摸屏計(jì)算機(jī)： •硬件: PLC, 觸摸屏計(jì)算機(jī) －－包括模擬和數(shù)字輸入/輸出卡 －－顯示器: LCD •自動(dòng)和手動(dòng)程序控制 －－程序控制：加載，編輯和保存 －－程序激活控制： －－－－泵抽真空，蒸發(fā)沉積，加熱， 旋轉(zhuǎn)等 －－－－膜厚度檢測(cè)和控制多層薄膜沉積 －－－－系統(tǒng)狀態(tài)，數(shù)據(jù)加載等 －－－－問(wèn)題解答和聯(lián)動(dòng)狀態(tài)
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| 主要特點(diǎn)
擴(kuò)展功能： •質(zhì)量流量控制器：反應(yīng)和等離子體輔助惰性氣體控制 •離子源和控制器：等離子體輔助沉積 •射頻電源：基底預(yù)先處理 •溫度控制器：基底加熱 •熱蒸發(fā)器：1 or 2 boat •蒸鍍?cè)碿ell：1 or 2 for doping •冷卻器：系統(tǒng)冷卻
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全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商，為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子泵等； 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)： 1.膜電子束蒸發(fā)系統(tǒng)E -Beam Evaporation System 2.高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)High Vacuum E -Beam Evaporation System 3.超高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System 4.離子輔助蒸發(fā)系統(tǒng)Ion Beam Assisted Evaporation System 5.離子電鍍系統(tǒng)Ion Plating System 6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System 7.在線電子束蒸發(fā)系統(tǒng)In-line E -Beam Evaporation System | ||
As-161-60 As-161-30 As-161-15汽車(chē)電子產(chǎn)品抗擾度測(cè)試系統(tǒng)
G 4420格威萊德工業(yè)吸塵器電子行業(yè)用
以下是由上海內(nèi)赫赤提供的格威萊德G4400的技術(shù)參數(shù)，僅供參考：
SYLVAC 905.1201電子千分表SYLVAC 905.1201電子千分表
瑞士SYLVAC S229系列 905.1201 905.1301 905.1401 905.1501 905.5301 905.1303 905.5303 905.5501 905.1601 905.1621 905.1641 905.1661 905.1671 905.1681杠桿表詳細(xì)介紹:
瑞士SYLVAC S229千分表的詳細(xì)介紹特點(diǎn):◆ RS232接口輸出 ◆270°旋轉(zhuǎn)數(shù)顯表◆ 鋰電池◆ 長(zhǎng) 8.5mm大數(shù)顯◆ M2.5可互換式測(cè)頭◆ 多種附件可選功能：◆ 公/英制轉(zhuǎn)換◆ 預(yù)置◆ 置零◆ 存儲(chǔ)鎖定◆ 設(shè)定兩個(gè)基準(zhǔn)◆ 測(cè)量方向可選 數(shù)據(jù)輸出：Opto-RS232或Opto-USB
電池壽命：4000小時(shí)
測(cè)量范圍：從12.5mm到150mm
操作簡(jiǎn)單
| 型號(hào) | 905.1201 | 905.1205 | 905.1301 | 905.1303 | 905.1305 | 905.5301 | 905.5303 | |
| 測(cè)量范圍 mm | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | 12.5 | |
| 系列 | S229 | S229 | S229 | S229 | S229 | S213 | S213 | |
| 延長(zhǎng) | S | P | S | S | P | S | S | |
| 最小讀數(shù) | mm | 0.01 | 0.01 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 |
| 最小誤差 µm | 101） | 101） | 5 | 3 | 5 | 5 | 3 | |
| 重復(fù)精度 | µm | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
| 905.1401 | 905.1405 | 905.1501 | 905.1505 | 905.5501 | 905.5505 | 905.5302 | ||
| 測(cè)量范圍 mm | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 | 25 | 12.5 | |
| 系列 | S229 | S229 | S229 | S229 | S213 | S213 | Int / Ext | |
| 延長(zhǎng) | S | P | S | P | S | P | S | |
| 最小讀數(shù) | mm | 0.01 | 0.01 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 | 0.001 |
| 最小誤差 µm | 101） | 101） | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | |
| 重復(fù)精度 | µm | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
| 905.1601 | 905.1621 | 905.1641 | 905.1661 | 905.1671 | 905.1681 | 905.5305 | ||
| 測(cè)量范圍 mm | 50 | 50 | 100 | 100 | 150 | 150 | 12.5 | |
| 系列 | S229 | S229 | S229 | S229 | S229 | S229 | S213 | |
| 延長(zhǎng) | S | S | S | S | S | S | P | |
| 最小讀數(shù) | mm | 0.01 | 0.001 | 0.01 | 0.001 | 0.01 | 0.001 | 0.001 |
| 最小誤差 µm | 201） | 7 | 201） | 8 | 201） | 9 | 5 | |
| 重復(fù)精度 | µm | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
可編程直流電子負(fù)載
JCM-6000系列臺(tái)式掃描電鏡 日本電子
- 小型臺(tái)式掃描電子顯微鏡能進(jìn)行生物樣品和材料樣品的自動(dòng)設(shè)置
- 提高和擴(kuò)大了實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的光學(xué)顯微鏡或掃描電子顯微鏡儀器的分辨率和景深
- 無(wú)需變更透鏡，能放大10X – 60,000X的倍率預(yù)先設(shè)定方案的自動(dòng)和手動(dòng)控制
- 高真空和低真空模式對(duì)導(dǎo)體和非導(dǎo)體樣品無(wú)需進(jìn)行如涂層和干燥等特殊的樣品處理準(zhǔn)備
- 二次電子和背散射電子成像
- 三種可選的加速電壓
- 從載樣到成像的操作可在三分鐘內(nèi)完成易于掌握和操作
10~60000放大倍率、適合各類(lèi)樣品分析
較光學(xué)顯微鏡有更好的景深
| 光學(xué)顯微鏡景深不足在500 倍時(shí)僅有局部區(qū)遇有清析的影像視野。 | 同樣500倍放大倍率下JCM-6000有較優(yōu)越的分辨率與景深，全視野都非常清晰。 |
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| JCM6000擁有良好景深，方便樣品觀察與分析 |
可直接進(jìn)行2D量測(cè)、包括長(zhǎng)度與角度
可觀查成份像（左：PCB成份影像 右：電子零件立體影像）
全新的觸摸屏GUI界面操作更加形象直觀，不僅操作界面簡(jiǎn)明易懂，觸摸式操作更加直觀方便。
雙畫(huà)面顯示可以并列顯示實(shí)時(shí)圖像和儲(chǔ)存圖像。 能一邊比較圖像一邊進(jìn)行觀察。
JCM-6000 規(guī)格
| 放大倍數(shù) | ×10 ∼ ×60,000 （二次電子） ×10 ∼ ×30,000 （背散射電子） |
|---|---|
| 觀察模式 | 高真空模式 / 低真空模式 |
| 電子槍 | 燈絲與韋氏帽集成一體的小型電子槍 （ filament ａnd Wehnelt integrated grid） |
| 加速電圧 | 15kV / 10kV / 5kV 3檔切換 （二次電子） 15kV / 10kV 2檔切換 （背散射電子） |
| 樣品臺(tái) | X-Y軸手動(dòng)控制 X方向 35mm、Y方向 35mm |
| 最大樣品尺寸 | 直徑70mm、高度50mm |
| 工作距離 （WD） | 7～53mm |
| 信號(hào)檢測(cè) | 高真空（二次電子、背散射電子）、低真空（背散射電子） |
| 數(shù)據(jù)顯示/ 顯示內(nèi)容 | 加速電圧、倍率、微米條、微米值等 |
| 文件格式 | BMP、TIFF、JPEG |
| 圖像內(nèi)存像素 | 640ｘ480像素、1280ｘ960像素 |
| 拍攝條件 | 高速、低速1、低速2 |
| 旋轉(zhuǎn)功能 | 掃描旋轉(zhuǎn)（90°/步、1°/步可選） |
| 圖像電位移 | 電位移功能 |
| 圖像保存 | 拍攝（掃描）結(jié)束后，能自動(dòng)編號(hào)、自動(dòng)保存文件。 |
| 操作系統(tǒng) OS | Windows 7 |
| 自動(dòng)功能 | 自動(dòng)聚焦、自動(dòng)消像散 自動(dòng)襯度/亮度、 自動(dòng)電子槍對(duì)中 |
| 配置 | 主機(jī)、電源箱、PC､LCD、機(jī)械泵 |
| 操作 | 觸摸屏、鼠標(biāo) |
| 選配件 | 馬達(dá)驅(qū)動(dòng)傾斜/旋轉(zhuǎn)樣品架、能譜儀（EDS） |
| 主機(jī) | 330（W）×490（D）×430mm（H） |
| 輸入電源 | 單相AC100V（700VA）、120V（840VA）、220V（880VA）、240V（960VA） 波動(dòng)±10％以內(nèi)、接地 |
| 室溫 | 15℃～30℃ |
| 濕度 | 60％以下 |
FA系列電子分析天平
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TD/TE 系列電子式調(diào)節(jié)儀
樣品圖片 |
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主要技術(shù)參數(shù) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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煤氣專用壓力表 液化氣壓力表 電子壓力表