IDEA SCIENCE愛迪賽恩公司為您提供的解決方案
Evex憑借NanoAnalysis系統(tǒng)－－－－完整的電子顯微鏡方案－－－－引領(lǐng)顯微鏡的新時(shí)代。Evex NanoAnalysis系統(tǒng)由Evex Mini-SEM，Evex Mini-SEM，EvexQDD的探測(cè)器技術(shù)和Evex NanoAnalysis軟件組成。Mini-SEM是具有高清度，高放大率，高性能的臺(tái)式掃描電子顯微鏡。Mini-SEM結(jié)合了傳統(tǒng)SEM的性能，但在大小，價(jià)格和易操作方面超越了臺(tái)式顯微鏡。運(yùn)用能量分散光譜（EDS/EDX）技術(shù)時(shí)，添加EvexQDD，無液氮高速X射線探測(cè)器和Evex X射線NanoAnalysis軟件（光譜采集模式，圖像采集模式和元素繪圖模式）到其中，可在幾秒內(nèi)分析樣品的元素成分和描繪元素相關(guān)位置。
Evex將該系統(tǒng)設(shè)計(jì)成實(shí)用，易操作且購買得起的。幾秒鐘內(nèi)從10X到30000X （120000X數(shù)字變焦）變焦。自動(dòng)聚焦，亮度和對(duì)比度自動(dòng)調(diào)整讓每張圖片都很。
Mini-SEM可用于醫(yī)療保健，儀器科學(xué)，法醫(yī)學(xué)，生命科學(xué)，材料科學(xué)，軍隊(duì)或教育領(lǐng)域。無論何種應(yīng)用，Mini-SEM都是的工具。
Evex NanoAnalysis系統(tǒng)是確認(rèn)一個(gè)樣品的元素成分的最有力的分析工具。將樣品插入測(cè)試室內(nèi)，幾秒內(nèi)就出現(xiàn)圖像。事先瀏覽整個(gè)圖像視野或在某一個(gè)特征上放大。點(diǎn)擊圖像中的一點(diǎn)，收集光譜開始。幾秒內(nèi)通過元素成分確認(rèn)物質(zhì)。接下來，激活任一繪圖功能來確定元素的空間位置，通過使用任何以下繪圖模式來完成：點(diǎn)式，多點(diǎn)式，線掃描，區(qū)域繪圖，變焦繪圖，索引繪圖和痕量感光分析（T.S.A）的索引繪圖。
Evex NanoAnalysis系統(tǒng)的繪圖功能包括索引繪圖（用于圖像的每個(gè)像素的一段光譜）和T.S.A（痕量感光分析），后者能測(cè)定整個(gè)樣品中極微量的物質(zhì)濃度。索引繪圖的最大優(yōu)勢(shì)是它能保存整個(gè)實(shí)驗(yàn)，因此你可以在任何工作地點(diǎn)的任何時(shí)候檢索原始數(shù)據(jù)。
Evex Mini-SEM技術(shù)參數(shù) 放大率： 30,000X（數(shù)字變焦4 -120,000X）加速功率： 1kv – 30kv探測(cè)器： SEI（標(biāo)準(zhǔn)），BEI/EDS（可選）圖像大小： 4096×4096圖像格式： JPG，TIFF，BMP，PNG數(shù)據(jù)顯示： Micron Bar, Magnificaiton, Date, Kv電壓： 110v或220v
無液氮高速X射線探測(cè)器
探測(cè)器窗口 SUTW UTW Be 檢測(cè)限 Be4/B5 C6 Na11 精度 128FWHM @ 5.9kev MN-Ka 1000cps 傳感器尺寸 10mm, 20mm, 30mm 冷卻 Peltier
A – Evex Mini-SEM （掃描電子顯微鏡）B – 電源開頭 & 樣品交換按鈕C – 真空標(biāo)準(zhǔn)Vacuum Level -D – 樣品交換Sample Exchange -- 樣品室大小 - 4x4x4- 樣品大小- 2x2x2- 樣品位置 （X,Y,R）E – 高速無液氮X射線探測(cè)器- 檢測(cè)元素范圍：4 - 92 $$$$ （Be - U） （SSUTW）- 檢測(cè)元素范圍：5 - 92 $$$ （B - U） （SUTW）- 檢測(cè)元素范圍：6 - 92 $$ （C - U） （UTW）- 檢測(cè)元素范圍：11 - 92 $ （Na - U） （TW）F - NanoAnalysis – 軟件G – 光譜采集組件 – 元素組成成分H – 圖像收集組件 – 圖像I – 射線探測(cè)器電源J – 元素繪圖
| 量 程 范 圍 | 0～±100、500……1000Pa |
| 0～2、10……1000 Kpa | |
| 過 載 壓 力 | 2倍滿量程 |
| 測(cè) 量 介 質(zhì) | 非腐蝕性干燥氣體 |
| 輸 出 信 號(hào) | 4～20mA 0～10mA 二線制 |
| 1～5VDC 0～5VDC 三線制 | |
| 顯示方式 | 3位半LED |
| 供 電 電 壓 | 12～36VDC （標(biāo)定值為24VDC） |
| 精 確 度 | ±0.1%F.S ±0.2%F.S ±0.3%F.S |
| 長(zhǎng) 期 穩(wěn) 定 性 | ≤±0.2%F.S/年 |
| 補(bǔ) 償 溫 度 | -10～+60℃ |
| 介 質(zhì) 溫 度 | -20～+85℃ |
| 響 應(yīng) 時(shí) 間 | ≤1ms |
| 負(fù) 載 電 阻 | R=（U-12.5）/0.02-RD 其中：U為電源電壓，RD為電纜內(nèi)阻 |
| 壽 命 | ＞1×108壓力循環(huán)（25℃） |
| 壓 力 接 口 | Φ6、Φ8塔型接口 |
| 電 氣 鏈 接 | 電纜出線 |
| 防 爆 等 級(jí) | ExiaIICT6 |
| 防 護(hù) 等 級(jí) | IP65 |
| 代 碼 | 說 明 | |||
| YZ21XM | | 智能數(shù)顯微差壓變送器 | ||
| | FS | | 壓力滿量程 | |
| J | | 精 度 | ||
| | I | | 電流輸出 | |
| | V | | 電壓輸出 | |
| | M | 螺紋安裝 | ||
| | H | 電纜線長(zhǎng)度 | ||
一、用途：
XT8A型儀器是吸附型低倍體視顯微鏡，可手輪調(diào)焦、任意角度旋轉(zhuǎn)、立體感強(qiáng)，成像清晰，視野寬闊，操作方便、特別適合吸附在金屬設(shè)備上工作（有專用可控吸磁裝置）。也適用于生物解剖、教學(xué)示范，牙科等，也可用于精密細(xì)小零件的裝配作業(yè)。
二、技術(shù)參數(shù)：
1、綜合放大倍數(shù)：8×
2、目鏡：10×
3、物鏡放大倍數(shù)：0.8×（在儀器內(nèi)）
4、工作距離：88mm，
5、 物方視場(chǎng)直徑：ф22mm；（選購20倍目鏡時(shí)：ф22mm）
6、雙目、任意傾斜，鏡筒360O旋轉(zhuǎn)。
三、儀器成套性：
1、體視鏡主機(jī)（含調(diào)焦手輪、磁鐵、橫桿、立桿）/1套，
2、2、目鏡：10×/2個(gè)，
3、3、目鏡眼罩/1付，
四、選購件：
1、環(huán)型燈（AC220V或AV110V/8W） 1套
2、LED可調(diào)環(huán)型燈 1套
3、環(huán)型燈接頭 1只
4、20倍目鏡 2只
售價(jià)：1200元（款到發(fā)貨、含稅、運(yùn)費(fèi)）
| 詳細(xì)說明 |
★的圖象分辨力，更高的性和堅(jiān)固性 ★平場(chǎng)物鏡作為標(biāo)準(zhǔn)配置，能夠提供同類顯微鏡的圖象平場(chǎng)性 ★CX21顯微鏡采用與奧林巴斯顯微鏡相同的UIS2光學(xué)系統(tǒng) ★優(yōu)化對(duì)比度的阿貝聚光鏡 ★使用方便、經(jīng)久耐用的無支架載物臺(tái) ★零件安全性-避免學(xué)生損壞 ★極為平滑的四孔旋轉(zhuǎn)式物鏡轉(zhuǎn)盤 ★機(jī)械載物臺(tái)聚焦限位，杜絕發(fā)生以外 ★防霉處理，提供零件耐用性 |
交流掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)（ac-SECM）
間歇接觸掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)（ic-SECM）
微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試系統(tǒng)(LEIS)
掃描振動(dòng)點(diǎn)擊測(cè)試系統(tǒng)（SVET）
電解液微滴掃描系統(tǒng)（SDS）
交流電解液微滴掃描系統(tǒng)（ac-SDS）
掃描開爾文探針測(cè)試系統(tǒng)（SKP）
非觸式微區(qū)形貌測(cè)試系統(tǒng)（OSP）
出色的性能
快速精準(zhǔn)的閉環(huán)定位系統(tǒng)為電化學(xué)掃描探針納米級(jí)研究的需求而特別設(shè)計(jì)。結(jié)合Uniscan 獨(dú)特的混合型32-bit DAC技術(shù)，用戶可以選擇合適實(shí)驗(yàn)研究的最佳配置
先進(jìn)和靈活的工作平臺(tái)
系統(tǒng)可提供9種探針技術(shù)，使得M470成為全球最靈活的電化學(xué)掃描灘鎮(zhèn)工作平臺(tái)。
全面的附件
7種模塊可選，3種不同電解池，各式探針，長(zhǎng)距顯微鏡以及后處理數(shù)據(jù)分析軟件。
M470新產(chǎn)品特征
SECM自動(dòng)處理曲線
SECM用戶自定義處理曲線步長(zhǎng)變化
高分辨率讀取
手動(dòng)或自動(dòng)調(diào)節(jié)相位
M470同時(shí)具備如下特點(diǎn)：
傾斜校正
X或Y曲線相減（5階多項(xiàng)式）
2D或3D快速傅里葉變化
實(shí)驗(yàn)，探針移動(dòng)和區(qū)域繪圖的自動(dòng)排序
圖形實(shí)驗(yàn)測(cè)序引擎（GESE）
支持多區(qū)域掃描
所有實(shí)驗(yàn)多個(gè)數(shù)據(jù)視圖
峰值分析
是由
M470技術(shù)參數(shù)
工作站（所有技術(shù)）
掃描范圍（x,y,z） 大于100nm
掃描驅(qū)動(dòng)分辨率 最高0.1nm
閉環(huán)定位 線性零滯后編碼器，直接實(shí)時(shí)讀出x,z和y位移
軸分辨率（x,y,z） 20nm
最大掃描速度 12.5mm/s
測(cè)量分辨率 32-bit解碼器@高達(dá)40MHz
壓電（ic-和ac-掃描探針技術(shù)）
振動(dòng)范圍 20nm~ 2μm峰與峰之間1nm增量
最小振動(dòng)分辨率 0.12nm(16-bit DAC,4μm)
壓電晶體伸展 100μm
定位分辨率 0.09nm(20-bit DAC ,100μm)
機(jī)電
掃描前端 500×420×675mm(H×W×D)
掃描控制單元 275×450×400mm(H×W×D)
功率 250W