我公司生產(chǎn)的光電直讀光譜儀是分析黑色金屬及有色金屬成份的快速定量分析儀器。本儀器廣泛應用于冶金、機械及其他工業(yè)部門,進行冶煉爐前的在線分析以及中心實驗室的產(chǎn)品檢驗,是控制產(chǎn)品質量的有效手段之一。
二、不銹鋼合金直讀光譜分析儀 金屬元素分析儀儀器特點:
1、750mm焦距光柵設計,帕型-龍格裝置,高真空,分辨率高、靈敏度高等特點;由于機刻光柵可以產(chǎn)生較高級次的光譜,所以選線更具靈活性,從而避免光譜干擾。
2、儀器結構設計合理,電子系統(tǒng)采用國際標準機籠,高集成化電路設計,故障率低。
3、分析速度快、重復性好、穩(wěn)定性好。
4、采用高穩(wěn)定的數(shù)字光源,激發(fā)頻率在100—1000Hz之間變化,分析不同的樣品,可選擇不同的激發(fā)參數(shù),可達到最佳的分析效果。
5、采用高集成化的采集和控制系統(tǒng),自動化程度高。
6、采用進口的光電倍增管,具有暗電流小、信噪比高、使用壽命長等特點。。
7、分析掃描過程可同時對所有元素進行掃描,掃描過程簡單,可快速分析出每個元素相對于基體元素的偏差。
8、激發(fā)樣品過程中,無需對激發(fā)臺進行水冷卻,可連續(xù)分析樣品也能達到較好的數(shù)據(jù)。
9、測控系統(tǒng)采用單板機測量與控制,與上位計算機進行數(shù)據(jù)交換,提高了運行速度。
10、通過計算機軟件來調整每個通道的光電倍增管負高壓,通道負高壓分8檔調整,從而大大地提高通道的利用率和分析譜線的最佳線性范圍在分析不同材質中的采用,減少了通道的采用數(shù)量,降低了成本。
11、可用于多種基體分析:Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等。
12、采用純中文Windows系統(tǒng)下的操作軟件,操作簡單易懂。
13、計算機軟件建有數(shù)據(jù)庫系統(tǒng),方便了測量數(shù)據(jù)的查詢與打印,也可通過網(wǎng)絡遠程傳輸數(shù)據(jù),方便快捷。
14、各項系統(tǒng)獨立供電,組成單元,使用方便,維護簡單。
15、采用光學部分恒溫措施,保證了儀器的正常運行,從而降低了對環(huán)境的要求。
16、采用高精度直線電機進行入縫掃描,速度快,精確度高。
17、采用整體出射狹縫,方面增加通道。
三、不銹鋼合金直讀光譜分析儀 金屬元素分析儀技術指標
1、激發(fā)光源:
⑴供電電壓:50Hz、220V±1%
⑵輸入功率:1.0KVA
⑶充電電容:預燃7.5μF,曝光1.5μF
⑷峰值電流:預燃120A,曝光30A
⑸主回路峰壓:300VDC(采用自動調整峰壓)
⑹引燃電路:脈沖幅度:+15KV 輔助間隙:采用隧道二極管
放電頻率:數(shù)字光源100Hz--1000Hz
2、激發(fā)臺
⑴樣品臺分析間隙:4mm
⑵充氬氣樣品架,無需水冷卻
⑶分析時間間隔:一般不到1分鐘
3、分光儀
⑴分析波段范圍:160~650nm
⑵光柵:曲率半徑 750mm 刻劃密度:2400線/mm 刻劃面積:30×50mm2 閃耀波長(一級):300nm 線色散:0.55nm/mm
⑶入射狹縫寬度:20μm
⑷出射狹縫寬度:50μm、75μm
⑸光電倍增管:直徑28mm,10級側窗管,熔融石英或玻璃外殼
⑹允許最多通道:24個(可擴張到48個通道)
⑺分光儀局部恒溫:38℃±0.2℃
4、測控系統(tǒng)
⑴測控系統(tǒng):采用單板機測量和控制,與上位計算機進行數(shù)據(jù)交換
⑵測量方式:分段積分
積分電容容量:0.047μF
重現(xiàn)性:RSD≤0.2%
⑶光電倍增管高壓電源:電壓:-1000V穩(wěn)定度:8小時優(yōu)于0.5%
高壓調節(jié):從-550V到-1000V變化,分8(0-7)檔調整
高壓設置:用戶通過計算機軟件改變
5、外形尺寸:
⑴主機:長1120mm×寬750mm×高920mm
⑵重量:凈重約266Kg
InnovateT5型全譜直讀光譜儀采用國際標準的設計和制造工藝技術,應用了日本濱松公司進的CMOS信號采集元件,每塊CMOS都可以單獨設值火花個數(shù),與國際光譜儀技術同步,采用真空光室設計及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限,整機設計合理,操作簡單易學,具有數(shù)據(jù)精準,長期穩(wěn)定性好等優(yōu)點。
應用范圍
冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。
檢測基體
T5鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基等
技術參數(shù)
光學系統(tǒng):帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)
波長范圍:140~680nm
光柵焦距:401mm
探 測 器:高性能CMOS陣列/CCD陣列
光源類型:數(shù)字光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率:100-1000Hz
放電電流:500A
工作電源:AC220V 50/60Hz 1000W
儀器尺寸: 780*565*360mm
儀器重量: 78kg
檢測時間:依據(jù)樣品類型而定,一般20S左右
電極類型:鎢材噴射電極
分析間隙:4mm
其他功能:真空,溫度,軟件自動控制;壓力,通訊監(jiān)測
儀器特點高性能光學系統(tǒng)
采用高精度的CMOS元件可精確測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;測定結果精準,重復性及長期穩(wěn)定性極佳。
自動光路校準
自動光路校準,光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;
儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定。
插拔式透鏡設計
真空光學系統(tǒng)采用獨特的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作,光學透鏡采用插拔式透鏡結構,日常清洗維護方便快捷。
真空防返油技術
多級隔離的真空防返油技術,采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時真空光室與真空完全隔離;中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進入真空室,保障CMOS檢測器及光學元件在可靠環(huán)境中工作。
開放式激發(fā)臺
開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設計,以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析;配合使用小樣品夾具,線材***低分析可達到3mm。
噴射電極技術
采用國際進的噴射電極技術,使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度;配上獨特氬氣氣路設計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。集成氣路模塊
氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護設計,替代電磁閥和流量計,電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。
數(shù)字化激發(fā)光源
數(shù)字激發(fā)光源,采用國際***為的等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品;可任意調節(jié)光源的各項參數(shù),滿足各種不同材料的激發(fā)要求。高速數(shù)據(jù)采集
儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。
以太數(shù)據(jù)傳輸
計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時計算機和打印機完全外置,方便升級和更換;可以遠程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。預制工作曲線
備有不同材質和牌號的標樣庫,儀器出廠時工廠預制工作曲線,方便安裝調試和及時投入生產(chǎn);根據(jù)元素和材質對應的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調節(jié)好,根據(jù)分析程序可自動選擇***優(yōu)測試條件。分析速度快
分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析;針對不同的分析材料,通過設置預燃時間及測量時間,使儀器用***短時間達到***優(yōu)的分析效果。
多基體分析
光路設計采用羅蘭圓結構,檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設施,即可實現(xiàn)多基體分析;便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素(無硬件成本)。軟件中英文系統(tǒng)
儀器軟件操作簡單,完全兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)。
產(chǎn)品包裝