等離子清洗器產品及廠家
日本yamato等離子清洗機pdc200/pdc210/pdc510|gas plasma dry cleaners，主要用于csb/bga/cob基板的等離子處理，有機膜和金屬氧化膜的除去，印刷電路基板的干洗，界面活性處理等；適用于科研試驗的等離子清洗機。
更新時間:2025-02-13
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2025-02-13
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時間:2025-02-13
aac54 plus酸逆流清洗器,通過相對密閉的腔體內酸蒸氣持續(xù)快速的逆流，可以安全、高效的把樣品化學分析后的各種石英玻璃、ptfe等材質的試管及附件.上面的任何痕量金屬污染物徹.底清洗清除。該產品可廣泛應用于實驗室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。
更新時間:2025-02-13
plasma wand 是一款可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設備，無需外部氣體，只需接通電源即可工作運行。plasmawand是一款完美的小型設備，適用于研究所，大學的實驗室，或者任何需要小型等離子設備的場合。
更新時間:2025-02-12
大氣等離子清洗機采用噴嘴式等離子發(fā)生器對焊接或者印刷樣品進行表面活化。該設備可伸縮，且能與機器人及自動化生產線很好的兼容。與其他所有等離子系統(tǒng)一樣，大氣等離子體系統(tǒng)提供一致的和可重復的結果。大氣等離子清洗機噴頭的氣體連線可長達10米，便于集成到大尺寸的系統(tǒng)。各種不同類型的噴頭可可用于任何應用。
更新時間:2025-02-12
gv10x 是由ibss group和一個擁有專利的等離子源的發(fā)明者共同合作開發(fā)并生產的新一代專門清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。gv10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運行，它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳氫污染。它能夠去除掃描電子顯微鏡(sem)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。
更新時間:2025-02-12
等離子表面處理機是一種非破壞性的表面處理設備，它是利用能量轉換技術，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內有機污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達到分子級。
更新時間:2025-02-12
等離子表面處理機是一種非破壞性的表面處理設備，它是利用能量轉換技術，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內有機污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達到分子級。
更新時間:2025-02-12
hty-30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負壓抽濾方式進行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設備使
更新時間:2025-01-30
spk-500s 寬幅等離子清洗機(plasma cleaner)，氣體通過激勵電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產品表面，清洗產品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時間:2025-01-29
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2025-01-16
trigonal砂輪范圍包括trigonal金剛石砂輪和trigonal cbn砂輪。trigonal砂輪公司以創(chuàng)/新和ling活為特色, 響應個人客戶的要求, 確bao您的打磨項目量身定做和全/面實施。
更新時間:2025-01-14
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進行整合，可以滿足生產企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進行定制。
更新時間:2025-01-13
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-01-13
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-01-13
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-01-13
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術可應用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應用于多種領域。
更新時間:2025-01-13
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
npc-3000等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用
更新時間:2025-01-06
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
nie-3500 (ac)全自動離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
npe-4000（m） pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數。
更新時間:2025-01-06
npe-4000（a）全自動pecvd等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
npc-4000（m）等離子清洗機概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
npc-3500（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-01-06
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機等；美國公司為全球先的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力；并且其設備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
更新時間:2024-12-30
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產地：美國angstrom；型號：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時間:2024-12-30
vpg+800 / vpg+1100 / vpg+1400大尺寸超高速圖形發(fā)生器the multi-purpose volume pattern generators
更新時間:2024-12-30
nanofrazor scholar適合科研域的中小型實驗凈房與納米加工的學術研究域thermal scanning probe lithography toolwith in-situ imaging and grayscale patterning capabilities
更新時間:2024-12-30
mpo 100雙光子聚合 (tpp) 多用途工具multi-user tool for 3d lithography and 3d microprinting
更新時間:2024-12-30
jem-2800是日本電子透射電子顯微鏡系列中的一款特殊設計的產品，在兼顧高分辨高穩(wěn)定性的同時，求分析效率的大化和操作的自動化。顛覆傳統(tǒng)的電鏡外觀設計，除了讓人耳目一新外，還對設置環(huán)境更具抗干擾能力。
更新時間:2024-12-30
016年新年伊始，日本電子株式會社（jeol）即全球同步推出了新款場發(fā)射透射電鏡jem-f200。 為了全面整合近年發(fā)展起來的透射電鏡上的各種功能，jem-f200進行了全新設計，在保障各種功能達到限的同時，追求操作的簡單化和自動化，為用戶提供透射電鏡操作的全新體驗。
更新時間:2024-12-30
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機械測試儀，可快速提供準確的定量結果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產品線中全面的測試套件。
更新時間:2024-12-30
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