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等離子清洗器產(chǎn)品及廠家

實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)
pe25等離子清洗機(jī)以體積小、高性?xún)r(jià)比、操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn)廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場(chǎng)合。
更新時(shí)間:2025-02-12
Plasma Wand手持式大氣等離子清洗機(jī)
plasma wand 是一款可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設(shè)備，無(wú)需外部氣體，只需接通電源即可工作運(yùn)行。plasmawand是一款完美的小型設(shè)備，適用于研究所，大學(xué)的實(shí)驗(yàn)室，或者任何需要小型等離子設(shè)備的場(chǎng)合。
更新時(shí)間:2025-02-12
大氣等離子清洗機(jī)Atmospheric plasma 常壓低溫等離子清洗機(jī)
大氣等離子清洗機(jī)采用噴嘴式等離子發(fā)生器對(duì)焊接或者印刷樣品進(jìn)行表面活化。該設(shè)備可伸縮，且能與機(jī)器人及自動(dòng)化生產(chǎn)線很好的兼容。與其他所有等離子系統(tǒng)一樣，大氣等離子體系統(tǒng)提供一致的和可重復(fù)的結(jié)果。大氣等離子清洗機(jī)噴頭的氣體連線可長(zhǎng)達(dá)10米，便于集成到大尺寸的系統(tǒng)。各種不同類(lèi)型的噴頭可可用于任何應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-02-12
GV10x電鏡等離子清洗器，透射電鏡，掃描電鏡（TEM/STM）專(zhuān)用等離子清洗機(jī)
gv10x 是由ibss group和一個(gè)擁有專(zhuān)利的等離子源的發(fā)明者共同合作開(kāi)發(fā)并生產(chǎn)的新一代專(zhuān)門(mén)清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。gv10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運(yùn)行，它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳?xì)湮廴。它能夠去除掃描電子顯微鏡(sem)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長(zhǎng)久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。
更新時(shí)間:2025-02-12
PE-100實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)
等離子表面處理機(jī)是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗，在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。
更新時(shí)間:2025-02-12
PE-50實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)
等離子表面處理機(jī)是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗，在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。
更新時(shí)間:2025-02-12
測(cè)試真空泵
hty-30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測(cè)的專(zhuān)用真空泵，它具有外形小巧，操作簡(jiǎn)單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過(guò)濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測(cè)的專(zhuān)用真空泵，它具有外形小巧，操作簡(jiǎn)單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過(guò)濾支架配套，采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時(shí)間:2025-01-30
寬幅線性等離子清洗機(jī)
spk-500s 寬幅等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)，氣體通過(guò)激勵(lì)電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時(shí)間:2025-01-29
HK-LTPS100A低溫等離子體滅菌系統(tǒng)/滅菌儀
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過(guò)氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)？梢詫(duì)不耐濕熱的器械進(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對(duì)醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類(lèi)（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢(shì)。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢(shì)明顯
更新時(shí)間:2025-01-16
供應(yīng)Trigonal砂輪10分鐘報(bào)價(jià)----德國(guó)赫爾納(大連)ZQ
trigonal砂輪范圍包括trigonal金剛石砂輪和trigonal cbn砂輪。trigonal砂輪公司以創(chuàng)/新和ling活為特色, 響應(yīng)個(gè)人客戶(hù)的要求, 確bao您的打磨項(xiàng)目量身定做和全/面實(shí)施。
更新時(shí)間:2025-01-14
FOTRIC 手持式熱像儀 340系列 Fotric 345 旭阿科技 現(xiàn)貨庫(kù)存
fotric 熱像儀
更新時(shí)間:2025-01-13
精密型等離子清洗機(jī) 小型生產(chǎn) NANO 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER 18L-24L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
德國(guó)原裝進(jìn)口 等離子清洗機(jī) DIENER TETRA30 30-50L 清洗/活化/蝕刻/涂層
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶(hù)要求進(jìn)行定制。
更新時(shí)間:2025-01-13
常壓等離子清洗機(jī) 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER plasmabeam 大氣等離子清洗機(jī)
對(duì)于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過(guò)高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過(guò)等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-01-13
常壓等離子清洗機(jī) 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER plasmabeam DUO 大氣等離子清洗機(jī)
對(duì)于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過(guò)高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過(guò)等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子清洗機(jī) 2.6L 小型 高性?xún)r(jià)比 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER ZEPTO
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過(guò)這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時(shí)間:2025-01-13
等離子清洗機(jī) 10.5L 小型 高性?xún)r(jià)比 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER ATTO
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過(guò)這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時(shí)間:2025-01-13
精密型等離子清洗機(jī) 小型 臺(tái)式 研發(fā)專(zhuān)用 FEMTO 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER 2.2L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
精密型等離子清洗機(jī) 研發(fā)專(zhuān)用 PICO 德國(guó)原裝進(jìn)口 DIENER 5L-8L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-01-13
NIE-3500 (MC) 離子束清洗系統(tǒng)
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
NPC-3000 等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-3000等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-01-06
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統(tǒng)
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動(dòng)放片取片，但通過(guò)計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
NIE-3500 (AC) 全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)
nie-3500 (ac)全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動(dòng)上下載片，并且通過(guò)計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國(guó)際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-01-06
NPE-4000 (M) 等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
npe-4000（m） pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
NPE-4000 (A) 全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
npe-4000（a）全自動(dòng)pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-01-06
SWC-4000 (C) 兆聲清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
SWC-3000 (M) 兆聲掩模板清洗機(jī)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
LSC-4000 (C) 兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
LSC-5000 (AD) 全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
NPC-3500 (M) 等離子清洗機(jī)
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
NPC-4000 (M) 等離子清洗機(jī)
npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
NPC-3500 (A) 全自動(dòng)等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-3500（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
SWC-4000 (M) 兆聲掩模板清洗機(jī)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
SWC-3000 (D) 兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
NPC-4000 (A) 全自動(dòng)等離子清洗機(jī)去膠機(jī)
npc-4000（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-01-06
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)
光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等；美國(guó)公司為全球先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶(hù)的青睞。
更新時(shí)間:2024-12-30
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產(chǎn)地：美國(guó)angstrom；型號(hào)：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻機(jī)
vpg+800 / vpg+1100 / vpg+1400大尺寸超高速圖形發(fā)生器the multi-purpose volume pattern generators
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)海德堡 NanoFrazor Scholar熱探針科研型3D納米結(jié)構(gòu)激光直寫(xiě)光刻機(jī)
nanofrazor scholar適合科研域的中小型實(shí)驗(yàn)凈房與納米加工的學(xué)術(shù)研究域thermal scanning probe lithography toolwith in-situ imaging and grayscale patterning capabilities
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)海德堡 MPO100雙光子激光直寫(xiě)/三維光刻3D打印/無(wú)掩膜灰度直寫(xiě)光刻
mpo 100雙光子聚合 (tpp) 多用途工具multi-user tool for 3d lithography and 3d microprinting
更新時(shí)間:2024-12-30
JEOL JEM-2800 高通量場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡
jem-2800是日本電子透射電子顯微鏡系列中的一款特殊設(shè)計(jì)的產(chǎn)品，在兼顧高分辨高穩(wěn)定性的同時(shí)，求分析效率的大化和操作的自動(dòng)化。顛覆傳統(tǒng)的電鏡外觀設(shè)計(jì)，除了讓人耳目一新外，還對(duì)設(shè)置環(huán)境更具抗干擾能力。
更新時(shí)間:2024-12-30
自動(dòng)進(jìn)樣場(chǎng)發(fā)射透射電鏡
016年新年伊始，日本電子株式會(huì)社（jeol）即全球同步推出了新款場(chǎng)發(fā)射透射電鏡jem-f200。 為了全面整合近年發(fā)展起來(lái)的透射電鏡上的各種功能，jem-f200進(jìn)行了全新設(shè)計(jì)，在保障各種功能達(dá)到限的同時(shí)，追求操作的簡(jiǎn)單化和自動(dòng)化，為用戶(hù)提供透射電鏡操作的全新體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2024-12-30
KLA 納米壓頭®G200X納米壓痕儀
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機(jī)械測(cè)試儀，可快速提供準(zhǔn)確的定量結(jié)果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產(chǎn)品線中全面的測(cè)試套件。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)Diener 等離子清洗機(jī) Zepto
德國(guó)diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)Diener ZEPTO Plasma 等離子清洗機(jī)
2.6 升的low-cost-plasma-laboranlage zepto 為手動(dòng)型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)Diener Zepto W6 等離子表面處理機(jī)
德國(guó)diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等。可選擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)DIENER PLASMA ATTO 等離子清洗機(jī)
10.5 升的low-cost-plasma-laboranlage atto 為手動(dòng)型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-30
德國(guó)Diener FEMTO 等離子清洗機(jī)
德國(guó)diener electronic成立于1993年，是低溫等離子工業(yè)的導(dǎo)者，是一家門(mén)研發(fā)和制造低溫低壓等離子清洗機(jī)、等離子射頻電源和大氣（常壓）等離子清洗機(jī)的高科技企業(yè)。
更新時(shí)間:2024-12-30

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