CD1000型等離子表面處理機是用于較大尺寸消費類電子產品的表面處理和改性的專業(yè)設備??筛鶕蛻粜枰x擇上料裝置。
反應艙(大型):
艙體尺寸:1000×700×700 mm
材料:鋁 壁厚:
3cm 容積:
490 升 艙門:裝有可視窗口
架子: 7個 (尺寸可耕具客戶要求訂制)
主要應用于以下領域:
金屬:等離子處理是一種環(huán)境友好型處理模式,代替了傳統(tǒng)的三氯化物化學處理方式。汽車制造:用于汽車制造過程中的塑料和噴漆前處理。紡織品生產:用于紡織品、濾網和薄膜的親水性、疏水性和表面改性處理。醫(yī)療:用于玻璃導管、注射器和各種閥門的膠合前處理。航空航天:絕緣材料(泡沫)、電子
NT-1/-2 臺式/立式等離子清洗機
應用: 半導體IC; SMT; LCD等制造過程中表面清潔和表面改善功能.去除外表面殘留的光刻膠, 有機污染物, 溢出的環(huán)氧樹脂等; 還可以對表面的性能進行活化, 增加表面的焊接及封裝能力…. 它可以用于生產制造過程中, 也可以用于FA或QA實驗室中. 主要特征: 1 獨特的腔體設計; 2 提供最佳的潔凈空間和均勻的等離子分布; 3 使用友好的控制操作界面; 4 可進行菜單式操作和控制; 5 全部參數都時實地顯示在設備的屏目上:可隨時根據系統(tǒng)狀況,進行系統(tǒng)診斷和操作 NT-1 參數: 尺寸(英尺): 26L X 14W X14H 重量: 120LBS 設備腔體內部尺寸: 9W X 9H X 12L (UPTO 4 SHELVES) 發(fā)動機: 300 or 600 Watt 泵: 3.2CFM 11CFM 操作控制: 單機板控制, 無限量數據存儲; TFT 顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結果方便輸出/存儲及處理.
NT-2 參數: 尺寸(英尺): 28L X 26W X26H 重量: 140LBS 設備腔體內部尺寸:12W X 12H X 20L (UPTO 8 SHELVES) 發(fā)動機: 600 or 100 or 1500 Watt @13.50 MHZ or 40KHZ 泵: 27 or 50 or 90 CFM 操作控制: 單機板控制, 無限量數據存儲; TFT顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結果方便輸出/存儲及處理.
目前,我司已與一些著名的生產和研究單位建立了良好的業(yè)務關系;同時,也已與歐、美等地區(qū)的半導體生產廠商及有關機構也建立起了良好的合作伙伴關系。
聯(lián)系人: 馮先生手機:139-1145-7960Email:bf711@befirst-tech.comWebSite:www.befirst-tech.com
如果有任何關于設備或者技術的疑問歡迎電話或Email給我,合作愉快!
GV10x電鏡等離子清洗器
GV10x 是由ibss Group和一個擁有專利的等離子源的發(fā)明者共同合作開發(fā)并生產的新一代專門清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。GV10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運行,它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的(10到20倍)去除碳和碳氫污染。它能夠去除掃描電子顯微鏡(SEM)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。不但能夠消除掃描電子顯微鏡圖像中的黑色掃描方框,針對聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳污染同樣能得到很好的控制效果。
GV10x (KF40 version)
GV10x等離子清洗器是應用于真空腔體中的原位清洗機的一個全新典范。憑借精妙的順流工藝,GV10x等離子清洗器比第一代方法更加有效和均勻10到20倍地去除碳和碳氫污染。分子泵也可以安全地運行,而不需要中斷SEM, FIB或TEM系統(tǒng)的軟件控制。
柔和: 使用中性氧或氫的自由基通過非動力學過程,灰化氣相的碳氫化合物和表面碳。
Gentle Asher™, GA/GV
ibss group引進電鏡樣品預處理腔,拓展了GV10x的應用,用以清潔送入電子顯微鏡腔前的樣品。連接了GV10x 的預處理腔體, GA/GV, 可以極大地防止黑色掃描方框的生成。
在將電鏡腔清潔到可接受的碳氫污染水平后,可以使用等離子體工藝,通過簡單地將GV10x源移動到預處理腔的腔體中,達到樣品清潔和儲存的目的??蛻舻膱蟾媛暦Q這種有效的結合以更少的損傷巧妙地去除TEM樣品臺和任何類型樣品的污染,同時保持CDSEM、 SEM、FIB 和TEM中碳氫污染水平的易控制性。預清潔樣品和樣品臺避免了污染電鏡腔體,這樣就延長了電鏡清洗的周期。
主要特點:
1、RIE模式標配(DP切換為選購);2、等離子的均應性高操作簡單的液晶觸摸屏控制面;用途:1、CSB/BGA/COB基板的等離子處理;2、有機膜和金屬氧化膜的除去;3、電路基板的干洗;4、活性處理。
型號 | PDC200 | PDC210 | PDC510 |
模式 | RIE模式(DP選配) | DP模式 | DP/RIE切換方式 |
電極構造 | 平行平板電極(固定) | ||
高頻輸出功率 | MAX300W | Max 500W | |
頻率 | 13.56MHz | ||
控制方式 | 自動聯(lián)動,液晶觸摸屏控制 | ||
反應室尺寸 | 400×250×150mm | 500×300×200 | |
電極尺寸 | 250×170mm | 400×200mm | |
反應室材質 | 一次性一體成型鋁腔(防腐蝕,可對應CF4) | ||
反應氣體 | 2系統(tǒng)(Ar/O2) | ||
填充氣體 | N2/潔凈干燥空氣 | ||
反應氣體流量控制 | 流量計 | 聚合控制器 | |
真空泵 | 另行選配 | 油回旋真空泵(排氣量345L/min) | 油回旋真空泵(排氣量500L/min) |
氣體導入口 | 反應氣體2套,填充氣體1套 | ||
外型尺寸 | 540×600×600mm | 540×600×600mm | 700×700×700mm |
電源 | 單相AC100V 15A 50/60Hz | 三相AC100V 15A 50/60Hz |
*產品型號 | CY-P2L-A |
*供電電源: | AC220V |
*工作電流: | 整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵) |
*射頻電源功率: | 200W |
*射頻頻率: | 40KHZ(偏移量小于0.2KHz) |
*頻率偏移量: | 小于0.2KHz |
*特性阻抗: | 50歐姆,自動匹配 |
*真空度: | 30Pa—100Pa |
*氣體流量: | 10—100ml/min(可調) |
*過程控制: | MCU自動與手動方式 |
清洗時間: | 1-6000秒鐘可調 |
功率大小 | 10%-100%可調 |
內腔尺寸 | 100mm×270mm |
*外形尺寸: | 440*390*200mm |
*重量: | 25Kg |
*真空泵: | 100Pa |
*真空室溫度: | 小于65°C |
*冷卻方式: | 強制風冷 |
PDC-MG 等離子清洗機配備有各種數字式儀表,能更加精確的記錄各個實驗參數。該款設備操作更為簡便,只需要一個開關鍵即可對整個清洗過程進行控制。該型號等離子清洗機具備更為高的射頻功率,使得等離子清洗的應用面更為寬廣,除普通的清洗功能外,還具備表面改性、鍵和、淺刻蝕等功能。通過國家輻射環(huán)境管理監(jiān)測站檢驗,符合國家相關產品標準要求。
技術參數:
整機規(guī)格 | 500×300×300(長×寬×高)mm |
整機重量 | 35 Kg |
清洗艙規(guī)格 | Φ165×L210 mm (耐熱玻璃) |
清洗艙有效容積 | 4.5 L |
輸入電源 | 220 V/50 Hz |
整機輸入功率 | 400 W |
射頻輸出 | 0~150 W(連續(xù)可調) |
射頻頻率 | 13.56 MHz |
數字式定時器范圍 | 0~99.99 min |
極限真空度 | 1.3×102 Pa |
數字式真空計及量程 | 1.0×102~9.9×105 Pa |
數字式電流表和數字式電壓表 | 方便判斷設備工作中的功率大小 |
氣體流量計及量程 | 0.2~1.5 L/min 浮子流量計二支,方便二種不同氣體按比例混合 |
配件 | VRD-8 型單相真空泵、耐熱玻璃托盤一個 |
PDC-MG 型等離子清洗機配套的VRD-8 型單相真空泵圖片:
(全部圖片以實物為準)
VRD-8 真空泵技術參數:
產地 | 中國·浙江 |
抽氣速度 | 2.2 L/S |
極限真空 | 5x10-2 |
水蒸汽容量 | 360g/h |
噪音 | 56A |
工作環(huán)境溫度 | 10-40℃ |
電機相數 | 單相 |
電機電壓 | 220V |
電機功率 | 0.37KW |
電機轉速 | 1440 r/min |
重量 | 16.2kg |
用油量 | 0.5L |
真空系統(tǒng)配件 | 管卡3 個、真空橡皮軟管(直徑12 mm、長度2 m) 1 根、硅橡膠管(直徑6 mm、長度2 m) 1 根、真空泵進氣口轉接頭1 個、生料帶1 卷、改刀1 把、尼龍扎扣3 個 |
該真空泵為出口型真空泵,其性能遠遠高于其它國產真空泵。