該清洗機(jī)內(nèi)置不高純石英倉體,容積為2升,結(jié)構(gòu)為國際上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個(gè)機(jī)箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時(shí)與大型清洗機(jī)相比較,從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個(gè)面板上操作,特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗 和教學(xué)。 等離子清洗機(jī)具備有超清洗功能,并且在特定條件下還可根據(jù)需要改變用于某些材料表面的性能,如把等離子清洗機(jī)的等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。RFC-2C在超清洗過程中等離子清洗機(jī)的輝光放電不但能夠加強(qiáng)多數(shù)材料的粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌。RFC-2C等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域聯(lián)系電話:手機(jī)/微信:152 8682 QQ:760625767聯(lián)系人:李工
MYCRO邁可諾公司提供美國原裝進(jìn)口等離子清洗機(jī)/表面處理儀,請您放心選購!基本型:PDC-32G-2擴(kuò)展型:PDC-002增強(qiáng)型:PDC-002-HPHarrick等離子清洗機(jī)等離子表面活化儀 等離子表面處理儀Plasma Surface Treatment System美國Harrick等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner美國原裝進(jìn)口Harick等離子清洗機(jī)美國PDC-32G-2等離子清洗機(jī)美國PDC-002等離子清洗機(jī)美國PDC-FMG-2 PlasmaFlo氣流混合器plasma cleaner pdc-002 PDC-32G-2、PDC-002 進(jìn)口等離子清洗器 Gas plasma Dry cleanerPDC-32G Basic Plasma Cleaner 美國Harrick等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner PDC-32G-2 實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī) plasma cleaner技術(shù) harrick pdc-002 等離子清洗機(jī)臺(tái)式 plasma清洗機(jī) harrick pdc-002說明書 等離子清洗活化pdc pdc002等離子清洗器 美國等離子體清洗機(jī) pdc-32g等離子清潔儀
Harrick Plasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。該款等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。這款等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵,工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。這款等離子體表面處理儀短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉,同時(shí)污染物被等離子體表面處理儀的真空泵抽走,這款等離子體表面處理儀的清洗程度達(dá)到分子級。等離子體表面處理儀的產(chǎn)品特征:* 緊湊的臺(tái)式設(shè)備、沒有RF放射、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。* 功率為低、中、高三檔可調(diào)。* 兩種型號: 基本型:PDC-32G-2 清洗艙:長6.5英寸,直徑3英寸; 整機(jī)尺寸:8英寸H×10英寸W×8英寸D 擴(kuò)展型:PDC-002 清洗艙:長6.5英寸,直徑6英寸;艙蓋具備鉸鏈和磁力鎖,并有一個(gè)可視窗口。 整機(jī)尺寸:11英寸H×18英寸W×9英寸D等離子體表面處理儀除了PDC-32G-2 基礎(chǔ)型和PDC-002 擴(kuò)展型 兩種常規(guī)機(jī)型的等離子清洗機(jī)以外,我們還提供以下配件選項(xiàng):氣流混合器 配套進(jìn)口真空干泵 進(jìn)口真空油泵等離子體表面處理儀的優(yōu)點(diǎn): 1.完全徹底地清除表面有機(jī)污染物。2.清洗快速、操作簡便、使用和維護(hù)成本極低。3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。4.綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、無二次污染。5.常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。美國Harrick系列等離子清洗器 由香港邁可諾技術(shù)監(jiān)制直銷,邁可諾營銷服務(wù)中心技術(shù)支持,品牌保證。需要更詳細(xì)的產(chǎn)品資料咨詢,請與邁可諾技術(shù)有限公司中國營銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系!◆ 設(shè)備外形尺寸
630(W)×650(D)×420(H)mm
◆ 倉體結(jié)構(gòu)(耐熱玻璃或石英玻璃,約10升)
Φ215 × 300(L) mm
◆ 電極面積(外置電容耦合或電感耦合電極)
180(W) ×210(D) mm
頻率13.56MHZ,功率0-300W連續(xù)調(diào)節(jié),自動(dòng)阻抗匹配
◆ 控制系統(tǒng)
觸摸屏(7寸)+PLC單步法全自動(dòng)控制,采用歐姆龍、西門子等世界品牌電器元件,并具有手動(dòng)、自動(dòng)兩種模式
◆ 真空系統(tǒng)
德國萊寶(Leybold)真空泵 D16C (20m3/h)
SMC截止閥、充氣閥,德國(Inficon)壓力傳感器
◆ 壓力控制
PID閉環(huán)自動(dòng)穩(wěn)壓控制
◆ 氣路系統(tǒng)
2路工藝氣體配置,電子質(zhì)量流量計(jì)、針閥,美國飛托克(FITOK)氣體管路
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郵箱:gaohy8210@163.com.cn
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| 等離子清洗機(jī) | DJY-2A | | | 面議 |
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等離子清洗機(jī)技術(shù)規(guī)格 1.個(gè)引進(jìn)了美國霍尼韋爾真空壓力傳感器使得機(jī)器在智能控制下有了的依據(jù) *2.采用艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料,稱之為全防腐型 *3.該儀器實(shí)現(xiàn)了手動(dòng),自動(dòng)兩種模式任意切換的工作方式 4.該儀器實(shí)現(xiàn)了程序化設(shè)計(jì),預(yù)先編輯好程序,儀器可以自動(dòng)完成實(shí)驗(yàn) 5.無需任何耗材,使用成本低 6.無需特殊進(jìn)行維護(hù),在日常使用中保持儀器清潔即可 7.技術(shù)指標(biāo): 艙體尺寸: 270mX100(直徑)mm 射頻頻率: 40KHz 射頻功率: 150W 電 源: ~220V 電 流: 1.2A 外形尺寸: 450mmX450mmX200mm 整機(jī)重量: 15Kg 真空泵配置:2XZ—1型真空泵www.kyxy17.com/ | ||||||
配置/Configuration 1. 主機(jī) 1臺(tái) 2. 2XZ-1型真空泵 一臺(tái); 3. 20毫米真空抽氣軟管 一根; 4. 艙內(nèi)托盤 一塊; 5. 主電源線 一根; 6. 備件保險(xiǎn)管 4個(gè); 7. 技術(shù)使用說明書 一本; 8. 合格證 一份; 9. 保修單 一份; |
等離子清洗機(jī)是我公主推的主要產(chǎn)品之一,質(zhì)量,價(jià)格,售后無憂,
北京創(chuàng)世杰公司提供美國Trion公司的Orion III系列等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)、Phantom III系列反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)(RIE,DRIE,ICP等)和Apollo型等離子去膠機(jī)。美國Trion公司為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場提供多種等離子工藝設(shè)備。Trion產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積小,成本合理而著稱,且設(shè)備及工藝可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗(yàn)。產(chǎn)品線既包含成套的批量生產(chǎn)設(shè)備,也有用于科研開發(fā)的系統(tǒng)。
Orion III 等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積機(jī)
設(shè)備主要性能指標(biāo):
1. 適于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)線
2. 適合沉積氧化硅、氮化硅、氮氧化硅以及非晶硅等薄膜
3. 可使用的工藝氣體:SiH4(含量<20%)、NH3、TEOS、SiH2Cl2、N2O、O2以及N2等
4. 基片臺(tái)尺寸為200mm或300mm
5. 最大基片尺寸300mm,兼容更小尺寸的基片
6. 標(biāo)配功率300W、頻率350-460kHz的等離子激發(fā)源(底部源)
7. 從反應(yīng)腔室頂蓋處直接裝卸基片
8. 配備工藝壓力下游自動(dòng)控制系統(tǒng)
9. 標(biāo)配4路,最多8路質(zhì)量流量計(jì)控制的工藝氣路,采用超潔凈管路及VCR接頭
10. 基于計(jì)算機(jī)的配方式工藝控制系統(tǒng),彩色觸摸屏操控
11. (可選)增加功率600W、頻率13.56MHz的高密度等離子激發(fā)源(頂部源),優(yōu)化薄膜應(yīng)力控制
12. (可選)基片加熱溫度控制50℃至400℃
13. (可選)油泵、干泵及分子泵
14. (可選)Loadlock預(yù)真空鎖腔室
15. (可選)ICP電感應(yīng)耦合等離子源
同時(shí),本公司還可以提供美國Trion公司用于批量生產(chǎn)型的Titan型和Oracle III型多腔室型生產(chǎn)型的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD和反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)RIE(含ICP、HDICP、深硅刻蝕等)。
如果您對GPC-102(替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī))系列等離子清洗機(jī)系統(tǒng)感興趣,請聯(lián)系我們索取更詳盡資料!
外型尺寸:W 562 mm, H 211 mm, D 420 mm
反應(yīng)室尺寸: Ø 100 mm, L 280 mm
氣體供應(yīng): 流量控制型 ; 雙氣體通道
射頻發(fā)生器: 40kHz/100 W, 可調(diào)變輸出功率
真空泵: Leybold, Type S1.5 (1.5m3/h)
控制方式: 電腦控制
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