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CD1000等離子清洗機－－Europlasma nv

CD1000型等離子表面處理機是用于較大尺寸消費類電子產(chǎn)品的表面處理和改性的專業(yè)設備。可根據(jù)客戶需要選擇上料裝置。

反應艙（大型）：

艙體尺寸：1000×700×700 mm

材料：鋁壁厚：

3cm

容積：

490 升艙門：裝有可視窗口

架子: 7個（尺寸可耕具客戶要求訂制）

主要應用于以下領域：

金屬：等離子處理是一種環(huán)境友好型處理模式，代替了傳統(tǒng)的三氯化物化學處理方式。汽車制造：用于汽車制造過程中的塑料和噴漆前處理。紡織品生產(chǎn)：用于紡織品、濾網(wǎng)和薄膜的親水性、疏水性和表面改性處理。醫(yī)療：用于玻璃導管、注射器和各種閥門的膠合前處理。航空航天：絕緣材料（泡沫）、電子

該公司產(chǎn)品分類：水質(zhì)分析儀/多參數(shù)水質(zhì)分析儀其它基礎儀表其它測量/計量儀器生物顯微鏡激光拉曼光譜(RAMAN) 表面阻抗蠕動泵電化學工作站、恒電位儀液體處理工作站(移液工作站) 在線測厚儀生物芯片、芯片掃描儀、芯片點樣儀、芯片檢測儀微波、電、磁學量的測量儀表微流控芯片等離子體表面處理儀橢偏儀鎖相放大器其它動物實驗儀器白光干涉測厚儀掃描探針顯微鏡SPM（原子力顯微鏡AFM、掃描隧道顯微鏡STM）紫外、紫外分光光度計、紫外可見分光光度計、UV

應用: 半導體IC; SMT; LCD等制造過程中表面清潔和表面改善功能.去除外表面殘留的光刻膠, 有機污染物, 溢出的環(huán)氧樹脂等; 還可以對表面的性能進行活化, 增加表面的焊接及封裝能力…. 它可以用于生產(chǎn)制造過程中, 也可以用于FA或QA實驗室中. 主要特征： 1 獨特的腔體設計； 2 提供最佳的潔凈空間和均勻的等離子分布； 3 使用友好的控制操作界面； 4 可進行菜單式操作和控制； 5 全部參數(shù)都時實地顯示在設備的屏目上：可隨時根據(jù)系統(tǒng)狀況，進行系統(tǒng)診斷和操作 NT-1 參數(shù): 尺寸（英尺）: 26L X 14W X14H 重量: 120LBS 設備腔體內(nèi)部尺寸: 9W X 9H X 12L （UPTO 4 SHELVES）發(fā)動機: 300 or 600 Watt 泵: 3.2CFM 11CFM 操作控制: 單機板控制, 無限量數(shù)據(jù)存儲; TFT 顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結果方便輸出/存儲及處理.

NT-2 參數(shù): 尺寸（英尺）: 28L X 26W X26H 重量: 140LBS 設備腔體內(nèi)部尺寸:12W X 12H X 20L （UPTO 8 SHELVES）發(fā)動機: 600 or 100 or 1500 Watt @13.50 MHZ or 40KHZ 泵: 27 or 50 or 90 CFM 操作控制: 單機板控制, 無限量數(shù)據(jù)存儲; TFT顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結果方便輸出/存儲及處理.

目前，我司已與一些著名的生產(chǎn)和研究單位建立了良好的業(yè)務關系；同時，也已與歐、美等地區(qū)的半導體生產(chǎn)廠商及有關機構也建立起了良好的合作伙伴關系。

聯(lián)系人: 馮先生手機:139-1145-7960Email:bf711@befirst-tech.comWebSite:www.befirst-tech.com

如果有任何關于設備或者技術的疑問歡迎電話或Email給我，合作愉快！

該公司產(chǎn)品分類： RKD 酸開封機 RKD 激光開封機 DAGE4000產(chǎn)品配件易消耗品 BFL金屬和陶瓷封裝產(chǎn)品開封機 TPT半自動焊線機和貼片機 FAI 紅外熱像儀 DAGE X光檢查機（Dage X-ray） Dage4000推拉力測試機

等離子清洗機(低溫等離子表面改性設備)

等離子清洗機,又名低溫等離子表面改性設備,輝光放電電暈處理機,廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。汽車燈座和燈罩膠結前的處理pp化妝品包裝盒的印前處理聚氨酯橡膠印前處理玻璃瓶（丙稀酸樹脂）噴涂作色前的等離子處理各種箱包的印前或膠結前的表面處理（尼龍）保玲球表面噴涂或印刷前的表面處理復合樹脂鏡片的膠結面處理隱形眼鏡的表面親水處理各種樹脂、塑料、橡膠、玻璃等板材的表面處理各種塑料（密胺）餐具印刷前的表面處理酶標板、細菌計數(shù)培養(yǎng)皿、細胞培養(yǎng)皿、組織培養(yǎng)皿的親水處理。經(jīng)過等離子體處理后細菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面被水潤濕。

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QT-80-PSP等離子清洗機

主要應用于LCD、LED、連接器、鍵合前等大規(guī)模生產(chǎn)領域。

2.所有元器件及核心部件采用進口，了整機的穩(wěn)定性和使用壽命。

3.真空泵采用進口旋片泵，是適用于等離子工藝環(huán)境使用的可長時間工作的體系，

在抗氧化、耐腐等諸多方面積累了豐富的經(jīng)驗，使泵的壽命大大提高，并降

低了泵的維護成本，泵的各項保護措施完善，提高了長時間工作極限，泵油為耐

高溫、抗氧化油，泵具有可自行緩解溫度過高的散熱體系，無需水冷。泵體內(nèi)置

于機柜內(nèi)部，使機器緊湊，占地面積小。

4.自動控制系統(tǒng)采用PLC加觸摸屏控制，所有工藝參數(shù)、工藝過程實時監(jiān)控，并顯

示運行狀態(tài)、報警記錄和工藝曲線記錄、工作時間紀錄，適合維護，可以提供工

藝參考。

5.可存儲50組工藝配方，隨意調(diào)用。

6.清洗時間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量、設定可調(diào)。

7.工藝參數(shù)受密碼保護，分級密碼管理查詢。

8.一鍵完成全自動工藝，實時故障報警、非法操作提示、清洗結束提示等。

9.自動提醒系統(tǒng)維護、更換真空泵油等，避免機器過載、過老化情形下工作，延

長使用壽命。

10.氣體質(zhì)量流量計采用美國進口，由模擬量輸入輸出，量程為0～200sccm可在量

程范圍內(nèi)無級調(diào)節(jié)，根據(jù)特殊的工藝要求可用PLC對質(zhì)量流量計進行PID調(diào)節(jié)而實

現(xiàn)真空度的控制。

11.根據(jù)特殊的工藝要求可使用干泵，尾氣處理設備，油過濾器，過濾返油裝置等,

電極結構（專利申請中）的高等離子通量設計能很好地提高等離子體的均勻性

及穩(wěn)定性。

中型等離子處理機主要技術數(shù)據(jù)及規(guī)格

標準型號

技術配置

QT-48-PSP

QT-80-PSP

QT-120-PSP

外形尺寸（WHD）

900mm×1500mm×1000mm

900mm×1600mm×1000mm

反應倉尺寸

W400mm×H300mm×D400mm

W450mm×H400mm×D450mm

W450mm×H600mm×D450mm

真空腔體材質(zhì)

不銹鋼加鋁內(nèi)襯

電極板面積

320mm×280mm×4

360mm×340mm×5

360mm×340mm×6

等離子電源

美國進口

電源功率

0～600W

0～1000W

電源頻率

13.56MHz

13.56MHz/40kHz

極限真空度

2 Pa

3Pa

PLC控制系統(tǒng)

西門子PLC 模擬量控制實現(xiàn)所有信號數(shù)據(jù)集成

人機界面

5.7英寸觸摸屏

7.1英寸觸摸屏

10.4英寸觸摸屏

MFC

美國進口質(zhì)量流量計（MFC）控制精度達1sccm

工藝氣體流量

0～100sccm

0～200sccm

電磁閥

日本進口、超長時間低溫工作

工作壓強

10-130Pa

不銹鋼氣體管路

內(nèi)外高精度拋光，氣阻小，流量可高達100L/min。

單次處理時間

10-15分鐘

真空泵系統(tǒng)

德國

德國/日本

參數(shù)功能

配方控制，處理時間、射頻功率、氣體流量設定可調(diào)

所需環(huán)境配置

電：AC380V/50Hz 3P，5W RE

15 A

20 A

25 A

供氣管路

0.2至0.6MPa，管徑φ6

環(huán)境

28℃良好換氣通風

濕度

30%～85%

選配功能

腔體及電極

可據(jù)客戶要求設計

電源功率

500-2000w之間選配

質(zhì)量流量計

流量量程及路數(shù)可增減

干泵

可據(jù)客戶要求配置

尾氣處理器

可選配

過濾返油裝置

可選配

油泵低液位報警

可選配

GV10x電鏡等離子清洗器，透射電鏡，掃描電鏡（TEM/STM）專用等離子清洗機

GV10x電鏡等離子清洗器

GV10x 是由ibss Group和一個擁有專利的等離子源的發(fā)明者共同合作開發(fā)并生產(chǎn)的新一代專門清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。GV10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運行，它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳氫污染。它能夠去除掃描電子顯微鏡(SEM)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。不但能夠消除掃描電子顯微鏡圖像中的黑色掃描方框，針對聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳污染同樣能得到很好的控制效果。

GV10x (KF40 version)

GV10x等離子清洗器是應用于真空腔體中的原位清洗機的一個全新典范。憑借精妙的順流工藝，GV10x等離子清洗器比第一代方法更加有效和均勻10到20倍地去除碳和碳氫污染。分子泵也可以安全地運行，而不需要中斷SEM, FIB或TEM系統(tǒng)的軟件控制。

通常GV10x等離子體清洗器使用空氣或氧氣產(chǎn)生氧的自由基來去除碳氫污染。此外，NIST （美國國家標準技術研究所）研究表明，在GV10x等離子體清洗器中運用氫氣去除沉積在多層鏡面和其它襯底以及氧化敏感的樣品上的碳沉積方面是安全和有效的。

GV10x等離子體清洗器可以很容易地在幾個不同的實驗室儀器中搬遷。每個腔的清潔周期不同。與普通的等離子清洗機不同的是: 等離子體清洗工藝(經(jīng)常被稱為遠程等離子處理)并不會產(chǎn)生動力沖擊、濺射損傷或者對樣品加熱。

GV10x等離子體清洗器能迅速地清潔掃描電子顯微鏡腔內(nèi)的樣品，允許快速的假象清除，通常僅需幾分鐘的時間，而不需給電鏡腔體放氣。

ibss Group的Gentle Asher和GV10x及泵的組合拓展了等離子體清洗技術的應用，即將樣品和TEM樣品支撐桿在插入到電鏡前進行預清洗，從而延長了電鏡清洗的周期。

GV10x等離子體清洗器是一個全新的清潔腔體的典型技術。這個工藝具有更大的清潔均勻性，可以更加迅速地清除位于真空腔遠角落表面上的碳污染。這些污染能不斷的吸附和重新污染腔體其它部分。由于較大的功率和壓力選擇范圍，GV10x等離子體清洗器可以被運用到除了SEM腔體之外的清洗，比如清洗同步輻射和紫外光學，臨界尺寸掃描電鏡 (CDSEMs)，檢測性掃描電鏡和X-射線光電子能譜系統(tǒng)，這些系統(tǒng)的大型腔體都需要均勻和快速的清潔。

GV10x等離子清洗器參數(shù)：

功率： 5 ~99 W 連續(xù)可調(diào)等離子功率

壓力： - 2 Torr ~ <5 mTorr (measured at the Source)

壓力（大于50 毫托），清洗氣體的平均自由程很短，在靠近等離子源的區(qū)域去除污染。
壓力（小于50 毫托），清洗氣體的平均自由程比較長，能均勻的碳污染的清除。同時，清洗發(fā)生在分子泵能安全運行的壓力下。

柔和：使用中性氧或氫的自由基通過非動力學過程，灰化氣相的碳氫化合物和表面碳。

Gentle Asher™, GA/GV

ibss group引進電鏡樣品預處理腔，拓展了GV10x的應用，用以清潔送入電子顯微鏡腔前的樣品。連接了GV10x 的預處理腔體, GA/GV, 可以極大地防止黑色掃描方框的生成。

在將電鏡腔清潔到可接受的碳氫污染水平后，可以使用等離子體工藝，通過簡單地將GV10x源移動到預處理腔的腔體中，達到樣品清潔和儲存的目的?？蛻舻膱蟾媛暦Q這種有效的結合以更少的損傷巧妙地去除TEM樣品臺和任何類型樣品的污染，同時保持CDSEM、 SEM、FIB 和TEM中碳氫污染水平的易控制性。預清潔樣品和樣品臺避免了污染電鏡腔體，這樣就延長了電鏡清洗的周期。

該公司產(chǎn)品分類：玻璃碳產(chǎn)品大氣等離子清洗機電磁系統(tǒng) 定制坩堝耗材配件納米壓痕儀（劃痕儀）臺階儀/輪廓儀表面等離子共振儀SPR 電鏡腔體等離子清洗系統(tǒng) 真空等離子表面處理系統(tǒng) TEM硅框架 TEM無膜硅窗口 TEM純硅薄膜窗口 TEM氧化硅窗口 TEM親水性/疏水性氮化硅薄膜窗口 TEM多孔氮化硅薄膜窗口 TEM氮化硅薄膜窗口 X射線用氧化硅薄膜窗口 X射線用氮化硅薄膜窗口 X射線用薄膜窗口

PDC200福建雅馬拓等離子清洗機，廈門進口等離子清洗機廠家，等離子清洗機原理

主要特點：

1、RIE模式標配（DP切換為選購）；2、等離子的均應性高操作簡單的液晶觸摸屏控制面；用途：1、CSB/BGA/COB基板的等離子處理；2、有機膜和金屬氧化膜的除去；3、電路基板的干洗；4、活性處理。

技術參數(shù)：

型號	PDC200	PDC210	PDC510
模式	RIE模式（DP選配）	DP模式	DP/RIE切換方式
電極構造	平行平板電極（固定）
高頻輸出功率	MAX300W	Max 500W
頻率	13.56MHz
控制方式	自動聯(lián)動，液晶觸摸屏控制
反應室尺寸	400×250×150mm		500×300×200
電極尺寸	250×170mm		400×200mm
反應室材質(zhì)	一次性一體成型鋁腔（防腐蝕，可對應CF₄）
反應氣體	2系統(tǒng)（Ar/O₂）
填充氣體	N2/潔凈干燥空氣
反應氣體流量控制	流量計	聚合控制器
真空泵	另行選配	油回旋真空泵（排氣量345L/min）	油回旋真空泵（排氣量500L/min）
氣體導入口	反應氣體2套，填充氣體1套
外型尺寸	540×600×600mm	540×600×600mm	700×700×700mm
電源	單相AC100V 15A 50/60Hz	三相AC100V 15A 50/60Hz

該公司產(chǎn)品分類：儀器耗材行業(yè)專用儀器潔凈室專用檢測儀器薄層色譜制備液相離子色譜液相色譜氣相色譜紫外|可見分光光度計紅外光譜原子熒光光譜原子吸收光譜光譜類儀器色譜類儀器環(huán)保監(jiān)測潔凈廠房工程實驗室氣路|通風工程實驗室家具工程實驗室系統(tǒng)工程色度|濁度|阿貝折射儀

CY-P2L-A成越2L小型臺式等離子清洗機

該小型臺式等離子清洗機由等離子電源、真空系統(tǒng)、供氣氣系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)五部分組成。其工作原理是為：在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進行抽真空達到30-40pa 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)），其顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

等離子處理優(yōu)點：1.環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染。2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。 6. 全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設置和數(shù)據(jù)記錄，進行工藝質(zhì)量控制。7. 處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。小型臺式等離子清洗機主要技術參數(shù):

*產(chǎn)品型號	CY-P2L-A
*供電電源：	AC220V
*工作電流：	整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
*射頻電源功率：	200W
*射頻頻率：	40KHZ（偏移量小于0.2KHz）
*頻率偏移量：	小于0.2KHz
*特性阻抗：	50歐姆，自動匹配
*真空度：	30Pa—100Pa
*氣體流量：	10—100ml/min(可調(diào))
*過程控制：	MCU自動與手動方式

清洗時間：	1-6000秒鐘可調(diào)
功率大小	10%-100%可調(diào)
內(nèi)腔尺寸	100mm×270mm
*外形尺寸：	440390200mm
*重量：	25Kg
*真空泵：	100Pa
*真空室溫度：	小于65°C
*冷卻方式：	強制風冷

該公司產(chǎn)品分類：高溫電爐 CY/成越

PDC-MG等離子清洗機

產(chǎn)品介紹：

PDC-MG 等離子清洗機配備有各種數(shù)字式儀表，能更加精確的記錄各個實驗參數(shù)。該款設備操作更為簡便，只需要一個開關鍵即可對整個清洗過程進行控制。該型號等離子清洗機具備更為高的射頻功率，使得等離子清洗的應用面更為寬廣，除普通的清洗功能外，還具備表面改性、鍵和、淺刻蝕等功能。通過國家輻射環(huán)境管理監(jiān)測站檢驗，符合國家相關產(chǎn)品標準要求。

技術參數(shù)：

整機規(guī)格	500×300×300（長×寬×高）mm
整機重量	35 Kg
清洗艙規(guī)格	Φ165×L210 mm (耐熱玻璃)
清洗艙有效容積	4.5 L
輸入電源	220 V／50 Hz
整機輸入功率	400 W
射頻輸出	0～150 W（連續(xù)可調(diào)）
射頻頻率	13.56 MHz
數(shù)字式定時器范圍	0～99.99 min
極限真空度	1.3×102 Pa
數(shù)字式真空計及量程	1.0×102～9.9×105 Pa
數(shù)字式電流表和數(shù)字式電壓表	方便判斷設備工作中的功率大小
氣體流量計及量程	0.2～1.5 L／min 浮子流量計二支，方便二種不同氣體按比例混合
配件	VRD-8 型單相真空泵、耐熱玻璃托盤一個

PDC-MG 型等離子清洗機配套的VRD-8 型單相真空泵圖片：

微流控芯片|微流控芯片批量加工

（全部圖片以實物為準）

VRD-8 真空泵技術參數(shù)：

產(chǎn)地	中國·浙江
抽氣速度	2.2 L/S
極限真空	5x10-2
水蒸汽容量	360g/h
噪音	56A
工作環(huán)境溫度	10-40℃
電機相數(shù)	單相
電機電壓	220V
電機功率	0.37KW
電機轉速	1440 r/min
重量	16.2kg
用油量	0.5L
真空系統(tǒng)配件	管卡3 個、真空橡皮軟管（直徑12 mm、長度2 m） 1 根、硅橡膠管（直徑6 mm、長度2 m） 1 根、真空泵進氣口轉接頭1 個、生料帶1 卷、改刀1 把、尼龍扎扣3 個

該真空泵為出口型真空泵，其性能遠遠高于其它國產(chǎn)真空泵。

該公司產(chǎn)品分類：微反應器及系統(tǒng) 配件耗材儀器設備微流控芯片

Yamato 等離子清洗機

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PT-2S生物納米材料等離子清洗機大學實驗室等離子清洗機

PT-2S真空等離子清洗機，它是利用能量轉換技術，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行消毒和殺菌。等離子清洗機現(xiàn)已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。

國產(chǎn)等離子清洗機是在國外等離子清洗機價格貴，難以推廣等缺點的基礎上，吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機的優(yōu)點，結合國內(nèi)用戶的使用需求，采用先進科技手段開發(fā)出的新型系列等離子清洗機。該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點外，更具有性能穩(wěn)定、性價比高、清洗效率高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的優(yōu)點。產(chǎn)品能適應不同用戶對設備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇，不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。。

功能：

對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物（如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進行超清洗。

改變某些材料表面的性能。

使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。

清除金屬材料表面的氧化層。

對被清洗物進行消毒、殺菌。

優(yōu)點

具有性能穩(wěn)定、性價比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的特點。

對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和改性。

完全徹底地清除樣品表面的有機污染物。

定時處理、快速處理、清洗效率高。

綠色環(huán)保、不使用化學溶劑、對樣品和環(huán)境無二次污染。

在常溫條件下進行超清洗，對樣品非破壞性處理。

應用領域

光學器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。

清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。

清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

高分子材料表面的修飾。

封裝領域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。

改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強表面粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

牙科領域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理，增強其浸潤性和相容性。

醫(yī)用領域中修復學上移植物和生物材料表面的預處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性。對醫(yī)療器械的消毒和殺菌。

等離子清洗機型號

• PT-2S型是單路氣體輸入，不銹鋼艙體：Φ100mm×270mm

• 容量：2升

*供電電源： AC220V

*工作電流：整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵)

*射頻電源功率： 200W

*射頻頻率： 40KHZ（偏移量小于0.2KHz）

*頻率偏移量：小于0.2KHz

*特性阻抗： 50歐姆，自動匹配

*真空度： 10Pa—1000Pa

*氣體流量： 60—600ml/min(可調(diào))

*過程控制： MCU自動與手動方式

清洗時間： 1-100分鐘可調(diào)

功率大小 10%-100%可調(diào)

*外形尺寸： PT-2S型_400x450x250

*重量： 36.5Kg

*真空泵：

*真空室溫度：小于65°C

*冷卻方式：強制風冷

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-專攻研究院大學工廠等離子清洗裝置

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