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光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家

3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺(tái)秤
3噸打印小票電子地磅 3000kg雙層平臺(tái)秤?廣泛應(yīng)用于倉(cāng)庫(kù)、化工車(chē)間、貨場(chǎng)、藥廠、食品加工廠、水產(chǎn)集貿(mào)市場(chǎng)，工地等場(chǎng)所放貨物稱(chēng)量, 可根據(jù)客戶(hù)要求訂制尺寸可根據(jù)需求定制。產(chǎn)品功能：1.秤臺(tái)由秤體和框
更新時(shí)間:2024-11-21
1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺(tái)秤
1.2*1.5米不銹鋼小地磅 10噸防水電子平臺(tái)秤?想買(mǎi)質(zhì)量好的地磅就買(mǎi)上海漢衡的，為什么要選擇上海漢衡呢？因?yàn)槲覀儫o(wú)論是從工藝還是材質(zhì)方面都優(yōu)于其他廠家，凡是購(gòu)買(mǎi)我司地磅的客戶(hù)，我們的技術(shù)員會(huì)免費(fèi)安
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó) KSI 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)同時(shí)使用8只換能器，能最大限度的確？焖賵D像采集和高效能。
更新時(shí)間:2024-11-21
KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v1000e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，用于研發(fā)和生產(chǎn)部門(mén)檢測(cè)特大件樣品
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó)KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v700e 單探頭超聲波掃描顯微鏡，用于檢測(cè)大件樣品
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó) KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v400e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，是實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)線(xiàn)主流機(jī)型。
更新時(shí)間:2024-11-21
德國(guó) KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v300e 單探頭超聲波掃描顯微鏡，掃描機(jī)械機(jī)構(gòu)
更新時(shí)間:2024-11-21
百及納米PancanNano電子束光刻機(jī)
新一代超高精度電子束光刻機(jī) p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫(xiě)場(chǎng)拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機(jī)。
更新時(shí)間:2024-11-21
OptiCool超精準(zhǔn)全開(kāi)放強(qiáng)磁場(chǎng)低溫光學(xué)研究平臺(tái)
opticool超精準(zhǔn)全開(kāi)放強(qiáng)磁場(chǎng)低溫光學(xué)研究平臺(tái)，系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達(dá)±7t的磁場(chǎng)。多達(dá)7個(gè)側(cè)面窗口、1個(gè)頂部超大窗口方便光線(xiàn)由各個(gè)方向引入樣品腔，高度集成式的設(shè)計(jì)讓您的樣品在擁有低溫磁場(chǎng)的同時(shí)擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時(shí)間:2024-11-21
低溫強(qiáng)磁場(chǎng)原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強(qiáng)磁場(chǎng)原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設(shè)計(jì)。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺(tái)，用戶(hù)僅需要更換掃描頭和對(duì)應(yīng)的光學(xué)部件即可實(shí)現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本JEOL熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴(lài)操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本JEOL發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴(lài)操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本JEOL能譜儀
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過(guò)與sem的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)聯(lián)動(dòng)使用，可以進(jìn)行大范圍的觀察和分析。 eds通過(guò)檢測(cè)被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線(xiàn)，確定樣品含有的元素及成分比，可以進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)分析、線(xiàn)分析及面分析。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機(jī)型。 從設(shè)定視野到生成報(bào)告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無(wú)縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本JEOL 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機(jī)-jsm-7800f prime采用的浸沒(méi)式肖特基電子槍技術(shù)，標(biāo)配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無(wú)論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機(jī)型有了很大的提升。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：10000顆/l （誤差值低于5%）,可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：kc-22b ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器kc-31 ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（6個(gè)通道）,大粒子數(shù)濃度：28000000 顆/l
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kc-32 ( 光散射法）測(cè)試粒徑（6個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kc-20a ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：ka-05( 光散射方式）,多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器,測(cè)試粒徑（2個(gè)通道）：≥0.5μm ， ≥5.0μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RIO液體粒子計(jì)數(shù)器
日本rio液體粒子計(jì)數(shù)器ke-18fx ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（4個(gè)通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法），大粒子數(shù)濃度：10 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（8個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可選 ≥150μm）
更新時(shí)間:2024-11-21
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個(gè)通道，工廠標(biāo)配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-30a ( 光散射法）, 測(cè)純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-30b ( 光散射法）, 測(cè)純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：200 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器：kc-51( 光散射方式）,大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音RION 手持式粒子計(jì)數(shù)器
日本rion 手持式粒子計(jì)數(shù)器：kc-52( 光散射方式）,粒徑范圍：5個(gè)通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音RION 氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：ka-02( 光散射方式）,多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（2個(gè)通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：ka-03( 光散射方式）,多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時(shí)間:2024-11-21
日本理音RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：ka-82( 光散射方式）,多點(diǎn)監(jiān)視用粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子數(shù)濃度：10 000顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2024-11-21
綠光納鉆孔設(shè)備
玻璃去油墨設(shè)備,采用訂制紫外納激光器對(duì)玻璃表面進(jìn)行去油墨以及油墨微加工， 將產(chǎn)品損傷降至低。
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)OAI光刻機(jī)
oai 800型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng), 是半自動(dòng),four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機(jī)。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對(duì)準(zhǔn)精度,旨在大大超過(guò)任何紅外背后對(duì)準(zhǔn)器性能的一個(gè)非常有競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格。通用模型800光刻機(jī)是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實(shí)驗(yàn)室和大學(xué)。
更新時(shí)間:2024-11-21
瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫(xiě)機(jī)機(jī)
瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫(xiě)機(jī)，源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫(xiě)機(jī)第 一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫(xiě)工藝快速化、穩(wěn)定化。
更新時(shí)間:2024-11-21
中國(guó)nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch科研3d打印機(jī)m160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動(dòng)化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時(shí)打印4種樹(shù)脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印，適用于基礎(chǔ)理論驗(yàn)證及原理創(chuàng)新研究，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控，多材料4d打印等方面。
更新時(shí)間:2024-11-21
中國(guó)nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch微納3d打印機(jī) p130/s130 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2024-11-21
中國(guó)nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch 3d打印機(jī)p140/s140 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2024-11-21
理音RION 采樣器統(tǒng)
理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內(nèi)化學(xué)采樣器，當(dāng)腔體壓力過(guò)高的時(shí)候， 可以排凈空氣，防止發(fā)生故障 ，設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單的化學(xué)防爆采樣器，kz-30uk的設(shè)計(jì)是可以為 離線(xiàn)測(cè)試的液體粒子計(jì)數(shù)器提供加壓。
更新時(shí)間:2024-11-21
美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)：nte-4000 獨(dú)立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺(tái)式熱蒸鍍系統(tǒng)，nte-1000 簡(jiǎn)便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-11-21
美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)
美nano-master磁控濺射系統(tǒng)：nsc-4000獨(dú)立式磁控濺射系統(tǒng)，可支持共濺射等能力的擴(kuò)展nsc-3500緊湊型獨(dú)立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質(zhì)材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應(yīng)用。nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺(tái)式濺射系統(tǒng)，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規(guī)的金屬濺射
更新時(shí)間:2024-11-21
NANO-MASTER的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)
nano-master的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜；蹇梢匀菁{8英寸晶圓，可通過(guò)射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓，可通過(guò)熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
更新時(shí)間:2024-11-21
美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000，可通過(guò)樣片掩膜實(shí)現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過(guò)電腦控制單個(gè)電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動(dòng)上下片，以及手動(dòng)或自動(dòng)翻轉(zhuǎn)樣片實(shí)現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射
更新時(shí)間:2024-11-21
美NANO-MASTER IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng)：nie-4000 獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨(dú)立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨(dú)立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺(tái)式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個(gè)靶的dc濺射或rf濺射
更新時(shí)間:2024-11-21
美Nano-master等離子清洗/灰化系統(tǒng)
nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于廣泛的需求，從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過(guò)計(jì)算機(jī)控制，可以配套不同的等離子源，加熱和不加熱的基片夾具，以及獨(dú)一無(wú)二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r
更新時(shí)間:2024-11-21
美Nano-master ALD/PEALD原子層沉積系統(tǒng)
美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨(dú)立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺(tái)式ald系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó)Trion批量生產(chǎn)用設(shè)備去膠系統(tǒng)
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過(guò)全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫(xiě)速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時(shí)間:2024-11-21
英國(guó)Nanobean 電子束光刻機(jī)
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線(xiàn)光源
更新時(shí)間:2024-11-21
美Coherent 準(zhǔn)分子激光器
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線(xiàn)光源
更新時(shí)間:2024-11-21
英國(guó) Durham 無(wú)掩膜光刻機(jī)
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2024-11-21
美國(guó) OAI 光功率計(jì)
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時(shí)間:2024-11-21

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